"스퍼터링 증착"의 검색결과 입니다.

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스퍼터링 기상반응법 sputtering dc/rf magnetron rf sputtering evaporator CVD 도금 스퍼터 반도체 공정

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"스퍼터링 증착" 검색결과 341-360 / 637건

판매자 표지

박막형 태양전지의 성장성 (태양전지의 기술, 차세대 친환경 에너지)

"Dip-Coating") 으로 입히고 투명전극 층인 ZnO를 스퍼터링법으로 증착한 후 금속전극을 입힌다. 이미 4ft2 모듈(module)에서 11%의 효율이 기록된 바 있 ... ) 으로 코팅된 유리기판 위에 p-type 반도체인 CIS층을 증착하고 그 위에 n-type CdS를 주로 화학적 용액성장법 (chemical bath deposition, CBD 또는 ... 으며 실험실에서는 17%를 상회하는 효율이 재현성 있게 기록되고 있다. CIS층은 진공증착 또는 금속막을 증착한 후 selenization공정을 거치는 2단계 방법 등으로 만들어진다

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| 리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.02.18

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증착기를 이용한 반도체 공정

는 PDP에서 금속 전극 및 유전체 증착과 도금 분야에 많이 쓰입니다.1. PVD (Physical Vapor Deposition)PVD증착법은 크게 스퍼터링(Sputtering ... )과 증발(Evaporation)으로 나눌 수 있습니다. 증발은 증착할 물질을 기화하는데 있어서 열에너지를 이용하는 방법인 반면, 스퍼터링은 플라즈마를 형성한 다른 기체의 운동에너지 ... 재료 공학 실험증착기를 이용한반도체 공정에 대하여...◎ 증착기를 이용한 반도체 공정Ⅰ. 증착- 금속 또는 비금속의 작은 조각을 진공 속에서 가열하여 그 증기를 물체면에 부착

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| 리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.09.21

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Development of high-efficiency flexible Cu(In,Ga)Se2 solar cells 해석

Matsubara, Paul Fons, Keiichiro Sakurai, Shigeru Nikideposition 증착 flexible zirconia sheet substrates ... 된 알칼리는 다음을 증명했다. 알칼리 규산염의 얇은 유리층(ASTL)이 Mo 접촉 층의 스퍼터링 전에 기질에 있었다.ASTL의 사용과 향상된 전지 효율성은 CIGS에 In/Ga 혼합물

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| 리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.05.26

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각종 진공 펌프 원리 사용방법 sputter

으로 가속되는데 이 충돌은 스퍼터링을 일으키거나 티타늄 음극 물질을 조각내어 떨어지게 한다. 스퍼터링된 티타늄은 펌프의 내부구조에 증착되는데 거기에서 기체분자와 화학 결합을 하여 기체 ... 여 45~50?일 때의 입사 이온 각에서 최대 효율이 나타난다. 떨어져 나간 물질들은 보통 3~10eV의 운동 energy를 갖고 있어 진공증착보다 더 좋은 기판 부착력을 보여준다

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| 리포트 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.06.03

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FPD장치조사 - PDP 와 FED 의 비교 분석

은 유전층 형성으로 AC PDP의 주요 특징중의 하나인 메모리 특성이 나타난다. 유전층 위에는 유전층을 이온의 스퍼터링으로부터 보호하여 주며, 방전시 낮은 에너지의 이온이 표면 ... 에 부딪혔을 때 비교적 높은 이차전자 발생계수의 특성을 가져 방전 플라스마의 구동 및 유지전압을 낮추어주는 MgO 보호막을 증착한다. 하판의 경우 방전셀을 선택할 수 있는 역할을 하 ... 적으로Condenser 역할.전면인쇄 -> 건조 -> 소성 www.displaybank.com격벽형성1. Lift Off 법 : PR coating -> 노광 -> 현상 -> SnO2 증착법(화학

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| 리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.10.14

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sputtering

탈출이 발생하게 되는 현상을 물리학에서 'Sputtering'이라고 말한다. 박막 증착에서 Sputtering이라 하면 Target원자의 방출과 그 원자의 substrate에 부착이 ... 라는 2가지 과정을 포함하는 개념으로 볼 수 있다. Sputtering process의 가장 우수한 특성은 증착된 물질의 가상으로의 이동이 chemical, thermal ... 을 이용하여 wafer 표면에 금속막, 절연막 등을 형성하게 된다. 박막 증착은 특히 반도체 산업에서 핵심적인 분야인데 그동안 이온 빔(ion-beam), 전자 빔(electron

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| 리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.03.24

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ITO

은 Ni 층을 사용할 수 있는 가능성을 확인했다. 니켈 금속 박막층은 스퍼터링 기술로 증착되었고 다른 증착 시간에 따른 전기적 성질과 광학적 성질이 조사하였다. 입방 저항과 투과도 ... 압된 Target을 Sputtering을 통하여 평판 유리 위에 증착하는 공정을 거치는데, 이중 In2O3의 분체 가격이 kg당 $700 이상으로 매우 고가이며 원료 수급의 불안정 ... plating은 은 박막의 성질을 향상시키기 위하여 glow discharge를 이용하는 물리증착과정의 총칭이라 할 수 있다. 즉 증착전이나 증착과정 중에 고에너지의 이온으로 형성

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| 리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.11.05

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전기도금과 무전해도금

을 경화 또는 기타의 방법으로 물리적 성질을 향상 시키는 방법표면처리 기술의 분류 이용분류표면처리기술박막형태전기도금무 전해도금용융도금진공증착(PVD) 진공증착(스퍼터링, 이온플레팅 등 ... 을 방지 시키고 금속 표면의 색조와 광택을 좋게 할 목적으로 여러 가지로 금속 또는 고분자 표면 위에 박막형태의 물질을 증착 시키거나 금속 산화물을 형성 시킴으로써 금속표면의 물 ... )기상도금도장전착도장표면가공양극산화(주로 알리미늄)화성처리식각법습식에칭건식에칭(스퍼터링)전해연마표면처리 과정탈지공정수세제청작업화성피막처리공정전기도금의 원리도금하고자 하는 금속을 음극

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| 리포트 | 25페이지 | 3,500원 | 등록일 2010.06.20

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SEM 이미지 생성원리 & OM과 SEM 이미지 생성 차이

를 정량 분석할 때 많이 사용된다. 비전도체 시료 표면에 대한 금속코팅에는 코팅의 형상이나 목적에 따라 다음과 같이 여러 가지 방법이 사용되고 있다.①이온 스퍼터링 (저진공~수Pa)시료 ... 한 시료 표면에 부착된다. 코팅층의 두께는 이온전류와 스퍼터링 시간에 비례한다.②마그네트론 스퍼터링(저진공~수pa)이 장치에서는 음극과 양극이 동축으로(coaxially) 배열 ... 하기 위해 사용되는 금속조각들은 텅스텐 철사나 텅스텐 바구니에 넣고 텅스텐이 전기적 전류에 의하여 가열되면 시료 표면에 증착하게 된다. 일반적으로 시료의 표면에 균일한 두께의 필름

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| 리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.04.25

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[반도체재료] 박막증착

로 코팅층의 접착성이 우수하다.1. 작업 원리 및 과정이온 스퍼터링은 초기에는 진공증착과 동일한 10-5∼10-7 torr 정도의 진공도를 유지하나 플라즈마를 일으킬 수 있 ... 으며, 각 방식들은 서로 특징 상 큰 차이점을 나타내고 있다. 따라서, 증착되는 박막의 특성과 용도 등에 맞는 최적의 박막제작법을 선택하는 것이 중요하다. 그림 에 각종 박막제작법 ... 을 나타내었다. 박막을 증착시키는 방법으로 크게 물리적인 방법(PVD, Physical Vapor Deposition)과 화학적인 방법(CVD, Chemical Vapor

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| 리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2002.05.10

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때려내기에 의한 박막증착

때려내기에 의한 박막 증착이번 실험에서 우리는 다음과 같은 조건에서 구리의 박막을 증착시켰다.TargetCopperSubstrate (name-orientation ... 한다. 그 결과, 음극 표면의 원자가 튀어 나오는데, 이 현상을 sputtering 이라고 부른다. sputtering 된 원자를 기판에 증착시킴으로써, 박막을 형성할 수 있는데 이러 ... 한 성막 방법은 반도체, 전자 부품 등에 넓게 이용되고 있는 기술이다. 우리는 박막을 증착시키기 위하여 이러한 sputtering 증착법을 사용하였다.인가하는 전원의 종류에 따라

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| 리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.01.31

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Sputtering 방법을 통해 증착한 Cu-Ti 박막의 후 열처리 온도에 따른 Cu-Silicide 형성과 비저항의 미치는 영향과 특성 평가 실험

Sputtering 방법을 통해 증착한 Cu/Ti 박막의후 열처리 온도에 따른 Cu-Silicide 형성과비저항의 미치는 영향과 특성 평가 실험1. 실험 목표- Silicide ... ? 거의 모든 원소를 sputtering 할 수 있으며 합금이나 화합물도 조성을 유지하면서 증착이 가능? 고용되지 않는 원소도 증착 가능? 증착 시 증착물의 조성을 바꿀 수 있 ... 다.? 산화물의 증착이 가능하다.? 증착막 두께의 균일성? 큰 면적의 타겟 이용 가능? 열적증발(Thermal evaporation)이 없다.? 아크 증착(Arc deposition)시

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| 리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.06.25

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[박막공학]반응성스퍼터링의 원리

스퍼터링고에너지의 입자를 원하는 박막과 동질인 물질로 이루어진 기판에 충돌시켜 그곳으로부터 원자와 분자가 떨어져 나와 박막을 만드는 방법을 말한다.(에너지가 수백 eV ～ 수십 ... keV 인 이온이 타겟에 입사되면 이온과 타겟 원자의 충돌에 의해서 타겟 표면에서 방출되는 방향의 운동량 성분을 가진 타겟 원자가 나타나 타겟에서 탈출한다스퍼터링의 장단점장점 넓 ... 은 면적에서 균일한 박막두께 증착가능 박막두께의 조절이 비교적 용이함 진공증착에 비하여 보다 정확학 합금성분조절 가능 Step coverage, grain structure, 응력등

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| 리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.11.03

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신소재 실험

박막의 제조방법으로는 CVD,우 증착막이 균일하지 못하고 특성 재현에 어려움이 많은 단점이 있고 또한 박막 제조시 고온이 요구되므로 많은 에너지가 요구된다. evaporation ... 방법은 높은 증착율의 장점은 있으나, 증착된 박막의 밀도나 밀착력이 떨어지는 단점이 있다. 반면 sputtering 방법의 경우, 증착조건을 조절하기 쉽고, 특히 대형 기판을 사용 ... 플라즈마로서 반도체 공정에서 플라즈마 식각 및 증착, 금속이나 고분자의 표면 처리, 신물질의 합성 등에서 이용2.Sputter2-1.Sputter의 정의Sputter

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| 리포트 | 13페이지 | 4,000원 | 등록일 2010.03.01 | 수정일 2018.10.22

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ZnO박막의특성

) b. ZnO (hexagonal wurtzite 구조 )4. 박막제조방법 . a. 졸 - 겔법 b. 화학기상증착법 c. 스퍼터링법 d. Pulse laser 증착법 (PLD)I ... . 실험 a. 실험목적 . 고주파 마그네트론 스퍼터링방법으로 박막을 제조하여 구조적 , 전기적 , 광학적 b. 실험재료 직경 2 인치 ZnO:Al 2 O 3 (2mol%) 표적 ... 기판 : 두께 0.5mm 너비 1cm2 인 fused silicac. 제어조건 증착전 초기 진공도 : 10^-6 Torr 2sccm 의 유량으로 Ar 유입 인가전력 : 80Watt

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| 리포트 | 19페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.05.16

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PLA의 고유점도와 표면개질 측정

장력 변화 >처리전 처리후처리전 처리후2-2. 표면개질의 종류1)PVD(물리진공증착)PVD는 증착물질을 증발하고 공작물 표면에 두꺼운 층을 만드는 법이다. 진공 용기 속에서 금속 ... 을 증발시켜 증발입자가 공작물에 도달하기 까지 일부를 이온화, 이온이나 여기입자, 중성입자 등을 공작물에 부착 시킨다. PVD의 종류로는 진공증착, 이온플레이팅, 스패터링이있다. 이 ... 를 이온화 하고 , 전압에 따라 가속하여 공작물에 부착 시킨다. 종래의 습식 도금이나 진공증착에 비해 막의 밀착성이 우수하다. 이온플레이팅의 막은 TIN (질화 탄산)가 거의 전부

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| 리포트 | 17페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.10.16

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태양전지

처리전처리로서는 스퍼터링에 의해서 Mo가 증착되었는데 이 증착된 면이 고르지 못할 경우를 대비해서 레이져를 이용한 scribng(절단공정)을 거친 후에 절단할 때 생기는 물질 ... 실리콘 전체를 태양광 흡수 기판으로 쓰는 기존 형태와 달리 유리 등 저가의 기판을 활용하고 표면에 박막으로 실리콘 등 재료를 증착한 대표적 차세대 전지이다. 박막 태양전지는 흔히 ... 등을 기판으로 하여 태양전지를 구성하는 물질을 수 마이크론 두께의 박막으로 증착하여 제조된다.박막태양전지는 전극을 구성하는 물질에 따라 여러 종류로 나뉘는데 크게 아몰포스 실리콘

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| 리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.11.17

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[공업화학실험] 식각실험 예비보고서

이 증착 재료인 타깃을 때려 타깃재료가 떨어져 나와 증착되는 스퍼터링이 있다. 물리적 증착은 주로 알루미늄과 같은 금속 박막을 얻는 데 사용되고 있다. 집적 회선의 배선을 위한 ... 1. 실험제목SiO2 박막의 식각 및 PR 제거2. 실험목적여러 가지 전기 및 전자기기에 사용되는 반도체 소자의 제조공정은 박막재료의 세가지 공정으로 나뉘어 지는데 첫째로 증착 ... 공정 둘째로 마스크의 패턴형성 그리고 셋째로 식각공정으로 나뉘어 진다. 이러한 공정 가운데서 중요한 공정은 박막의 식각공정으로서 마스크 패턴을 가지고 증착된 박막을 식각하는 것이

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| 리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.07.23

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나노튜브

화학적 용액성장법 (chemical bath deposition, CBD 또는 "Dip-Coating") 으로 입히고 투 명전극 층인 ZnO를 스퍼터링법으로 증착한 후 금속전극 ... 의 open-circuit voltage(Voc) 를 나타낸다. 몰리브덴(Mo) 으로 코팅된 유리기판 위에 p-type 반도체인 CIS층을 증착하고 그 위에 n-type CdS를 주로 ... 을 입힌다. 이미 4ft2 모듈(module)에서 11%의 효율이 기록된 바 있으며 실험실에서는 17%를 상회하는 효율이 재현성 있게 기록되고 있다. CIS층은 진공증착 또는 금속막

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| 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.12.05

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열증착

CVD는 PVD보다 일반적으로 훨씬 고온의 환경을 요구한다.1) PVD먼저 PVD에 대해 언급하면, PVD에 해당하는 증착법에는 스퍼터링 (Sputtering), 전자빔증착법 (E ... 적 기술의 하나로서 이후에도 이 기술의 중요성이 한층 더 심화되고 있다.2-1) 진공증착증착 증착된 박막을 얻는 방법은 1857년에 Faraday가 처음으로 시행하였으며 그는 불활성 ... 었으며, 1888년 Kundt가 굴절률 측정방법으로 금속 박막을 얻고자 증발 증착법을 사용하였다. 박막의 형성 원리는 비교적 간단한데 진공중에서 금속, 화합물 또는 합금을 가열하여 증발

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| 리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.02.08

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