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sputtering 금코팅 sputtering 투명전극 스퍼터링 dc 스퍼터 장비 IGZO 반도체 공정 식각공정 진공펌프
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"스퍼터" 검색결과 121-140 / 285건

  • 자료 표지
    금속 박막증착
    1. 금속 박막의 증착장비 종류 및 특성- 금속박막 증착에는 일반적으로 물리 기상 증착(PVD)을 많이 사용한다.실험장비는 DC 스퍼터, RF 스퍼터, 마그네트론 스퍼터, E ... 스퍼터: 직류전원을 이용한 sputtering방법이며 구조가 간단하며, 가장 표준적인 장치이다.성장속도가 여러 종류의 금속에 대해 거의 일정하며, RF sputtering에 비해 ... 성장속도가 크다.② RF 스퍼터: DC sputtering에서는 target이 산화물이나 절연체일 경우 sputtering되지 않는다.이러한 단점을 해결해주고 전반적으로 DC
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    | 리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.08.24 | 수정일 2015.02.12
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  • 자료 표지
    Mass Flow Controller
    . 스퍼터 장치에서는 필수적인 구성 요소. 최소 1개는 기본으로 필요함.작동 원리유체가 센서의 Meter 부분을 통과하게 되면 Meter 내의 센서튜브가 진동하게 되고 이때 튜브가 진동
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2014.05.31
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  • 자료 표지
    Cu film의 전기적 특성분석 실험
    % 이내의 측정정확도를 갖고 있다.2. sputter : 스퍼터(Sputter)는 스퍼터링 방식으로 박막을 제조하는 장치로 진공 상태에서 아르곤 가스를 소량 주입하고 한편에는 재료 ... 한다.스퍼터의 종류로는 DC sputtering과 RF sputtering이 있다. DC sputtering은 직류전원을 이용한 스퍼터링으로 타겟이 산화물이나 절연체일 경우는 스퍼터링 되
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.05.12
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  • 자료 표지
    진공증착과 음극스퍼터링
    의 어떤 것을 격자 형태로부터 뜯어내어 공간을 튀어나가게 하는 데 이것이 스퍼터링 현상이다. 1개의 이온당 몇 개의 격자 원자가 스퍼터하는가의 비율을 스퍼터 수량이라고 부른다. 이 ... 수량은 이온의 에너지가 높을수록 높아진다.왼 쪽 그림을 보면 가스 압력이 낮을수록 뛰어난 막이 쉽게 만들어 질 수 있을 것 같다. 스퍼터 증착막은 승화(격자원자가 공간을 튀어나가 ... 으로부터 표면 원자가 공간으로 튕겨지는 현상이다. 이것을 성막에 이용하는 데는 플라스마에서 꺼낸 이온을 사용한다. 그런 의미에서 스퍼터 증착은 플라스마 프로세스이다.스퍼터 증착
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.10.11
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  • 자료 표지
    [반도체]기판과 열처리에 따른 Co 박막의 비저항 및 내부조직 변화 관찰
    되게 하거나 화학적 반응에 의해 달라 붙게 해서 시스템의 압력을 낮춤.흡착 (adsorption), 스퍼터 이온 (sputter-ion), 극저온 (cryogenic) 펌프- 기계식 ... torr로 낮춤.- 스퍼터 이온 펌프스테인레스 스틸 양극과 티타늄 음극 사이에 전기적 방전에 의해 가스 분자는 가스 이온과 전자로 이온화 된다. 가스 이온은 음극의 티타늄 원자
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    | 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.04.10
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  • 자료 표지
    열화학기상증착법(Thermal-CVD)과 수열합성법(Hydrothermal solution)을 이용하여 각 기판위에 나노와이어 성장
    는 방법을 뜻한다. 스퍼터링 장비에서는 타겟쪽을 음극(Cathode)로 하고 기판쪽을 양극(Anode)로 한다. 스퍼터링 공정을 진행하는 장비를 스퍼터 혹은 스퍼터링 시스템이
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    | 리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2016.05.14 | 수정일 2017.05.29
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  • 자료 표지
    OMO구조의 Metal층 두께에 따른 특성평가 예비보고서
    특성으로 인해 우수한 유연성을 가지고 있으며 연속적인 롤투롤 스퍼터 공정을 통해 저가, 대량 생산할 수 있다는 장점이 있을 뿐 아니라 기존 ITO 투명 전극과 달리 별도의 열처리
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    | 리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2016.06.18
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  • 자료 표지
    이온플레이팅
    으로 . Ion Plating 시스템의 필요조건일반적으로 이온 플레이팅에 사용되는 장비는 스퍼터 증착을 위한 장비와 같다. 그러나 기판은 스퍼터링 타겟이고 다른 증발 소스가 첨가 ... 된다. 아래 그림3에 몇몇 가능한 형태를 나타내었다.- 진공 시스템이 시스템은 스퍼터 증착 장비와 유사하다. 잘 맞춰진 압력과 약간의 오염물의 탈착이 플라즈마에서 오염 농도를 낮게 유지 ... 하기 위해 요구 된다.- 개스취급시스템이 장비도 역시 스퍼터 증착과 유사하다. 불활성기체는 플라즈마 상태에서 오염물질을 줄이기 위해 정화되어야 한다. 반응성이 큰 개스의 경우 증착
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    | 리포트 | 19페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.07.03
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  • 자료 표지
    [특허청구범위해석][특허청구범위][특허청구][특허]특허청구범위해석의 과정, 특허청구범위해석의 실무, 특허청구범위해석의 사례, 특허청구범위해석의 방법 분석(특허청구범위해석, 특허)
    용하는 특허성보고서 제출.-82건 각각에 대해 구별됨을 주장, 가끔 “출원인의 청구된 이온 빔 스퍼터기술이 개시되고 있지 않음”라고 설명함.3) 1985. 10월-Litton ... 하였음.-“출원인의 발명에 대해 신규하고 비자명한 것은 이온 빔 스퍼터 기술의 사용이며, 특히 Kaufman gun ion beam 기술들의 사용이다.”(최초의 Kaufman
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    | 리포트 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2013.07.23
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  • 자료 표지
    Flexible Display 정의(개요), 핵심 기술, 기술별 국내외 기술 개발 현황, 특허분석, 향후 시장성과 경쟁력 분석
    의 침투을 풀어주고, 상기 플렉시블 기판의 일부가 노출되도록 하며, 상기 플렉시블 기판을 잡아준다.상기 스퍼터 건 유닛은 서로 대향되는 1쌍의 스퍼터 건을 구비하여 자기장에 의해 ... 플라즈마를 형성하며, 형성된 상기 플라즈마를 상기 1쌍의 스퍼터 건 사이에 구속하여 타겟을 스퍼터링한다.가스분사 유닛은 상기 Roll-to-Roll 유닛의 상기 플렉서블 기판이 노출 ... 화할 수 있는 Roll-to-Roll 스퍼터 장치에 관한 것으로, 일반적인 Roll-to-Roll 스퍼터에서 발생하는 플라즈마 데미지 효과를 최소화하여 폴리머 기판의 변형을 최소
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    | 리포트 | 20페이지 | 2,500원 | 등록일 2010.02.06
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  • 자료 표지
    3편 토양오염공정 시험법
    원자화 장치: 일반적으로 이용(용액상태 시료를 불꽃 중에 분무)-플라즈마 제트 불꽃 이용-방전 이용/-고체시료를 흑연도가니에 넣어 증발하는 방법/-음극 스퍼터에 의해 원자화-환원
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    | 시험자료 | 25페이지 | 10,000원 | 등록일 2017.05.08 | 수정일 2023.01.16
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  • 자료 표지
    [발광디스플레이 실험] CNT 성장을 위한 기본 기판 만들기
    수 있다. RF스퍼터링을 이용하면 금속, 합금, 산화물, 질화물, 탄화물 등 거의 모든 종류의 물질을 스퍼터 증착할 수 있지만, 생성된 막이 target의 조성과 반드시 일치하지 ... 가 target 표면의 매우 가까운 곳에 유지되어 근처 지역에서 플라즈마 밀도가 높아지게 되므로 이온화율이 증가한다. 이온이 많이 생겨 discharge 전류가 증가하고 스퍼터 속도 ... 가 향상된다. 따라서 기판에 대한 전자의 층돌이 줄어들고, 결국 증착속도가 향상되며 스퍼터 가능 압력도 낮출 수 있다. 하지만 target이 자기력선이 직선에 가까운 곳에서 더 많
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    | 리포트 | 9페이지 | 5,000원 | 등록일 2012.01.01
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  • 자료 표지
    진공 펌프 조사
    게 떨어진다.이 때가 되면 배기능력을 회복하여야 하는데 이 과정을 '재생(regeneration)'이라 부른다.2.이온스퍼터펌프이름에서 짐작할 수 있듯이 기체를 이온화하여 표면과의 반응
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 12페이지 | 2,500원 | 등록일 2015.12.03
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  • 자료 표지
    EWOD 결과레포트
    )EEE#사용하는 장비 및 방법Sputter(스퍼터)진공상태에서 아르곤 가스를 소량 주입해 재료기판과 타깃 기판 사이에 전압을 인가해 이온화하여 타깃에 부딪히게 해 타깃의 재료가 튀
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    | 리포트 | 3페이지 | 1,500원 | 등록일 2014.06.06
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  • 판매자 표지 자료 표지
    반도체 클리닝 공정에 대한 레포트
    ① 스퍼터를 시킨다② 오염 물질들을 휘발성 물질로 변화시킨다.③ 오염물질이 놓여 있는 아래층의 물질이 함께 제거된다.(lift-off)Plasma 세정 시에는 공정가스와 plasma
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2015.05.30
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  • 자료 표지
    SEM image의 생성원리, charging 현상 해결방안, OM vs SEM 의 image 비교
    다.스퍼터 코팅의 원코팅의진공도 체크에 쓰이팅의가스관과 같은데, 잔류의가스를 에 쓰전압에서 전리시켜 이온을 만들어 이 이온을 극판온을 만시켜 극판의 금속을 시켜 나오게 하는 것이다. 잔류 ... 으로 쓰인겟 금속으밖에는 Ag, Cu, Ni 등도 스퍼터 코팅을 할 수는 있으나 입자의 모양이나 화학적 안정성이 터 지므로 SEM 시료용으로서는 이용하고 있지 않다.?극식 스퍼트 ... 접지되어 있어 조작할 때의 전기적 충격을 방지한다. 양극 모두 직경 5cm 정도로 하고 극 간격은 인가되는 전압에 따라서 3cm~10cm를 택한다. 스퍼터 코팅의 경우 진공도는 이온
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    | 리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.11.16
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  • 자료 표지
    각종 진공 펌프 원리 사용 방법 sputter 1
    의 과정이다.그림 5. 스퍼터링에 의한 증착과정2) 스퍼터 장비의 구성그림 6. 스퍼터장비의 구성1. Substrate holder 및 heater : 기판을 장착할 수 있 ... )스퍼터 조작방법 - 공정순서ⅰ)장비켜기냉각수 원수를 연다.공압 밸브를 연다.냉각수를 연다.(보통 OUT은 열려있으며, IN은 빨간선까지만)전원을 넣는다.(DC와 Sub heat
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    | 리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.06.03
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  • 판매자 표지 자료 표지
    반도체 클리닝 공정 (반도체 클리닝 공정에 대한 조사 레포트)
    방법① 스퍼터를 시킨다② 오염 물질들을 휘발성 물질로 변화시킨다.③ 오염물질이 놓여 있는 아래층의 물질이 함께 제거된다.(lift-off)Plasma 세정 시에는 공정가스
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    | 리포트 | 8페이지 | 3,000원 | 등록일 2015.06.12 | 수정일 2017.01.09
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  • 자료 표지
    PECVD / SPUTTER
    의 어떤것 을 격자 형태로부터 뜯어내어 공간을 튀어나가게 하는 데 이것이 스퍼터링 현상이다.1개의 이온당 몇 개의 격자 원자가 스퍼터하는가의 비율을 스퍼터 수량이라고 부른다. 이 수량 ... 단차를 넘어서 미크론 단위의 너비와 두께의 금속막이 끊기지 않고 이어져야 한다. 이러한 문제에 대해서 스퍼터 증착은 진공 증착에 비해 뛰어나다,스퍼터 성막(成膜)의 주류는 2극 ... 스퍼터링이었다. 5cm 쯤의 거리를 두고 평행으로 놓은 음극과 양극 사이에 글로 방전(glow 放電)을 만들어 음극 쪽에 스퍼터해야 하는 재료를 놓고 양극 쪽에 기판을 놓는 방식이
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    | 리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.05.12
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  • 자료 표지
    09Dry_Etching_&_ECR-RIE
    뿐만 아니라 이온으로서 , F⁺, CF₃⁺ 등이 화학 반응 및 웨이퍼의 충돌에 의해 식각이 이루어지기 때문에 반응성 이온 또는 반응성 스퍼터 식각 혹은 저압 다이오드 반응 식각이 ... 의 Al₂O ₃ 막의 식각이 가능하다 . 스퍼터 효과에 의해 전극 배선용 Al 합금막의 식각이 가능하다 . 조절이 매우 쉽고 생산성이 높다 . 반응성 이온 식각 (Reactive Ion
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    | 리포트 | 25페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.18
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