SPUTTER
- 최초 등록일
- 2009.06.07
- 최종 저작일
- 2009.03
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소개글
진공증착 방법중에 물리적인 방법중에 하나로서 플라즈마를 이용한 것을 간단히 소개하였읍니다.
목차
박막 증착 법의 종류
PLASMA 란?
Sputtering 이란?
Sputtering 원리
본문내용
PLASMA 란?
플라즈마란?
일반적으로 물질의 상태는 고체, 액체, 기체, 플라즈마 상태의 4가지 영역으로 나눌수가 있다. 기체입자, 즉 기체분자나 원자에 에너지를 가하면 최외각 전자가 궤도를 이탈하게 되는데, 이때 기체입자는 양전하의 이온과 음전하인 전자로 분리되어 전하를 띤 하전 입자로 변하게 된다. 이러한 양전하의 이온과 음전하의 전자들이 다수 모여 군집활동을 하며, 이온들의 수와 전자들의 수가 거의 같아 전체적으로는 전기적 중성 상태를 유지하게 되는데 이 상태를 플라즈마라 한다.
원자핵과 전자가 분리된 전리기체.
고온상태에서 이온화 된 입자 상태로 전자와 양이온 , 즉 전기를 띈 하전 입자들로 구성되 있으며 전기적으로는 중성인 하전 기체의 물질상태.
Sputtering 이란?
입자가 물질의 원자간 결합에너지 보다 큰 운동에너지로 충돌할 경우 입자 충격에 의해 물질의 격자 간 원자가 다른 위치로 밀리게 되는데 이때 원자의 표면 탈출이 발생하게 되는 현상
- 스퍼터링(sputtering) 현상은 1852년 Grove에 의하여 처음 발견
참고 자료
없음