"스퍼터링 증착"의 검색결과 입니다.

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스퍼터링 기상반응법 sputtering dc/rf magnetron rf sputtering evaporator CVD 도금 스퍼터 반도체 공정

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"스퍼터링 증착" 검색결과 301-320 / 637건

정전분무증착, SOFC증착

방법이 있다. 이런 증착방법을 하나하나씩 간단하게 알아보고자 한다.1. 스퍼터링법 (sputtering Method)이 방법은 고에너지를 가진 입자를 고체의 표면에 충돌시킨 다음 ... 은 거의 모든 종류의 물질을 증착할 수 있는 장점이 있지만, 라디오파 스퍼터링시 사용하게 되는 부도체 타겟은 열전도성이 낮아 열충격에 약하게 되어 타켓 자체의 변형 문제가 발생 ... 분무 증착법이라고 번역된다. 이 증착법의 목적은 응용할 수 있는 분야가 굉장히 많은 수 ㎛ 이하를 가진 두께의 박막을 증착하기 위함이다.이 증착법의 원리는 전기수력학적 미립화기법

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| 리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.10.01

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CMOS 집적회로 제작공정

(주로 얇은 질화막)물리증착법(PVD-스퍼터링) - 금속막(금속화), 절연막?폴리실리콘 - 기판이 결정구조X, 온도가 낮을 때에도 증착이 가능SiH4 + 열 → Si + 2H2 ... 에 가끔사용?전자빔증착 - 결정 손상 가능성 → 아닐링 필요?스퍼터링증착 - 진공조 내에 아르곤 기체를 주입 → 전장으로 이온화 → 알루미늄 같은 표적에 이온을 충돌 → 금속원자 ... 3장 CMOS 집적회로 제작공정전체개요■ 웨이퍼제작■ CMOS 집적회로 제작에 사용되는 공정1) 세정2) 산화3) 에피택시4) 증착5) 이온주입6) 확산7) 에칭8) 금속화9

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.04.19

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이온 플레이팅

1. 진공증착의 분류PVD란 진공 하에서 200℃~500℃의 온도에서 증기상을 물리적으로 증착시키는 방법이다.PVD는 그 원리에 따라 증발(Evaporation)과 스퍼터링 ... 은 플라즈마 PVD(Plasma assisted PVD, 이하 PAPVD)의 분류에 속하지 않는다.이온 플레이팅은 증발에서 얻을 수 있는 빠른 증착 속도와 스퍼터링에서 얻어지는 치밀 ... 에서 이온을 직접 이용)과 이온빔법으로 분류된다◆ 이온 플레이팅에서의 플라즈마이온 플레이팅도 스퍼터링과 비슷하게 플라즈마를 사용한 증착공정이지만 스퍼터링과는 달리 보통 증착하고자 하

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| 리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.06.29

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Ion plating(이온플레이팅)

-Plating 향후 전망(2008년 계시물)1. ION - PLATING이온플레이팅은 진공증착, 스퍼터링에 이어 개발된 것이지만 종래 진공증착의 개량법으로도 생각할 수 있 ... 하여 퇴적시킴으로서 막을 형성하는 방법이다. 따라서 이온플레이팅은 증발원자의 이온화에 의해 막의 밀착성이 뛰어난 점이 특징이다.응용분야는 현재 진공증착, 스퍼터링이 주로 전자재료 ... 다. 즉, 이온플레이팅은 진공증착과 유사한 방법으로 코팅물질을 가열, 증발시10-2~10-4 Torr의 글로우방전 가스중에서 일부를 이온화하고, 이온화한 증발원자를 음극의 기판에 가속

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| 리포트 | 13페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.10.05

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MEA & CNT 기술과 특허

상증착법탄소를 포함하고 있는 탄화수소기체와 기판으로는 전이금속이 사용됨, 따라서 성장 이전에 스퍼터링이나, 기화법을 이용하여 전이금속 박막 증착이 필요함.재현성이 있고, 고 순도 ... below Ni catalyst by carbon diffusion through the Ni particle아크방전법기술코로나 방전법레이저증착법화학기상증착법열분해법HIPCO화학기 ... 의 탄소나노튜브를 얻을 수 있음.촉매 크기를 제어하여 직경을 쉽게 제어할 수 있음.나노 전자소자용 합성에 가능성 있는 방법으로 주목CNT백금탄소종이생성물화학기상증착법탄소나노튜브를 성장

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| 리포트 | 17페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.05.10

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PECVD / SPUTTER

1PECVD / SPUTTER2.실험방법 및 목적-Deposition(증착) 공정중 sputtering 방식과 PECVD 방식을 알아보고 PECVD 공정과정 을 실제로 관찰 ... 를 쫓아낸 후 표면에 막을 부착 하는 기술 Sputtering의 원리는 고전압이 인가된 증착할 금속으로 만든 타겟과 Anode 전극 사이에 Ar가스를 주입하고, 플라즈마 방전을 이용 ... 면 관 끝 쪽이 거뭇하게 되어 있는데 이는 플라스마로부터 음극에 들어가는 이온에 의한 스퍼터링 현상이며 음극 재료인 원자가 튕겨 나갔기 때문이다. 이러한 현상을 응용한 것

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| 리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.05.12

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전자재료실험 - 열처리 시간에 따른 C-V I-V 특성 분석 결과보고서

변화를 이용한 방법을 말한다. 다른 증착법과는 다르게 저온에서 간단히 박막을 증착할 수 있는데, 다음과 같이 여러 증착법이 있다.스퍼터링(Sputtering), 전자빔 증착법 ... 형 물질의 전기적 특성을 갖게 된다.③ PVD(Physical Vapor Deposition)PVD는 증착시키려는 물질이 기판에 증착될 때 기체 상태가 고체 상태로 바뀌는 물리적인 ... (E-beam evaporation), 열 증착법(Thermal evaporation), 레이저분자빔 증착법 (L-MBE, Laser Molecular Beam Epitaxy

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| 리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.12.01

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ITO Scribing & Cleaning 예비보고서

코닝은 매우 큰 격차를 보이며 대부분의 시장을 점유하고 있다.제품특징1. 고진공 스퍼터링 증착 방법을 사용하여 코팅막의 오염원을 최소화함으로서 Total Pitch 16㎛ LCD제품 ... 은 스퍼터링(sputtering)에 의하여 형성된다. 현재 사용되는 LCD용 ITO coated glass는 표면거칠기가 약 20∼30Å 정도이므로 상부에 유기물 다층박막이 증착 ... 로서, 유리기판 위에 코팅하면 색깔이 투명하고 전도성을 띄어 TNㆍSTN 평판 디스플레이 제품 구동을 위한 투명전극 기능으로 사용되고 있다.◇ITO 박막 증착=일반적으로 ITO 박막

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| 리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2012.02.23

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ITO Glass

되고, 두꺼운 전하 케리어는 금속의 도전율을 증가시키지만 투명도는 감소된다.인듐 주석 산화물의 박막은 가장 일반적으로 전자빔 증착, 증기 증착, 스퍼터링 기술의 범위에 의하여 표면에 증착 ... 된다.높은 비용, 제한된 인듐의 자원, 부서지기 쉽고, 인듐 주석 산화물 레이어의 휨성이 부족하며, 레이어 증착에 필요한 높은 진공 때문에 대체 물질이 탐구되고 있다. 탄소 나노튜브 ... °C 이상의 온도에서 동작할 수 있고 가스 터빈, 제트 엔진, 로켓 엔진 같은 나쁜 환경에서도 사용할 수 있다.2) ITO Target* 삼성코닝정밀유리 ITO 타겟ITO 스퍼터링

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| 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.05.17

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단결정실리콘 태양전지의 원리 구조 공정 어플리케이션

전극 형성 표면전극 후면전극 회전 후면전극 표면전극반사방지막반사방지막 형성방법 ( 진공증착법 ) 진공증착장비 진공증착법에서는 증기는 직접저항 , 복사 , 와류 , 전자빔 , 레이져빔 ... , 또는 아크방전에 의해 가열된 소스에 있는 재료에서 생산 . 이 공정은 증발기화된 원자들이 기판에 응축되기에 앞서 충돌 없는 이동을 할 수 있는 장점이 있다 .진공증착법 - 장 ... 단점 장점 단점 장치의 구성이 간단 박막의 접착력이 약할 때가 많음 많은 물질에 쉽게 적용 가능 재현성이 나쁨 높은 증착율이 가능 (05um/min) 증기압이 낮은 물질 (EX

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| 리포트 | 71페이지 | 2,000원 | 등록일 2012.05.26

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cvd pvd

스퍼터링 기술로 많은 부분 대체되었는데, 그 이유는 쓰임새에 비하여 장치가 복잡하고, 전자빔에 의해 소자특성이 저하되기도 하며, 증착 입자의 직진성으로 인하여 단차피복능과 관련된 문제 ... 되었다. 그러나, 이 방법들은 대면적 증착에 심각한 문제점을 나타내기 때문에 산업화와 연계되지는 못하고 있으며, 단지 반도체 증착의 기초 연구에만 활용되고 있는 실정이다. 스퍼터링 증착 ... 에 스퍼터링 증착 기술의 특징을 살린 자기기록 재료, 투명 도전막 혹은 탄성 표면파 디바이스 등 일렉트로닉스 소자의 박막 형성 등으로 응용이 확대되었다. 더욱이 장치 기술도 다용도의 전개

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| 리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.07.17 | 수정일 2015.11.03

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디스플레이 공정

에너지로 변하화여 증착시키는 방법이다.전자빔 증착유도 가열 증착RF 유도 가열 코일을 BN으로 만들어진 도가니 주위에 감아 RF 전류를 흘려 가열시키는 방법이다▣ 스퍼터링높은 에너지 ... 박막형성법의 종류▣디스플레이 및 반도체 전체 공정Pvd법Cvd법-물리적 수법(증착 스파더) -기관은 보통 실온, 가열도 가능하다. -주로 금속, 도체막의 종류에 제약이 있음. -진공 ... 하다.Pvd법과 cvd법의 비교▣디스플레이 전체 공정Pvd법과 cvd법의 차이▣ 진공증착진공증착법금속은 진공중에서 가열하면 가스로서 증발하는데, 이 원리를 응용한 방법이 진공증착법(眞空蒸着

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| 리포트 | 20페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.10.09

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박막증착 개론

1. 여러 가지 박막 증착법1) CVD (화학기상증착법, Chemical Vapor Deporsition)화학기상증착법은 여러 가지 물질의 박막제조에 있어 가장 널리 쓰이고 있 ... 매우 다양한 기체, 액체, 심지어는 고체의 원료가 사용된다. 보통의 CVD 공정에서는, 상온의 반응기체가 reaction chamber안으로 유입되는데, 이 기체 혼합물은 증착표면 ... 에 이르기까지 가열되고, 대류 또는 증착표면의 가열에 의해 계속 열을 공급받는다. 증착표면 근처에서는 기체흐름이 가열되고, 점성에 의해 속도가 떨어지며, 조성의 변화가 생기기 때문

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| 리포트 | 9페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.11.26

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주사전자현미경(Scanning Electron Microscope)에 관한 레포트 입니다.

체시료는 탄소막의 진공증착이나 금-팔라듐을 스퍼터링(sputtering)하여 전도성 코팅을 하여야 한다. 시편 홀더는 X, Y와 Z축 방향의 이동과 회전 및 기울임이 가능

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| 리포트 | 10페이지 | 3,000원 | 등록일 2015.04.27 | 수정일 2016.07.09

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Ion plating method

(Ion flux)을 제어함으로써 스퍼터링 속도를 조절 2. 이온플레이팅에 활용 -증발원을 이용해서 원하는 물질을 증발, 증착시킴과 동시에 이온빔으로 기판 표면을 조사 -반응성 가스를 이온빔 원으로 이용하면 화합물의 함성도 가능 ... 차 증발공정에서 2극형 글로 방전을 도입 Ar을 10-2 Torr 수준으로 도입(글로방전) Ar 가스 이온화→기판에 입사 → 증착층의 표면에 충돌함 → 운동량 전달 → 증착 ... 가지 역할을 동시에 담당하는 기술 높은 이온화율(Ti의 경우 약 80%)과 빠른 증착속도 3차원 형상의 소재도 코팅 가능 덩어리 형태(Macroparticle)의 증발 현상

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| 리포트 | 20페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.03.18

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판매자 표지

SPUTTER

생겨 discharge 전류가 증가하고 스퍼터 속도가 향상된다. 박막의 증착 속도는 DC 스퍼터링에 비해 약 50배 정도 증착 압력 1mTorr까지 가능 전형적인 자장의 세기 ... 는다는 것이다. 즉, 자기력선이 직선에 가까운 곳에서 더 많은 스퍼터링이 일어난다. 따라서 Target에서 균일한 증착 속도가 얻어지지 않는다. 이와 같은 상황을 아래 그림에 나타내 ... beamMolecualr beamIon platingLaser ablatingRadio-FrequencyDCMagnetron박막 증착 법의 종류PLASMA 란?플라즈마란? 일반적으로 물질의 상태

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| 리포트 | 27페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.06.07

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반도체공학의 공정

)의 분류에 속하지 않는다. 이온 플레이팅은 증발에서 얻을 수 있는 빠른 증착 속도와 스퍼터링에서 얻어지는 치밀한 박막 미세조직과 화합물 형성능력을 조합한 혼성(Hybrid) 기술이 ... 증착막의 경도가 영향을 받는 것을 알 수 있다.플라즈마가 증발원의 역할도 담당하는 스퍼터링에서와는 달리 이온 플레이팅에서의 플라즈마는 증발 원자와 기체 원자(혹은 분자)들을 활성화 ... 과 플라즈마 형성의 2가지 역할을 동시에 담당하는 기술도 나타나게 되었다. 이온 플레이팅 기술의 발전도 스퍼터링 기술과 마찬가지로 높은 이온화율과 빠른 증착속도를 얻는 방향

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| 리포트 | 22페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.07.09

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thermal evaporation법을 이용한 박막의 제조 레포트.

에 응용되고 있다.진공증착, 이온, 스프터링, 이온도금 등의 방식은 요구되는 코팅종류에 따라 선택되어지는데, 진공증착은 스퍼터링 방법에 비하여 극히 빠르게 코팅할 수 있으며, 이온 ... 이 제안되고 있으며, 각 방식들은 서로 특징 상 큰 차이점을 나타내고 있다. 따라서, 증착되는 박막의 특성과 용도 등에 맞는 최적의 박막제작법을 선택하는 것이 중요하다. 그림 ... 에 각종 박막제작법을 나타내었다. 박막을 증착시키는 방법으로 크게 물리적인 방법(PVD, Physical Vapor Deposition)과 화학적인 방법(CVD, Chemical

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| 리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.11.15

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수소 분리막

를 포집하는 기술로써, 수소분리막 소재, 고압 모듈화 및 공정 기술개발이 핵심이다. 지지체에 팔라듐을 증착시 기존 상용 분리막에서는 20-30μm를 사용하나, 신기술을 도입하여 3 ... 에 분리막인 팔라듐과 구리를 스퍼터링 방법으로 코팅하는 기술분리막이 고압의 환경에 견딜 수 있도록 확산 접합에 의해 모듈화를 하는 기술응용과 전망: 수소 분리막은 몬선트사

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| 리포트 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2013.03.06

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공주대 반도체제조공정 중간고사 족보

시스템의 분자의 개수를 줄이고 가스를 밖으로 이동3.분자의 충돌 사이의 거리를 연장:스퍼터링 및 에칭 등 반도체 공정에 필요한 플라즈마를 만들기위한 필요 조건4.가속반응:진공은 증기 ... 의 액증착(확산)2photolithography:wafer에 패턴을 만들기위한 사진찍는 공정3dry etch:포토공중에 의한 pr패턴을이 이용하여 박막에 패턴을 형성4ion ... impant:가스를 이온화하여 가속기를 통해 웨이퍼에 주입5thin films:금속막과 절연막을 증착(막을덮는공정)6clean:각공정 사이에엇 웨이퍼의 세정7cmp:박막의패턴에 따른 저하

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| 시험자료 | 2페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.11.08

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