"Polymer etching"의 검색결과 입니다.

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"Polymer etching" 검색결과 21-40 / 162건

O2/SF6/CH4 플라즈마를 이용한 플렉시블 Polycarbonate와 PMMA의 건식 식각 (Dry Etching of Flexible Polycarbonate and PMMA in O2/SF6/CH4 Discharges)

한국진공학회 주영우, 박연현, 노호섭, 김재권, 이제원

논문 | 7페이지 | 무료 | 등록일 2025.04.26 | 수정일 2025.05.14

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Photoresist processing

을 뿌려 현상 초기에 제거된 부위를 씻어낸 후 정지상태에서 웨이퍼 위에 developer를 표면 장력으로 잡아서 현상하는 방식이다.· etching/strip감광제는 현상을 통해 빛 ... acid가 PEB(Post-Exposure Bake)를 통해 lipophilic polymer에서 hydrophilic polymer으로 전환이 되게 된다. 산에 의해

리포트 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2021.01.18 | 수정일 2023.01.12

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식스 시그마 기법을 활용한 초소형 광픽업용 마이크로미러 어레이의 개발 (Development of Micromirror Array for Miniaturized Optical Pickup by Employing the Six Sigma Methodology)

차세대컨버전스정보서비스학회 이명복, 편양범

논문 | 11페이지 | 무료 | 등록일 2025.07.09 | 수정일 2025.07.11

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Silicon synthesis for anode- 전지 음극 실리콘 합성 논문 리뷰

carbon through different approaches Ordered mesoporous polymer-silica and carbon silicaordered ... mesoporous carbon (omc) Mater. Chem. Front., 1 (2017) 1001 Hard-template based: impregnation and etching w}

리포트 | 18페이지 | 3,000원 | 등록일 2022.01.22 | 수정일 2022.01.26

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[과 수석, 평점 4.5 자료 인증사진 첨부] 점도평균분자량 측정

증류수를 모두 E라인 쪽 으로 떨어지게 한다.④ 손가락으로 막은 E라인 입구를 열면서 동시에 초시계를 작동시키고 마지막 액체가 C 구 밑에 있는 etched line을 통과 ... }^{0.78}}}{bar{M _{V}}} = 507.01(g/mol)adapted from ‘Zainab Raheem, 『Polymer data handbook』,Oxford

리포트 | 16페이지 | 2,000원 | 등록일 2022.05.11

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마이크로 홀 배열 세리아 기능층을 포함하는 고내구 고분자 전해질막 연료전지 (Micro-hole Array Ceria Functional Layer Embedded Membrane for Durable Polymer Electrolyte Membrane Fuel Cell)

한국정밀공학회 설창욱, 장세근, 김상문

논문 | 7페이지 | 무료 | 등록일 2025.03.20 | 수정일 2025.03.28

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[2019최신 공업화학실험] 패터닝 결과보고서

에서는 Lithography 과정으로 패터닝 해놓은 SiO2 웨이퍼를 RIE(Reation Ion Etching)을 사용하여 Etching 및 Ashing을 진행한다. Etching 시료 ... 로는 Ar과 C2F6 을 사용하고, Ashing의 시료로는 O2를 사용한다.실험을 통해 직접 장비를 다루고 측정하면서 반도체 Etching 및 Ashing 과정에 대해 정확히 이해 ... 가 적, 물리적으로 식각할 수 있는 장비이다.우리는 Etching gas로 Ar과 C2F6 기체, Ashing gas로 O2 기체를 사용하였다.RIE 내부를 진공 상태로 만들

리포트 | 15페이지 | 5,000원 | 등록일 2020.01.31 | 수정일 2020.02.10

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[시험자료] 반도체공정및응용 중간고사 정리 (족보)

을 만들때 쓰이는 재료이다.? Polymer, Photoactive compound, Solvent15. PR spin coating시에 두께에 영향을 주는 요인들은 어떤 것이 있 ... 나요?? Sensitivity (민감성)? Viscosity (점착성)? Adhesion (접착력)? Etch Resistance16. PR 코팅 후 soft baking과 hard ... 현미경 (샘플을 통과하는 전자 전류의 진폭이 검출되고, 이미지는 빔이 샘플을 스캔함에 따라 생성)30. Isotropic 과 anisotropic etching의 차이점을 설명

리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2019.10.20 | 수정일 2019.12.02

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패터닝 결과

공업화학실험Patterning and treatment of SiO2 thin filmsExperimental details[사용된 재료] etching gas(Ar, C2F6 ... 는데, 이는 건식식각 과정 중 물리적인 식각 과정에 해당한다.- C2F6 : 플루오린 라디칼을 생성해서 떨어져 나온 SiO2 잔해물을 치우는 역할과, wafer표면에 polymer ... 되었다.[실험 장비]표면 코팅 및 식각 장치 : 오른쪽의 그림은 장치의 chamber 부분을 간단하게 나타낸 것이다. 이 장치는 패턴된 산화막의 etching과 ashing을 통한 PR

리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2019.10.30

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저온 플라즈마 기술, 식품 기술 관련 ppt

Market by Industry (Textile, Electronics Semiconductors, Polymer Plastic, Food Agriculture, Medical ... ), Application (Adhesion, Etching, Wound Healing, Cancer treatment), Regime (Atmospheric, Low

리포트 | 29페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.06.30

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LG,삼성,외국계대기업합격한 어마한 PT자기소개서, 경력기술서 입니다 . 이거 하나면 끝입니다. 잘 참고 하시면됩니다.

) Die) Dry Etch (Oxide, Nitride) Set up  Pressure, GAP, Gas Flow 설정 (2) Sputter (Au, Cu, Cr, Ti, Al ... Develop 조건 설정 (4) Si Wafer Wet Etch 공정 Set up  KOH Powder → KOH 용액 변경 검토 (5) Flip-Chip Bonder Set ... ( 64pin ) 변경  Etching Time(1000sec) 및 PR Edge Bake 정도에 따른 Clamp 붙는 현상 개선 (3) Cleaning Recipe 적용

자기소개서 | 15페이지 | 6,000원 | 등록일 2020.03.22 | 수정일 2023.02.09

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A+, 학과 수석- 점도평균분자량 측정 보고서

는 etched line을 통과하는 시간을 측정한다.Ⅱ. 실험 결과▶PEG농도에 따른 점도값증류수2.5g(4.79g/dl)3.5g(6.59g/dl)4.5g(8.33g/dl)5.5g ... 다.o&prev=search&rurl=translate.google.co.kr&sl=en&sp=nmt4&u=https://en.m.wikipedia.org/wiki/Polymer ... _SYFiAucsLgw4KBpUyWzA" \o "고분자" polymer can be determined from data on the intrinsic viscosity and

리포트 | 17페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.09.13 | 수정일 2020.09.28

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패터닝 결과보고서(학부 실험)

되는 것이 아니라 옆면에도 침식이 생길 수 있는데, C2F6가 고분자로서 polymer barrier를 만들어 이를 방지한다.④ O2 gas : 식각 이후 wafer 표면에 남아 있 ... 도를 높게 하여 주입하게 되면, 식각 과정에서 주 역할을 하는 key 물질이 증가하게 되는 것이므로 etch rate가 증가할 것으로 예상할 수 있다. 본 실험에서 #1 과정은 ... #3 과정과 비교했을 때 Ar 양이 2배이다. 따라서 #1 과정의 etch rate가 #3 과정에 비해 더 큰 값을 가질 것이라고 생각이 가능하다. Ar의 양이 2배가 됐기 때문

리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2018.06.17

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[재료공학]Photolithography and Hall effect

masko-resist의 구성요소- polymer exposure할 때 분자의 구성을 바꾼다.- sensitizer polymer phase의 반응을 제어한다.- casting s ... ample (111222B)에 pattern을 새겼다.그런 다음 etching과정을 통해 필요 없는 부분을 제거하였다. 이 때 PR이 벗겨진 부분을 물 30 과산화수소 1 황산 1 ... 시키는 현상공정으로 구성된다.일반적으로 반도체 소자 제조 공정은 박막 증착(CVD, PVD, Oxidation etc), 공정(Lithography), 식각공정(Etching)을 반복

리포트 | 8페이지 | 3,000원 | 등록일 2018.09.10 | 수정일 2020.08.05

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점도평균분자량 측정 결과레포트 (A+)

E라인 쪽으로 떨어지게 한다.4) 손가락으로 막은 E라인 입구를 열면서 동시에 초시계를 작동시키고 마지막 액체가 C구 미에 있는 etched line을 통과하는 시간을 측정 ... 있다. 만약 Mark-Houwink 상수가 존재하는 Polymer, Solvent, 온도 등의 조건하에서 실험을 진행하였다면 실험값과 문헌값을 계산하여 그 차이를 비교해 볼 수 있 ... parameters and analyzing the breadth of polymer molecular weight distributions, S.R. Tatro, G. R. Baker

리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2019.10.01

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화공계측실험Pre-Report (10)-Photolithography

는 패턴이 나온 상태이다. Developing 전에 post-exposure bake 과정이 진행되기도 하는데 이는 정상파를 감소시키기 위해 진행한다. 네 번째로 식각(Etching ... 이 증가한다. 새로 생성된 자유 라디칼이나 강산은 monomer들을 합성하여 긴 polymer 구조로 바꿔준다. 후자의 경우는 친수성 혹은 소수성으로 만들어 주는데 이 성질을 활용

리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.06.12

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반도체 제조공정 이론 정리

/ R주어 Radical의 반응을 돕는다. 또한 Etch 된 PR이 다른 물질과 결합해 만든 Polymer를 제거해 Etching을 도와 이방성 형태의 식각단면을 가진다.Ion ... 방법이다.H2O2과 표면을 산화시켜 표면 Roughness 를 감소시키고 NH4OH4가 Si표면을 빠른 속도로 Anisotropic Etching 시킨다. SC-1 공정이 유기물 ... Photo Resist란 무엇인가? 주요구성성분, 물리적 특성빛에 반응하는 물질로 polymer(Resin), solvent, sensitizer(Photo Active

시험자료 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2016.06.24 | 수정일 2022.10.17

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저진공 축전결합형 SF6, SF6/O2, SF6/CH4 플라즈마를 이용한 아크릴의 반응성 건식 식각

한국재료학회 박연현, 주영우, 김재권, 노호섭, 이제원

논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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재료공학실험1 - Photolithography에 대한 이해

부분의 공정에서는 Positive PR을 사용하는데, 이는 해상력이 월등히 높아서이다. Negative PR은 빛을 받으면, Crosslink된 Polymer에 의해 접촉력이 강해지 ... 도(Sensitivity), 노광 속도(Exposure speed), 열적 안정성(Thermal Stabilitiy), 접착력(Adhesion), 식각 저항력(Etching Resistance

리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2019.11.14

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PLED소자제작 결과레포트

1. 서론이번 실험에서는 디스플레이의 구현을 위해서는 빠질 수 없는 PLED(Polymer Light Emitting Diode)의 제작을 해보았다. PLED에 대해 간단히 설명 ... 는 PLED(Polymer Light Emitting Diode), 저분자를 사용하는 경우는 OLED라고 한다. 이러한 분류는 단순히 재료의 분류뿐 아니라 제작공정에 있어서 큰 차이 ... 기술-etching식각공정은 궁극적으로 기판 상에 미세회로를 형성하는 과정으로서 현상공정을 통해 형성된 PR pattern과 동일한 metal(혹은 기타 deposition

리포트 | 12페이지 | 1,500원 | 등록일 2016.07.15

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