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"ito patterning" 검색결과 1-20 / 203건

  • [고분자재료실험]ITO patterning 결과레포트
    결과보고서※ 실습과제 #06 : ITO Pattering 공정1. 실험목표OLED/PLED/OTFT/OPV device의 투명전극으로 사용되는 ITO를 원하는 pattern ... 면 patterningITO위에 남아있는 PR을 제거해 주어야 한다.3. 실험내용Spin coater위에 고정시킨 후, PR을 고르게 코팅한 후, soft baking(100℃, 10 ... 을 보호하던 PR을 제거하는 공정.Inspection: optical microscopy로 patterned ITO glass 표면을 분석 및 검사6. 참고문헌문두경, 고분자 재료실험이창훈, 반도체 소소제공, 더인 출판사, 2019, pp.170-174.
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2022.01.21
  • ITO Patterning 예비
    실험 목표? OLED/PLED/OTFT/OPV device의 투명전극으로 사용되는 ITO를 원하는 pattern으로 식각하는 법을 습득한다.?Photo lithography ... 한 모든 식각 공정을 포괄적으로 의미한다. 유기전자 디바이스의 Patterning 공정에서는 wet etching 방식을 사용한다. ITO 박막의 대표적인 etchant로서는HCl ... + Fe2Cl3 + H2O = 2 : 1 : 1HCl + HNO3 + H2O = 1 : 0.08 : 1가 있다.ITO가 etching되고 나면 patterningITO위에 남아있
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2019.12.16
  • 7. ITO patterning(예비)
    ITO patterning(예비 레포트)과 목 :고분자 재료실험교 수 명 :조 교 :실 험 일 :제 출 일 :조(&조원):학 번 :성 명 :1.실험제목 ? ITO ... patterning(실험날짜:)2.실험조 및 실험자 - 조 :13신소재공학과3.실험목적? OLED/PLED/OTFT/OPV device의 투명전극으로 사용되는 ITO를 원하는 pattern ... 을 제거해주는 설비.* Station : 세척설비. 매 공정후에는 항상 웨이퍼를 세척해주어야 한다.* 패턴공정◑ITO Patterning위와 같은 패터닝 공정으로, 위에서의 반도체
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 21페이지 | 2,500원 | 등록일 2016.04.06 | 수정일 2016.04.11
  • ITO patterning 공정 예비
    1. 실험제목 : ITO patterning 공정2. 실험목적 :?OLED 소자의 투명전극으로 사용되는 ITO를 원하는 모양으로 식각하는 법을 습득 ... . 따라서 ITO patterning전 전처리 공정을 통하여 표면을 개질시켜 주어야 한다.이 과정이 끝나면 Photoresist(PR)를 roll coater 또는 spin coater ... 가 있다.ITO가 etching 되고 나면 patterningITO위에 남아있는 PR을 제거해 주어야한다. 이 과정을 stripping이라 하며 stripping은 그 방법
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.09.15
  • ITO기판의 patterning 공정 결과
    mask: positive PR공정에 맞게 디자인된 ITO pattern문양이 크롬으로 검게 도금이 되어 있는 유리판. 크롬 도금이 된 검은 부분으로는 UV가 통과하지 못하므로 노광 ... . 워싱, 질소건 건조3. CheckPR striping까지의 공정이 끝나고 나면 glass에는 patternITO만 남게 된다. 테스터로 다음의 세 가지 검사를 해야 한다 ... .. patternITO면 소리가 난다가. ITO면과 ITO가 씻겨 나간 면 소리가 안 난다나. ITO가 씻겨 나간 면 소리가 안난다다. 위의 검사에서 소리가 난다면 Etching
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.09.15
  • [고분자재료실험] 6. ITO Patterning - 예비
    예비레포트고분자 재료 실험 6주차6주차 : ITO Patterning소 속 :2014년 11월 18일 제출학 번 :제 출 자 :조 번 호 :실 험 자 :실 험 일 :1. 실험제목 ... /실험날짜 : 6. ITO Patterning / 2014년 11월 21일2. 실험조 및 실험자 :3. 실험목적 :? OLED/PLED/OTFT/OPV device의 투명전극 ... 으로 사용되는 ITO를 원하는 pattern으로 식각하는 법을 습득한다.?Photo lithography에 사용하는 각 공정의 원리와 공정 시 주의점을 습득한다.4. 실험이론 및 배경
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2014.12.26
  • [OLED, LED] Photolithography를 이용한 ITO Pattern 제작
    Photolithography를 이용한 ITO Pattern 제작1. 실험목적Photolithography의 원리 및 공정과정에 대해 이해한다. 이를 바탕으로 직접 ITO를 이용 ... 하여 Pattern을 제작해보고 평가해본다.2. 실험기구 및 재료준비MoW(몰리텅스텐)이 증착된 Glass, OHP 필름, Aligner, Spin Coater, IPA ... 공정 비교- Lift off 고정Lift-off공정이란 반도체 공정중 Etching(식각) 공정중에 일반적인 etching을 사용하지 않고 패터닝(patterning)하는 경우
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.12.19
  • [고분자재료실험] ITO scribing & cleaning 결과레포트 (만점)
    [고분자재료실험 결과레포트]5. ITO scribing & cleaning일자: 2021.ITO Scribing & cleaning1. 실험목적-OLED/PLED/OPV ... device의 투명전극으로 사용되는 ITO glass를 원하는 크기로 자르는 방법을 습득한다.-원하는 모양으로 자른 ITO glass의 오염된 표면을 세정하여 소자의 성능 및 수율을 향상 ... 처리 공정으로 세정 된다. ITO의 Coating이 표면 균일도나 유기층과의 접촉특성이 소자의 발광 특성에 커다란 영향을 미치게 된다.ITO 유리기판에 묻어있는 유분
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2022.01.21
  • ITOscribingcleaning A+ 레포트 건국대학교 고분자재료과학
    ITO Scribing & cleaning과목명고분자재료실험담당교수담당조교학과학번이름공동실험자제출일자1. 실험제목 : ITO Scribing & Cleaning2. 실험조 ... & 실험자 :3. 실험목적?OLED/PLED/OPV device의 투명전극으로 사용되는 ITO glass를 원하는 크기로 자르는 방법을 습득한다.?원하는 모양으로 자른 ITO glass ... 의 오염된 표면을 세정하여 소자의 성능 및 수율을 향상시킨다.4. 실험이론Pattern 공정을 하기 위해서는 주변의 청정도가 매우 중요한데, 아래 그림에서 보는 것과 같이
    리포트 | 16페이지 | 2,000원 | 등록일 2023.06.03
  • [고분자재료]ITO scribing & cleaning-예비레포트(만점)
    로 자르는 방법을 습득한다.원하는 모양으로 자른 ITO glass의 오염된 표면을 세정하여 소자의 성능 및 수율을 향상시킨다.2. 원 리Pattern 공정을 하기 위해서는 주변 ... 예비보고서※ 실습과제 #05 : ITO Scribing & Cleaning1. 실험목표OLED/PLED/OPV device의 투명전극으로 사용되는 ITO glass를 원하는 크기 ... 세정 용액을 혼합하여 일괄 처리 공정으로 세정된다.ITO의 Coating이 표면 균일도나 유기층과의 접촉특성이 소자의 발광 특성에 커다란 영향을 미치게 된다. 따라서 광 투과 정도
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 12페이지 | 1,500원 | 등록일 2022.01.21
  • 판매자 표지 자료 표지
    재료공학실험(세라믹) 박막 증착된 웨이퍼들의 XRD 분석
    의 원자 면이 나타난다. 입사 X선의 각도를 연속적으로 변화시키면서 회절 X선의 강도를 기록하면 강도가 다른 복수의 회절 peak로부터형식(pattern)을 얻을 수 있다. 결정 ... 성 물질 원자와 나란한 방향, 즉 결정구조는 물질에 따라 상이하여 회절 형식(pattern)은 물질에 고유한 값으로 된다.실험 장치의 설명1) Generater : X선을 발생 ... . 실험시작 및 분석실험 결과Glass with CrSi with CrSiO2 with CrGlass with ITOSi with ITOSiO2 with ITO실험 결과에 대한 고찰1
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2022.09.08
  • 판매자 표지 자료 표지
    1-1. AMOLED Full Device - Polymer report (A+)
    Recipe ? ITO/PEDOT/PFO/LIF/ALPEDOT : PSS PFOPEDOT:PSS는 poly styrene sulfonate를 전하균형을 맞춰주는 template으로 사용 ... treatment를 하는 이유는 ITO가 일함수가 0에 위치하는데 Hole이 이동하려면 사이에 Band Gap차가 적을수록 hole이 주입하기 쉽다 ITO를 UVO treatment를 안하 ... 의 증기압력, 스피닝 속도 , 스피닝 시간 등에 크게 의존한다. 스핀코팅의 경우 일반적으로 박막의 균일성은 우수하지만 결정성이 낮은 단점이 있다.실험 방법1. ITO전극
    리포트 | 15페이지 | 10,000원 | 등록일 2023.07.30
  • 판매자 표지 자료 표지
    1-3 AMOLED Full Device - Small Molecule report (A+)
    다.◆ 실험방법1.ITO전극을 Patterning한다.2.sonication을 사용하여 glass 기판을 cleaning한다3.UVO exposure을 사용하여 uv 를 조사4 ... 에 PEDOT:PSS 물질을 스포이드를 사용하여 기판의 중심부터 patterning된곳 에 떨어뜨려 준후에 30초동안 3500rpm으로 코팅을 진행 시켜 준다. 이때 500rpm ... 로 10분정도 가 열을 해준다. 면봉으로 알코올을 묻혀 닦는 이유는 전극을 닦아주지 않게 된다면 ITO를 거 치지 않고 바로 hole이 주입이 되어서 EL소자 구동의 어려움을 겪을 수
    리포트 | 9페이지 | 10,000원 | 등록일 2023.07.30
  • 판매자 표지 자료 표지
    2-2. AMOLED Full Device - Polymer report (A+)
    이 생길 수 있다. 하지만 기판에 코팅하는 형태로 고해상도와 대면적 구현에서 저분자 대비 우수하다.4. 실험 방법① ITO전극을 Patterning한다.② 기판을 Sonication ... 가 가득 찬 최고의 level(Fermi-level)과 외부의 전위와의 차PHI을 말한다. ITO의 Work Function을 낮춰주기 위해 UV 처리를 한다.UV를 조사하면 일함수 ... 가 낮아지게 된다. 그로 인해 ITO전극으로부터 hole을 주입하기 용이해진다. 또한 UV만 조사하기 때문에 기판에는 damage는 가지 않는 장점이 있다.Surface
    리포트 | 10페이지 | 10,000원 | 등록일 2023.07.30 | 수정일 2023.08.18
  • [고분자재료실험]OLED소자제작-에비레포트
    에 얇은 박막, patterning 가능 등 여러 기능을 가지고 있는 ITO glass를 이용한다.PEDOT:PSS(poly(3,4-ethylenedioxythiophene ... 증착용 metal maskpatterning이 끝난 ITO 기판은 그 다음 고분자 박막이 형성된 후 전극막이 형성된다. 전극막이 형성되는 과정에서, 이미 처리가 끝난 pattern ... 한 성막조건의 선정에 주의해야 한다.실험에 사용된 금속 증착용 metal mask전극물질일함수(eV)Au5.2ITO4.8IZO5Se4.72Pt5.7Cr4.51Ni5.2Cu4.65
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 29페이지 | 1,000원 | 등록일 2022.01.21
  • 12주차 LTPS, a-Si LCD 패널 분해(정보디스플레이학과 AMD실험 보고서)
    영역에서 사용하는 장비이므로, 300~700nm 파장 영역에서의 투과율에 주목하도록 한다.단차측정기(Alpha-step)Lithography Pattern과 같이 미세한 물질간 ... 라고 가정하고 TFT의 개구율을 다시 계산하면 35.1%이다. 실제 측정한 TFT의 Transmittance는 40%대로 유리, Gate insulator, ITO 등으로 인해서 실제 ... Transmittance가 개구율보다 떨어질 것이라는 사실을 TN 패널을 통하여 알았기 때문에, Pixel electrode가 공통 전극(ITO)와 마찬가지로 투명 전극을 사용
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 18페이지 | 1,000원 | 등록일 2021.02.19 | 수정일 2021.03.20
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2025년 10월 19일 일요일
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