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"Polymer etching" 검색결과 41-60 / 162건

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    [섬유공학실험]유기 태양전지의 제작 및 측정
    하고 있ansfer between semi conducting polymers (electron donor) and C60 (electron acceptor)두 번째 단계는 태양빛 ... , 15㎎ PCBM, 3㎖ Dichlorobenzene, PEDOT:PSS, Toluene, Mucasol, Acetone2) 2-propanol, Etching Solution4
    리포트 | 9페이지 | 3,200원 | 등록일 2020.09.13
  • PDLC(polymer dispersed liquid crystal, 고분자 분산형 액정) 실험 결과레포트
    1. 실험 목적(1) PDLC(Polymer Dispersed Liquid Crystal)의 원리를 이해한다.(2) AutoCAD를 통해 마스크 패터닝을 한다.(3 ... ) Photolithography 공정 과정을 파악한다.2. 실험 원리(1) PDLC(Polymer Dispersed Liquid Crystal)의 원리를 이해한다.PDLC란, 고분자 분산 ... 형 액정(polymer dispersed liquid crystal)을 말한다. 쉽게 말해서 고분자와 액정으로 이루어져 있다. PDLC는 전압을 가하면 투명해지고, 전압을 가하지 않
    리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2016.10.22 | 수정일 2017.10.16
  • 다층 RIE Electrode를 이용한 아크릴의 O2/N2 플라즈마 건식 식각
    한국재료학회 김재권, 김주형, 박연현, 주영우, 백인규, 조관식, 송한정, 이제원
    논문 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05
  • ITO glass를 이용한 OLEDPLED 제작 공정 결과
    -Emitting Diode)와 PLED(Polymer Light-Emitting Diode)는 둘 다 유기 발광 다이오드라고도 부르는 발광 다이오드(LED)의 일종이며, 유기물 ... 을 20~30분 담가놈으로서 제거한다.etching은 회로 패턴을 제외한 나머지 부분을 제거하는 과정으로, (염산 + 염화철 + di water) 혼합물에 6분정도 담가놓
    리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2019.12.16
  • 반도체 제조 공정 (P-N Junction) 반도체 공학
    (Selective etching)- PR 제거 및 Oxide Layer 제거 3 3-2 선택적 식각 (Selective etching) - polymer( 노광 된 PR Layer ... Layer 와 화학작용으로 Polymer 되어 굳는다 . ※ Polymer 는 부식제에 제거되지않는다 . UV반도체 제작 공정 3-1 선택적 식각 (Selective etching) ... 된 표면 (B) Baking 되 지 않아 손상된 표면반도체 제작 공정 3-2 선택적 식각 (Selective etching) - polymer( 노광 된 PR Layer) 제거 P
    리포트 | 15페이지 | 2,500원 | 등록일 2013.11.18 | 수정일 2013.11.21
  • pva 나노섬유막의 소수화 가공
    섬유는 머리카락의 5백분의 1정도인 초극세사섬유이기 때문에 Polymer membrane으로 사용했을 때, 효율적으로 사용할 수 있다.정수기의 필터나 혹은 배터리 분리막으로 사용 ... 으로 플라즈마의 종류를 구분하는 것이 보통이다.2) 저온 플라즈마-플라즈마의 종류에는 저온 플라즈마와 열 플라즈마가 있다. 그중에서 이번실험에는 저온 플라즈마의 Dry etching
    리포트 | 12페이지 | 4,000원 | 등록일 2019.09.19 | 수정일 2019.10.12
  • 건식식각공정
    다.DRY ETCH는 GAS를 이용하고, 이방성 식각 특성을 가지며, PROFILE(모양)조절이 쉽다.하부 막질에 대한 DAMAGE가 발생하며, POLYMER 찌꺼기등이 발생 ... 지만 Polymer를 많이 발생시키는 단점도 가지고 있다. 그래서 Poly Etch후 생기는 Polymer는 적절한 추가 공정으로 제거해야 한다.Oxide Etch : Gate 소자 형성시 사용 ... 건식 식각(Dry Etch)식각하고자 하는 막질의 종류에 따라 Gas를 사용하여 플라즈마 반응을 발생시켜 식각하는 것을 말한다.예로 산화막(Oxide)일 경우 주로 탄소-불소(C
    리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.05.21
  • [발광디스플레이실험] Photolithography
    발광디스플레이 실험 Photolithography실험 목적 : Photolithography 공법에 대해 익히고, Photolithography시 etching time과 PR ... · 부분이 노광 되었을 때 노광된 부분의 polymer 사슬이 끊어지거나 혹은 더 강하게 결합하는 것을 의미한다. 일반적으로 노광된 부분의 polymer 결합사슬이 끊어지는 PR ... series와 같은 negative PR은 아세톤이나 특정 solvent를 사용한다. 현상이 끝나면 현상과정에서 풀어진 polymer 조직을 단단하게 만들기 위해 baking
    리포트 | 8페이지 | 10,000원 | 등록일 2013.06.14
  • Dental and Maxillofacial Surgery
    20세기 : gutta percha, 시멘트, 금속변형 시멘트, 비충전 합성수지, 콤포짓트, 금속(금박, 아말감, 다양한 합금), 세라믹 Polymer 재료의 역사 1848 ... 과 비슷 결손 또는 손상된 조직의 치유 및 재생을 유도최근 사용되고 있는 치과용재료 Metal alloys Ceramics Synthetic organic polymers ... materials에서 organic, ceramic material로 … Metal alloy가 chemically unstable in oral environment(etching
    리포트 | 29페이지 | 3,000원 | 등록일 2014.06.04
  • [LCD실험] TFT-LCD 분석
    (photosensitive polymer)이다. 이때 반응이라 함은 PR의 일정 부분이 노광 되었을 때 노광된 부분의 polymer 사슬이 끊어지거나 혹은 더 강하게 결합하는 것을 의미한다. 일반 ... 적으로 노광된 부분의 polymer 결합사슬이 끊어지는 PR을 positive PR이라 하며 그 반대의 경우를 negative PR이라 한다.2) Soft Bake(소프트 베이크)3 ... bake(하드 베이크)4. 도금(Plating)1) 전해 도금 2) 무전해 도금5. 식각(Etching)식각공정은 궁극적으로 기판 상에 미세회로를 형성하는 과정으로서 현상공정을 통해
    리포트 | 6페이지 | 10,000원 | 등록일 2013.06.14
  • ITO(식각)
    (Photosensitive polymer)이다. 이때 반응이라 함은 PR의 일정 부분이 노광 되었을 때 노광된 부분의 Polymer 사슬이 끊어지거나 혹은 더 강하게 결합하는 것을 의미 ... 한다. 일반적으로 노광된 부분의 Polymer 결합 사슬이 끊어지는 PR을 Positive PR이라하며, 그 반대의 경우를 Negative PR이라 한다. 또한 그 형태에 있 ... 를 사용한다. 현상이 끝나면 현상과정에서 풀어진 polymer 조직을 단단하게 만들기 위해 baking(hard baking)을 한다. baking 공정은 photo
    리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.12.09
  • [고분자재료실험] PLED소자 제작(논문)
    PLED의 제작 과정 및 발광 원리1. 서론PLED(Polymer organic Light Emitting Diode)는 발광 다이오드(LED)에 반도체 물질과 같이 폴리머 ... 성을 띄 PR을 제거하기 위하여 Stripper에 Dipping하여 제거- Etching을 마친 ITO Glass를 DI water로 세척한 후 N2-gun을 이용하여 건조한다. 역할 ... 1Etching 1measurement 1measurement 2measurement 3라. Solution Process를 이용한 적층- Sloution Process는 각 층
    리포트 | 16페이지 | 1,000원 | 등록일 2014.12.26 | 수정일 2015.03.26
  • thin file공정
    를 형성하는 일련의 과정을 말한다.Thin film deposition이라 함은 증착하고자 하는 물질(metal, dielectric, insulator, polymer 등)을 수십 ... (etching) 공정시 wafer 표면과 감광제 사이에 놓여 있는 박막층을 식각으로부터 보호해 주는 역할을 한다.사진공정은 크게 광 노광기술(optical lithography)과 방사 ... 으면(노광:photo exposure) 반응을 하는 일종의 감광 고분자 화합물(photosensitive polymer)이다. 이때 반응이라 함은 PR의 일정 부분이 노광 되
    리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.12.04
  • PLED 소자제작 (논문)
    , 분자쇄절단 등이 일어나 용해성이 증가되는 종류로 Negative와는 달리 팽윤현상이 적으며 내 Etching성도 뛰어나고 특히 해상력이 탁월하여 Negative PR보다 더 높 ... ) 전처리 된 ITO Glass를 glove 박스로 이송한다. PEDOT:PSS는 0.5㎛ PTFE 실린지 필터를 이용하여 filtering하고, polymer는 c ... 된 시료를 균일하게 할수 있어 도포시 유리하다. 글러브 박스 이동시 안티챔버를 이용 안의 기체 분위기와 비슷하게 맞춘 뒤 넣어준다.2)PEDOT:PSS는 4000rpm, polymer
    리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2016.06.27
  • [LCD실험] Color filter 제작 및 분석
    exposure) 반응을 하는 일종의 감광 고분자 화합물(photosensitive polymer)이다. 그러므로 이 물질은 빛을 받아 그 물성이 변하게 되는데 이렇게 변화 ... 시키는 것이 노광이다. 빛을 받게된 PR은 반응하게 되는데 노광된 부분의 polymer 사슬이 끊어지거나 혹은 더 강하게 결합하게 된다. 일반적으로 노광된 부분의 polymer 결합사슬 ... 하지만 SU series와 같은 negative PR은 아세톤이나 특정 solvent를 사용한다.⑹ 식각 (etching)식각공정은 궁극적으로 기판 상에 미세회로를 형성하는 과정
    리포트 | 9페이지 | 10,000원 | 등록일 2013.06.14
  • 메모리 반도체 제작 과정 및 이론 설명 ppt
    Slicing Edge Profiling Lapping Laser Marking Etching Heat Treatment Polishing Inspection Packing 실리콘 원석 ... Preparation Stepper Exposure Acid Etch Photoresist Coating Develop BakeMask 웨이퍼 표면 웨이퍼의 한 쪽면을 연마 ... resist ○ high molecular weight polymer(MW~65,000) ○ UV 광이 감응제 (additive) 에 흡수되면 N-N 결합이 깨어지고 대단히 활성인
    리포트 | 72페이지 | 10,000원 | 등록일 2013.04.22 | 수정일 2023.04.24
  • MOSFET/Capacitor/반도체 신소재실험보고서
    도부분이 식각되는 것을 negative resist라고 한다.* Etching- 반도체 제작공정에서 Photoresist에 피복되어 있지 않은 산화막을 제거하는 공정이 ... 다. Etching에는 Dry Etching과 Wet Etching 두 종류가 있다.Wet Etching은 물질 표면의 선택 된 부분에 원하는 패턴을 만들기 위해 화학용액을 사용 ... 하여 etching하는 방법이다. 이 방법은 비용이 적게 들고 선택성이 좋지만 resist를 언더컷 하기 쉽다. Dry Etching은 플라즈마를 이용하여 etching하는 방법 이다. 이
    리포트 | 23페이지 | 2,500원 | 등록일 2013.12.03 | 수정일 2013.12.05
  • photolithography 공정 및 metal contact 조사
    공정 - vapor deposition금속층 형성 공정 - Metalization식각 공정 - Etching이 단위 공정을 정해진 순서에 맞추어서 차례로 진행해야만 원하는 회로 ... -resist의 구성요소-polymer : exposure할 때 분자의 구성을 바꾼다.-sensitizer : polymer phase의 반응을 제어한다.-casting solvent ... 하고자 하는 막을 etching할 때에는, 보통 감광제를 녹이지 않으면서 해당하는 막을 녹이는 화학적인 방법을 사용하거나 기체의 이온 등을 이용하여 감광제와 해당하는 막을 동시
    리포트 | 13페이지 | 4,000원 | 등록일 2015.06.12
  • (연세대 생화학실험) gel filtration chromatography
    produed by cross linking of the polymer. W/ inorganic materials the pores are produced by an etching
    리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2016.11.08 | 수정일 2016.11.22
  • TCO
    - IZO3.3 Oxide-Metal-Oxide 구조3.4 Transparent Conducting Polymer 물질3.5 Ag nanowire3.6 CNT, Graphene3 ... 성 확보를 위한 노력들이 필요하다.2.2.2 ITO EtchingITO를 Etching하는 기존 방법에는 Photo-lithography, Etching Resist, Etching ... Paste3가지 방식으로 나눠진다. 기존에 TSP 공정에서는 Etching Resist방식을 사용하였지만최근 고가의 장비가 필요하지만, 미세공정이 가능한 Photo방식이 쓰이고 있
    리포트 | 41페이지 | 6,000원 | 등록일 2013.07.14
  • EasyAI 무료체험
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2025년 10월 08일 수요일
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2:36 오전
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- 작별인사 독후감