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"웨이퍼공정" 검색결과 2,201-2,220 / 2,702건

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  • [재료공학]박막의 두께 측정방법
    되는 박막의 두께가 단일 원자층 수준으로 급격히 얇아지고 있다.반도체 소자는 실리콘 웨이퍼에 얇은 막을 입힌 후 그 표면에 식각이나 산화ㆍ증착ㆍ배선 등 다양한 공정을 거쳐 만들어지 ... 는 불상사가 발생할 수도 있다.반도체 공정용으로 사용되는 박막 두께 인증표준물질은 실리콘 웨이퍼 위에 두께가 10~30,000㎚ 정도로 성장된 이산화규소(SiO2) 박막과 10 ... 박막의 두께 측정 방법서문반도체 제조 공정 중 중요한 공정인 두께 측정에 대한 조사를 동하여 반도체 설계 시 표면의 거칠기와 두께 측정이 얼마나 반도체의 성능을 좌우 할 수 있
    리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.11.18
  • 1. 전해연마 2. 전기도금 3. 박막공정 4. 세라믹공정 정리
    한다.4단계 노광 system 을 사용하여 Wafer 위의 resist 에 mask 의 pattern 이 노광된다.5단계 현상(development)공정을 통해 노광 영역과 비노광 영역 ... 수 있고. 독성이 강한 CN을 사용하므로 폐수처리가 어렵다는 문제점이 있다.4) electroplating의 공정산 처리 =>> 수세 =>> 도금 =>> 수세 =>> 크로메이트 ... anode3. 박막공정1) 진공이란?개념적으로 물질이 전혀 존재하지 않는 공간을 말한다. 현대물리학에서는 진공은 물질이 전혀 없는 공허한 공간이지만 중력과 전기·자기력이 전달되는 물리
    리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.06.27
  • 반도체공정 (Metallization)
    을 많은 주의도 필요하다.Figure 1.1 Multi-metal level structureFigure 1.2 Two metal structure자세한 공정 스텝은 다음과 같다.(2 ... opper(99% Al, 1% Cu) metal은 PVD tool에 의해서 sputtering 되어 wafer에 코팅된다. Aluminum의 reliability를 개선시키기 위해서 1 ... 의 집적 회로 금속 공정에의 적합성 비교성질AlAuMoPtTaW막형성방법증착증착Sputtering 또는 불화물로부터 CVD다른재료와 적합성G-GGGG표면접착GNG-GG패턴정의
    리포트 | 18페이지 | 4,500원 | 등록일 2007.01.27
  • 태양전지
    ③ 잉곳을 얇게 절단한다.④ 다결정 실리콘 웨이퍼(Wafer) 완성 한다.⑤ 에칭하여 표면처리한다.⑥ pn 접합 형성한다.⑦ 후면 접합 형성한다.⑧ 반사방지막 코팅을 한다.⑨ 전극 ... 형 태양전지Ⅲ. 실리콘 태양전지의 제작 공정Ⅳ. CIS 박막 태양전지의 기본구조Ⅴ. 태양전지의 중요성1. 기술적 중요성2. 경제적 중요성3. 사회문화적 중요성Ⅵ. 태양전지의 국내외 ... 하기위해 개발 된 것이 한쪽 면에 양극의 전극을 형성시킨 PCSC구조 이다. 예전까지는 사진식각공정을 이용하여 후면전극을 입인방법을 대신하여 스크린프린팅공정을 이용하여 후면전극
    리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.04.27
  • TFT-LCD의 특징 및 제작원리
    제작1)실리콘 증착 및 결정화 고온공정에서는 석영기판을 실리콘 웨이퍼 형태로 가공하여 일반 반도체 공정 설비를 써서 폴리실리콘을 만든다. 2)열산화 및 게이트 패턴 형성 게이트 ... 공정 2.폴리 – si TFT-LCD 1) 비정질 –si TFT과 차이점 2) 고온 공정 p-si TFT 제작 3) p-si TFT의 특성a – si TFT의 구조특성 1)On ... 상태와 off상태의 전류비가 106~108정도로 매우 크다. 2)공정 온도가 350도 근방으로 유리의 융점보다 낮아 유리기판에 쉽게 만들 수 있다.Coplanar 형 1)소스
    리포트 | 22페이지 | 3,000원 | 등록일 2007.10.26
  • [경영전략]삼성전자의 반도체 사업 경영전략 사례보고서
    불과 6개월만인 1983년 11월 국내최초로 64K DRAM의 개발에 성공하였다. 삼성이 미국 Micron Technology에서 칩설계기술을, 또한 일본 Sharp에서 공정기술 ... 인이 아닌 파일럿 라인만을 갖추고 있었다는 점을 고려해 볼 때 상당히 파격적인 결정이었다. 그것은 6 인치 웨이퍼를 이용하면 투자회수 기간을 5인치 웨이퍼와 비교하여 1년 정도 ... 256K DRAM은 구형제품이 되었다고 믿고 256K DRAM 생산라인을 철거한 이후였다. 또한 그 당시 미·일 반도체 무역협정에 의거한 공정거래가격제도의 도입으로 인해 가격상승
    리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.01.23
  • 삼성전자 반도체의 미래
    이기 때문에 회로설계기술보다는 일정한 면적에 얼마만큼 많은 기억소자를 만들어 넣을 수 있는가 하는 공정기술과 그것을 뒷받침하는 웨이퍼가공공정의 미세화와 용량이 경쟁의 주요인이 될
    리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.09.30
  • 태양전지의 종류
    에 가격은 아직 높은데, 그 해결방안으로 보다 저급의 실리콘을 이용하는 방법, 대량생산 및 공정 개선에 의한 방법 등이 시도 또는 계획되고 있다. 다결정실리콘 태양전지는 원재료로 저급 ... 의 실리콘 웨이퍼를 사용하는데, 따라서 효율은 단결정실리콘에 비해 낮은 반면 가격은 싸다. 그리고 이용분야도 주택용 시스템 등이 주 대상이다.단결정 및 다결정실리콘은 bulk 상태 ... 의 원재료로부터 태양전지를 만들기 때문에 원재료비가 비싸고, 공정 자체가 복잡하여 가격의 절감측면에서는 한계가 있을 수밖에 없다. 이와 같은 문제점을 해결하기 위해 방안으로 기판
    리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.12.06
  • NFGM(Nano-Floating Gate Memory) 동작원리
    적 대안들이 등장하게 되었고, 그중에서도 터닐링을 근간으로 하는 플래시 메모리 기술은에 보인 것과 같이 SONOS과 NFGM이다. 이들의 제작공정은 기존의 플래시 기술에 비해 간단 ... arrary organization 등에 의해 다양한 종류의셀 아키텍처가 제안 되어 왔다. 이렇게 다양한 셀 구조는 각 회사가 갖고 있는 특허 또는 공정, 설계 및 제품 기술력 그리고 ... 시장 예측 및 기대 등에 의해서 다르게 제안 되었지만 현재는 셀 크기 축소화 및 공정 구현가능성정도 등에 근거하여 구분되고 있다. 대표적인 방식으로는 random read가 가능
    리포트 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.03.31
  • [경영정보] e-트랜스포메이션을 통한 SCM 개선 -LG Siltron
    함으로써, 소비자의 다양한 웨이퍼 품질 조건을 만족시키도록 제조공정을 체계적으로 관리하는 시스템ISCM 과정 용어MRS(Material Review and Revision System ... e-트랜스포메이션을 통한 SCM 개선LG 실트론1절 실리콘 웨이퍼 생산기업 ㈜LG실트론실리콘 웨이퍼웨이퍼란? 반도체 소자 재료용 재료로서 광범위하게 사용되고 있는 실리콘 웨이퍼 ... .04 럭키소재㈜ 미국 SILTEC사와 실리콘 웨이퍼에 관한 기술 제휴 체결 2003년도 매출 3,143억원 시장점유율 세계 7위 12인치 웨이퍼 양산 가능 기업 2010년 매출액
    리포트 | 46페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.05.10
  • [학부실험] 재료의 산화실험
    척후 건조과정에서 물방울 자국이 웨이퍼표면에 남지 않도록 주의하여야 한다.(2) 산화막성장 공정실리콘의 산화막성장은 여러 가지 방법으로 행해진다. 특히 대기압에서 개방상태의 석영관 ... 으로부터 끄집어내는 과정이다. 첫째와 셋째과정은 주로 N2분위기와 소량의 O2분위기에서 행하며, 산화 막의 두께조절은 둘째과정에서 이루어진다. 또한 산화 막의 균일도를 향상시키기 위해 공정 웨이퍼는 가스주입방향에 대해 수직으로 놓아야 한다. ... 라 십수년에 걸쳐 바둑처럼 그 숙달된 정도의 차가 변하게 되는 것이다.2. 반도체 공정중 Oxidation 사용분야● Oxidation(산화막 성장)산화막(Oxide)은 이온 주입
    리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.11.23
  • MEMS의 정의 및 기술을 이용한 센서 향후 기술전망
    란?멤스(MEMS: Micro Electro Mechanical Systems)란 미세전자기계시스템, 미세전자제어기술 등으로 불리는 것으로, 반도체 공정기술을 기반으로 성립 ... 는 전자 및 기계 부품들로 구성되어 있고 초기에는 IC 공법과 소재를 이용하여 미세 기계 요소들을 만들었다. 즉, 앞서 잘 개발된 반도체 공법을 이용하여 실리콘 웨이퍼 위에 3차원 구조 ... 는 오일의 압력과 같은 자동화 시스템을 측정하는 분야와 혈압측정 분야에 사용되는 것이다. 압력 센서는 HVAC 시스템과 가정용 제품분야에서 산업공정 제어와 농업분야에까지 폭넓게 응용
    리포트 | 13페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.10.07
  • No.22 진공 관련 강좌 자료 현황
    에 관하여10. Leak Detector와 Leak 감지법11. 반도체 제조 공정과 진공 문제12. 진공 시스템에서의 수증기13. 300mm wafer용 진공 펌프들14. 공정부 ... 산물(by-products)이 배기 시스템에 미치는 영향15. W - CVD와 식각 공정에 관하여16. 배기 시간(Pumping down time)의 계산17. Stainless
    리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.11.28
  • [전자 소자 이론] CMOS LSI와 Bipolar process 기술 동향
    으며 실제로 사용되는 실리콘은 매우 높은 순도가 요구된다. 화학적인 방법 혹은 물리적인 방법으로 순도가 높은 실리콘이 얻어지면 집적회로의 재료로서 웨이퍼(wafer)라고 하는 직경 ... 개에서 수 천개의 집적회로를 만수 있다.전체의 제조공정을 순서대로 정리하면 대략 다음과 같다.① 웨이퍼의 준비② 에피텍셜 성장③ 선택확산④ 알루미늄 증착⑤ 절단 및 실장2)공정 ... 기술 동향① 실리콘 IC 공정실리콘은 IC 산업에서 으뜸이 되는 반도체 재료이며 앞으로도 수년 동안 계속 그러할 것이다. 전세계적으로 생산되는 웨이퍼의 90%가 넘는 물량이 실리콘이
    리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.12.10
  • [재료과학] 반도체제조공정
    로▽결정성장▽규소봉 절단▽웨이퍼 표면연마▽회로설계▽MASK 제작▽산화 공정▽감광액 도포▽노광공정▽현상 공정▽식각 공정▽이온 주입공정▽화학기상증착▽금속배선▽웨이퍼 자동선별▽웨이퍼 절단 ... 에 그려 MASK(RETICLE)를 만듬고온(800~1200℃)에서 산소나 수증기를 실리콘 웨이퍼표면과 화학반응시켜얇고 균일한 실리콘산화막(SiO2)를 현상시켜는 공정빛에 민감한 물질 ... 인 PR를 웨이퍼 표면에 고르게 도포시킴STEPPEE를 사용하여 MASK에 그려진 회로패턴에 빛을 통과시켜 PR막이 형성된 웨이퍼 위에 회로패턴을 사진 찍는 공정웨이퍼 표면에서 빛
    리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.11.13
  • [고분자 반도체] 실리콘 웨이퍼
    으로 성장시킨 p-type과 n-type 실리콘 웨이퍼추가공정에 따라 -Epitaxial Wafer(에피웨이퍼) 실리콘 기판과 트랜지스터 사이에 인위적으로 절연층을 형성시켜 생긴 고순 ... Group) 4.Edge die 5. Flat Zone실리콘 웨이퍼의 모양Wafer의 종류 및 특성종류 Dopant 종류에 따라 - N-Type : 5가 원소(P, Sb ... 이 일반적 -SOI Wafer(Silicon On Insulator) 산화막으로 2장의 웨이퍼를 접합시킨 웨이퍼 고온특성, 저소비 전력특성, 고속특성을 이용 하여 TFT-LCD
    리포트 | 20페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.12.05
  • [공학]LCD제작 공정 , 저가격을 위한 방안
    L C DTFT Fab. ProcessTFT 공정은 반도체 제작 공정과 매우 유사하며, 유리 기판 위에 박막트랜지스터를 배열하여 제작하는 공정이다. Wafer 대신에 유리를 사용 ... 한다는 점에서 반도체와 다르며, 반도체 공정은 1,000℃ 정도의 공정온도를 갖는 반면 TFT 공정은 유리기판을 사용하기 때문에 300 ~ 500℃의 공정온도를 유지해야 하 ... 전극유리기판반도체막Patterningpatterning은 그 하나만으로도 정밀하고 복잡한 공정이다. TFT-LCD 패널을 만들기 위해서 적어도 이 공정을 여러번 거치게 된다. 물론
    리포트 | 24페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.12.31
  • [화학공학]화학공학이란
    와 지식이 중요시 되는 지식기반 사회로 급격히 변화하고 있다.” -LG 화학 명예회장 성 재 갑3. TrendChemical Engineering석유화학고분자무기화학화학공정정밀화학환경 ... 및 에너지Bio 산업정보전자원유정제 화학기초원료합성수지/섬유 플라스틱시멘트, 비료 세라믹 소재공장설계/운전 신공정페인트,화장품 염료 및 안료대체에너지 환경오염방지생명공학, 제약 ... 플라스틱 나노코팅Hybrid 자동차용 Ni-Mh밧데리 내마모성 타이어등..3. TrendChemical Engineering반도체반도체 소재기술, 공정기술, 생산기술 등의 융합
    리포트 | 18페이지 | 2,500원 | 등록일 2007.03.23
  • [재료공학, 전자재료, 반도체]결정의 전기 전도도 실험보고서
    적으로 활성화된 공정의 온도의존성과 유사한 온도의존성을 보인다.2-2 불순물 반도체의 전기전도도불순물 반도체에서도 진성반도체와 같은 원리로 전기의 전도가 일어나지만 온도에 의한 영향 ... 은 진성반도체보다 작다.{n형반도체에서의전기전도도4. 실험장비Si wafer n-type (100), Cu Plate, thermocouple, thermometer, LCR ... meter, hot plate5. 실험방법1. Si wafer와 Cu Plate를 준비한다.2. 먼저 hot plate의 온도를 올려서 Cu Plate시편을 각각의 온도
    리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.08.29
  • 전략적 제휴 개념 / 현황 / 유형 / 성공, 실폐 사례등등
    업계 8위인 대만 프로모스 지분 8~10%를 인수한다. 또 두 회사는 50나노대 D램 제조공정에 대한 기술 및 생산 제휴에 합의했다. 하이닉스는 8일 이같이 공시하고 "프로모스 ... 었는데 위기를 넘긴 것이다. 이번 제휴로 하이닉스는 자본투자 없이 프로모스 생산량 가운데 매월 6만~7만장(12인치 웨이퍼 기준)을 확보할 수 있을 것으로 예상한다. 3조원 규모 ... 생산라인을 새로지은 것 과 같은 효과다. 프로모스 역시 첨단 공정기술과 자금을 확보하게 됐다. 지난해 4분기 영업이익률이 -40%에 달했던 프로모스는 올 1분기에도 비슷한 규모 영업
    리포트 | 20페이지 | 3,000원 | 등록일 2009.07.01
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2025년 05월 24일 토요일
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