[반도체공정]식각공정

*봉*
개인인증판매자스토어
최초 등록일
2005.06.29
최종 저작일
2005.06
3페이지/한글파일 한컴오피스
가격 1,300원 할인쿠폰받기
다운로드
장바구니
인스타 팔로우이벤트

소개글

반도체 공정중 식각공정에 대한 기초를 공부하기 위해서 대학교에서 배운 내용을 바탕으로 정리 해놓았습니다.

목차

습식식각
건식식각

본문내용

반도체 IC의 제조에 있어 기판 위에 형성되어 있는 층(산화 공정이나 박막증착 공정의 결과로)을 선택적으로 제거하는 공정을 사진식각(photolithography) 공정이라 한다. 이중 사진공정은 마스크(mask) 상의 기하적 모형(pattern)을 반도체 웨이퍼의 표면에 도포되어 있는 얇은 감광재료(photoresist)로 옮겨 놓는 것을 말한다. 이 모형들은 다음 단계인 식각(etching) 공정때 웨이퍼 표면과 감광재료 사이에 놓여 있는 박막층을 식각으로부터 보호해 주는 역할을 한다.
사진공정은 크게 광 노광기술(optical lithography)과 방사 노광기술(radiation lithography)로 구분되며, 광 노광기술에서는 자외선(UV)이, 방사 노광기술에서는 X-선이나, 전자빔 또는 이온빔 등이 사용된다. 사진공정에서는 광화학적(photochemical) 반응이 회분식 반응기들에서 일어나므로 사진공정은 반응공학적인 측면에서 볼 때 불균일 회분식 반응계로 볼 수 있다.
사진공정을 통해 형성된 감광제 모형들을 마스크로 사용하고 마스크 아래에 있는 부분과 외부로 노출된 부분 사이의 화학반응이 전혀 다르게 함으로써 마스크로 보호되지 않는 부분들이 공정이 진행됨에 따라 떨어져 나가게 하는 기술을 식각 공정이라고 한다. 이러한 식각공정에 의해 확산이나 이온 주입될 영역이 결정되어지고 또한 도선들의 연결 작업이 이루어지는 것이다. 본 절에서는 이러한 사진식각 공정 중 특히 식각 공정에 대하여 개괄적으로 살펴보기로 한다.

참고 자료

없음

이 자료와 함께 구매한 자료

*봉*
판매자 유형Bronze개인인증

주의사항

저작권 자료의 정보 및 내용의 진실성에 대하여 해피캠퍼스는 보증하지 않으며, 해당 정보 및 게시물 저작권과 기타 법적 책임은 자료 등록자에게 있습니다.
자료 및 게시물 내용의 불법적 이용, 무단 전재∙배포는 금지되어 있습니다.
저작권침해, 명예훼손 등 분쟁 요소 발견 시 고객센터의 저작권침해 신고센터를 이용해 주시기 바랍니다.
환불정책

해피캠퍼스는 구매자와 판매자 모두가 만족하는 서비스가 되도록 노력하고 있으며, 아래의 4가지 자료환불 조건을 꼭 확인해주시기 바랍니다.

파일오류 중복자료 저작권 없음 설명과 실제 내용 불일치
파일의 다운로드가 제대로 되지 않거나 파일형식에 맞는 프로그램으로 정상 작동하지 않는 경우 다른 자료와 70% 이상 내용이 일치하는 경우 (중복임을 확인할 수 있는 근거 필요함) 인터넷의 다른 사이트, 연구기관, 학교, 서적 등의 자료를 도용한 경우 자료의 설명과 실제 자료의 내용이 일치하지 않는 경우

찾던 자료가 아닌가요?아래 자료들 중 찾던 자료가 있는지 확인해보세요

  • 파워포인트파일 반도체공정-Etching(wet,dry) 14페이지
    얇은 막에 회로 패턴을 만드는 과정 을 복함으로써 , 반도체의 구조가 ... Etching( wet,dry ) Contents Etching 이란 ... ? Etching 의 중요한 parameters Wet Dry
  • 파워포인트파일 [PPT] 전기전자공학 - 반도체 제작공정 - Etching(식각) 22페이지
    [Etching이란?]“포토공정에서 형성된 감광막의 패턴을 박막 또는 ... 기판에 전달하는 공정"= 웨이퍼에 회로를 새기는 과정[Etching ... 의 종류]습식 식각“화학 용액”건식 식각“플라즈마”[습식 식각
  • 한글파일 반도체공정-식각공정 4페이지
    여겨지고 있다. 지금까지 반도체 회로패턴을 완성하는 식각 공정 ... 공정 (5) 동판화 기법과 흡사한 식각공정|작성자 삼성반도체이야기 ... . 그렇기 때문에 점점 nm, Å 단위로 미세해지는 반도체공정에서 wet
  • 파워포인트파일 습식식각PPT 23페이지
    이상 공정에 사용 등방향성 (isotropic) 용액을 이용해 식각 반도체 ... Wet Etch INDEX 식각 공정이란 ? 식각 공정 장비 ? 식각 ... , 반도체 표면에서 불필요한 부분 을 화학적 , 물리적 으로 제거 하여
  • 워드파일 8대공정 요약 2페이지
    키징공정으로 나눌수있습니다. 1) 웨이퍼 제조 반도체 집적 ... 중요합니다. 5) 증착 및 이온주입 공정 반도체 칩의 미세하고 수많은 층 ... 시키는 방법으로 현재 반도체공정에서는 CVD를 주로 사용하고 있습니다
  • 파워포인트파일 건식식각 PPT 25페이지
    , 세라믹 , 반도체 표면에서 불필요한 부분 을 화학적 , 물리적 으로 제거 ... 하여 원하는 모양을 얻는 공정 VS 건식 식각 습식 식각 건식식각 ... 의 원리 물리적 식각 Sputter Etch 화학적 식각 Reactive
  • 워드파일 [2019최신 공업화학실험] 패터닝 예비보고서 6페이지
    chemical 또는 gas로 제거하는 공정이다. 식각반도체 소자의 제조 ... 반도체 소자 제조 공정 ... 속도 및 식각 선택도를 계산한다. 이를 통해 반도체의 구조 및 반도체
더보기
우수 콘텐츠 서비스 품질인증 획득
최근 본 자료더보기
[반도체공정]식각공정