"마그네트론 스퍼터링 기술"의 검색결과 입니다.

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스퍼터링 RF-magnetron sputtering 박막공정 evaporator ito glass PVD CVD rf sputtering 증착

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"마그네트론 스퍼터링 기술" 검색결과 1-20 / 113건

RF Magnetron 스퍼터링 공정을 이용한 BIPV용 산화 금속 다중층 컬러 유리 구현 기술 연구 (Metal Oxide Multi-Layer Color Glass by Radio Frequency Magnetron Sputtering for Building Integrated Photovoltaic System)

한국전기전자학회 Akpeko Gasonoo, 안현식, 김민회, 이재현, 최윤석

논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.07.11 | 수정일 2025.07.19

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스퍼터링(Sputtering) 이론레포트

, 2004.박지봉, “고품질 산화물 및 질화물 박막의 제조를 위한 마그네트론 스퍼터링법의 활용과 연구.” 석사학위, 부산대학교 대학원, 2011.성진욱, “이온빔 스퍼터링 ... Sputtering이론 레포트1) Sputtering 기법의 장점a. CVD 기법은 높은 온도 하에서 박막을 증착 하는 기술인 반면 Sputtering은 저온 증착이 가능 ... 증착 기법에 비해 범용성 및 편의성이 떨어진다.3) Magnetron Sputtering타겟 방면 cathode에 영구 자석을 장착해 타겟과 평행하게 자기장을 인가하여, c

리포트 | 3페이지 | 1,500원 | 등록일 2023.05.21

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Evaporator_Sputter 레포트

의 Reactive Sputter로 산화물과 질화물 박막의 형성이 가능하다는 점이 있다. 하지만, Magnetron 스퍼터링을 제외한 나머지에서 증착 속도가 낮고, 높은 에너지를 이용한 충돌 ... 다.스퍼터링 방법에는 DC Sputtering, RF Sputtering, Magnetron Sputtering 등이 있다.먼저 DC Sputtering은 직류 전원을 이용한 스퍼터링 방법 ... Evaporator박막을 제조하는 기술 중 하나인 PVD(Physical Vapor Deposition)에는 Evaporator와 Sputter가 있다. Evaporator

리포트 | 7페이지 | 2,500원 | 등록일 2021.11.08

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[재료공학실험]투명전극재료의 합성 및 물성 평가

적 박막형성이 가능8) 타겟의 수명이 길고 장시간의 연속운전과 자동화가 가능마. 스퍼터링법에 의한 박막 제조 기술의 특징1) 금속, 합금, 절연물 등 폭넓은 재료의 박막제작 가능2 ... 되는 ITO 박막의 제조에 대한 실험이었다. 실험 방법은 가장 보편적으로 쓰이는 마그네트론 스퍼터링 방법을 이용하여 glass 기판에 박막 증착을 직접 해보았고, 투명 전도막이 가져야할 ... 에는 저항 가열법(thermal evaporation) 과 전자선 가열법(eletron beam evaporation) 그리고 스퍼터링(sputtering) 법의 물리적 증착

리포트 | 6페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.02.20 | 수정일 2022.02.22

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카이스트(한국과학기술원) KAIST 반도체공학대학원 자기소개서 연구계획서

의 특성에 관한 연구: RF 마그네트론 스퍼터링 방법으로 증착한 ZnO/TiO2 이중층 박막과 공반응물의 효과 연구, 준 마이크로스트립 구조 기반 신축성 마이크로파 전송선 설계 및 제작 연구 등을 하고 싶습니다. ... , 유연 소자의 기계적 신뢰성을 위한 알루미늄 박막의 기계적 물성 측정 연구, 웨어러블 EEG 및 PPG 센서 시스템을 위한 동작 인공물 제거 기술 연구 등을 하고 싶습니다.저는 또한

자기소개서 | 1페이지 | 3,800원 | 등록일 2024.07.07

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한양대 신소재공학부 대학원 학업계획서

자립형 전도성 MnCO3@Graphene/CNT 네트워크 개발 연구, 고전력 임펄스 마그네트론 스퍼터링에 의해 증착된 TiB2-Si 나노복합체 코팅의 구조 및 특성에 대한 Si ... 첨가의 영향 연구, HiPIMS 기술에 의해 증착된 AlSiN 필름의 미세 구조, 기계적 및 부식 특성에 대한 바이어스 전압의 영향 연구, 열처리, 건축 방향 및 슬라이딩 속도

자기소개서 | 1페이지 | 3,800원 | 등록일 2022.09.30

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반도체 공정 term project

에 처음으로 발견하였다. 1974년 Chapin은 평탄한 target의 하부에 자석을 설치하여 Magnetron Sputtering을 발명했다. 이후 다양하고 우수한 박막을 코팅 ... 할 수 있게 되어 급속히 넓은 산업 분야에 이용되기 시작했다(일반적으로 ‘Magnetron Sputtering’을 Magnetron을 생략하여 ‘Sputtering’이라고 부르 ... 물질의 격자 간 원자가 다른 위치로 밀리게 되는데 이때 원자의 표면 탈출이 발생하게 된다. 이러한 현상을 물리학에서는 “sputtering”이라고 말한다.1)DC 스퍼터링1

리포트 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2023.06.22

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한양대학교 일반대학원 반도체공학과 학업계획서

습니다.저는 또한 rf 마그네트론 스퍼터링으로 증착한 Mg-doped Zinc Tin Oxide막의 특성에 미치는 산소의 영향 연구, 다중 모드 기술을 통한 비고정 환경에서의 일회성 모방

자기소개서 | 2페이지 | 3,800원 | 등록일 2024.03.03

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[신소재공학실험]미세 조직 관찰 및 화상분석

하면, 반응성 이온빔 스퍼터링이 가능하다. 이 기술은 자성물질의 박막을 필요로 하는 용도에 매우 성공적이었다.(일반적인 마그네트론 스퍼터링의 자기장은 부분적으로 혹은 전체적으로 자성

리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2022.03.21

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태양열 집열기에 사용될 선택흡수막의 성능 평가 (Performance Evaluation of Selective Coatings for Solar Thermal Collectors)

한국태양에너지학회 이길동

논문 | 8페이지 | 무료 | 등록일 2025.04.27 | 수정일 2025.05.14

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Transparent Display에 적용될 수 있는 다양한 기술 논문 정리(한글)

-Zn-O)를 기반으로 하는 장치는 상온에서 유연한 플라스틱 기판에서도 제조 될 수 있다. RF 마그네트론 스퍼터링을 통해서 증착 된 비정질 반도체 ZTO를 채널 물질로 사용 ... Transparent Display에 적용될 수 있는 다양한 기술요약ZTO (Zn-Tin-Oxide) 시스템을 기반으로 하는 채널 반도체를 가진 투명 박막 트랜지스터(TFT ... )가 제시된다. 특히, 이러한 재료의 플라즈마 보조 펄스 레이저 증착의 기술적인 측면과 재료적인 측면에 대해서 알아볼 것이다. 추가적인 radical 산소 계열의 주입은 물질의 결함

리포트 | 12페이지 | 3,900원 | 등록일 2021.11.08

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투명전극(ITO)과 진공펌프 및 게이지와 스퍼터링의 종류들과 원리

mTorre. 크다 ⇒ 성막면적이 작다f. Reactive sputtering에 적합③DC/RF 마그네트론 스퍼터링 장치기존 스퍼터링 방법에 자기장을 사용하면 마그네트론이라는 단어 ... 를 붙여 마그네트론 스퍼터링 방법의 특징을 띄게 된다.마그네트론 스퍼터링 장치는 타깃 표면에서 Ar 양이온의 충돌로 발생한 2차 전자를 자기장을 이용하여 방전 공간 안에 가둬둠 ... 는데, 이를 DC/RF 반응성 마그네트론 스퍼터링 장치로 한다.④이온 빔 스퍼터링 장치고속 입자를 발생시키는 또 하나의 방법은, 이온 원에서 발생한 이온 빔을 고진 공의 스퍼터실 내

리포트 | 22페이지 | 2,500원 | 등록일 2019.07.03 | 수정일 2019.07.04

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VLSI공정 5장 문제정리

타겟도 가능하다.Magnetron 스퍼터링은?플라즈마에서 자계가 자계선 방향의 주변을 나선 꼴로 회전하는 현상을 이용.자계를 사용해 전자들은 타깃 부근에 머무르게 하여 Ar기체들과 ... 의 응용분야고 집적화 및 고품질이 요구되는 반도체 공정고출력 LED칩 소자 개발에 필수적인 증착 기술특히 GaN를 기반으로 하는 청색 발광 소자 개발에 주로 사용MOCVD의 장점?1 ... 란?그리스 문자 epi(위에) 와 taxis(배열)의 합성어로서 결정구조를 갖는 물질(기판)위에 기판과 같은 구조를 갖는 물질을 성장시키는 기술.에피택시 층이 사용되는 분야?바이폴라

리포트 | 10페이지 | 4,000원 | 등록일 2018.06.05 | 수정일 2020.05.03

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증착법

목차Ⅰ. 물리 기상 증착법1. PVD1 열 증착법2 전자빔 증착법3 스퍼터링 법Ⅱ. 화학 기상 증착법2. CVD1 열선에 의한 CVD2. 1. 1 Hot - Wire CVD2 ... -beam Evaporation), 스퍼터링 법(Sputtering)이 있다. 이 방법들이 공통적으로 PVD로 분류되는 이유는 증착시키려는 물질이 기판에 증착될 때 기체상태가 고체상태 ... 하다. 단점으로는 X-ray 발생과 E-beam source 위에 원자의 농도가 크므로 와류 또는 discharge가 심하다.1. 3 스퍼터링 법(Sputtering)스퍼터링이란, 진공 속

리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2018.12.08

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진공의 이해

Torr 주요 압력 단위 환산 관계진공의 단위 및 분류증착 장비증착 기술 - PVD (Physical Vapor Deposition) • 스퍼터링 (sputtering) • 진공 ... 진공의 이해진공이란 진공의 단위 및 분류 증착 장비 Magnetron Sputtering 플라즈마 기초 및 응용분야 플라즈마란? 상태 안정 플라즈마 플라즈마 적용 플라즈마응용 ... 표면차리기술 진공증착 물리적 증착- Sputtering Sputtering Evaporation 플라즈마 기술의 장래성 플라즈마 산업기술 세계시장 현황 및 전망 일반 진공 이론 진공

리포트 | 58페이지 | 2,000원 | 등록일 2018.06.10

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PVD의 종류와 특성, 응용분야

간단히 말해 금속판에 아르곤 등의 불활성 원소를 부딪쳐서 금속 분자를 쫓아낸 후 표면에 막을 부착하는 기술이라 할 수 있다. 진공이 유지된 Chamber내에서 스퍼터링 기체로 불활성 ... 에을 발생시키는 방법에 따라 D.C, R.F(Radio Frequency), microwave, ion beam 등이 있다. 가장 간단한 기술은 직류 2극 스퍼터링이며, 일반 ... 반드시 필요하기 때문이다.⑤ 마그네트론 스퍼터링마그네트론을 이용한 스퍼터링법은 타겟 뒤쪽에 N극과 S극을 설치하여 타겟에서 방출된 전자들이 타겟 주위에서 계속 나선운동을 하게 되

리포트 | 21페이지 | 2,500원 | 등록일 2015.01.08 | 수정일 2023.04.29

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sputtering (스퍼터링)

하고 있다.RF스퍼터링은 DC장치와 같이 보이나, bias 전압을 기판에 걸어줌으로써 접착성이 우수하고 치밀한 조직을 얻을 수 있는 장점이 있다.3) Magnetron s ... 물리 증착 기술 (PVD)Physical Vapor Deposition의 약자로, 말 그대로 물리적인 방법으로 증기 입자를 만들어 기판에 증착을 시키는 방법이다. 다시 말해 큰 ... 적으로 분리되어 다른 기판에 쌓이게 함으로 박막층이 만들어지게 하는 방법을 물리 기상 증착법이라고 한다. 크게 sputtering과 evaporation으로 나눌 수 있다.스퍼터링 (s

리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2015.12.07

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CIGS 개론

에 noise의 발생 원인이 될 수 있으므로 시스템적으로 noise filter나 절연체에 의한 차폐와 접지가 중요하다.그림3 RF sputtering system마그네트론 스퍼터링 ... 공정 과정9(3)특성14(4)장·단점156국내·외 개발현황177기술 상의 문제점 및 향후 방향18출처18태양전지의 종류Fig.1반도체소재에따른태양전지의분류단결정고효율(25~30 ... 제조 방법으로는 증발법, 스퍼터링 + 셀렌화, 화학적인 방법으로는 전기도금 등이 있고 각 방법에 있어 서도 출발물질 (금속, 2원 화합물 등)의 종류에 따라 다양한 제조방법이 동원

리포트 | 18페이지 | 2,500원 | 등록일 2014.02.08 | 수정일 2015.08.24

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무기합성 및 분석화학 실험 결과보고서(제올라이트)

밀도를 얻을 수 있다는 큰 장점을 지니고 있다. 현재 상용화되어 증착 공정에서 많이 사용되는 마그네트론-스퍼터링의 경우 입자의 이온화율이 10%를 넘지 못하는데 반하여 ICP ... -스퍼터링의 경우 약 80%까지 증가시킬 수 있는 것으로 보고된 바 있다.- ICP-Sputtering의 특징ICP는 기존의 증착장치에 유도결합식 플라즈마(이하 ICP로 기술)를 추가 ... 코일을 스퍼터링 장치 내부에 삽입하여 실리콘 기판 위에 금속물질을 증착하였는데 이때 금속의 이온화율이 기존의 스퍼터링법보다 월등히 증가하는 것이 발견되었다.내부 삽입형 ICP

리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2015.05.11 | 수정일 2022.09.29

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재공실 실험2 예보 - RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해

거나, 자석의 전류를 변화시키면 개선할 수 있다▶Magnetron Sputtering마그네트론 스퍼터링(magnetron sputtering)이란 발생된 플라즈마를 영구자석에서 발생 ... 하고 다충막(多層膜) 형성도 용이하다는 것등을 들 수 있다.▶Sputtering그림 1 Sputtering 기술의 모식도 스퍼터링(sputtering)법은 스퍼터링 가스를 진공분위기 ... 재료공학실험3 2013년 1학기예비보고서RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해1) PVD 증착방식인 Sputtering의 원리에 대한 이해▶PVD

리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.10.29

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