"이온빔 처리"의 검색결과 입니다.

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반도체 공정 광학현미경 증착 sem 분석 sputtering 금코팅 FE-SEM 이론적 배경 xrd

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"이온빔 처리" 검색결과 161-180 / 548건

무기재료 실험 정리

나 금속산화물 전구체를 포함시켜 방사하고 이를 후열처리 하여 원하는 금속 및 금속산화물을 제조할 수 있다. 특히 전기방사에 의해 제조된 금속산화물 나노구조체는 3차원적으로 네트워크 ... 를 나타내는 것으로 교질(膠質)이라고도 한다. 물질이 분자 또는 이온상태로 액체 중에 고르게 분산해 있는 것을 용액이라고 하는데, 이것에 대해서 보통의 분자나 이온보다 크고 지름이 1nm ... , 안전 수칙 [섬유제작 과정에서 열처리,,실험 과정]▶졸겔(sol-gel process)원리졸-겔법은 금속알콕시드(M(OR), M:금속, R:알킬기), 또는 금속염의 출발원료

시험자료 | 11페이지 | 2,000원 | 등록일 2014.12.10

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직접회로 작성 및 인쇄도포 방법 영문자료 번역

가.)3.5 E-Beam 레지스트폴리 (메틸 메타 크릴 레이트) (PMMA)는 전자빔 레지스트에 고전적이며 매우 높은 해상도의 장점을 제공하고, 처리 우수 필름 형성 특성을 가지며 다양 ... 보다 덜 효율적인 플라즈마 또는 반응 이온 에칭 마스크로 사실을 묻는 메시지가 있다. 전자빔은 더 민감한 발전 방향으로 감독 연구의 큰 조건은 반응 이온 에칭 저항을 통합 자료 ... 로 상대적으로 구분 재료이다. 감도 및 생산 처리량에 해당 미치는 영향이 부족하여 함께 PMMA 이러한 노볼락 (89,90) (그림 58)과 같은 방향족 물질로부터 형성되며 레지스트

리포트 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2013.06.15

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SEM과 X선 분광분석 (EDS)

-EDS)6. SEM 시료 전처리법5. 전자현미경과 X선 분광분석 (SEM-EDS)나노기술의 보편화 및 반도체/디스플레이 산업 등 산업의 미세화 및 고도화로 인하여 미세영역에서 화학정보 ... 으로 기술하고자 한다. 다양한 미세 분석 기술 (주1)입사빔측정신호분석기술전자Auger 전자Auger Electron Spectroscopy이차전자주사전자현미경(SEM ... 입자특성 X선입자가속 X선 방출 분광분석기 (PIXE)이차이온SIMS (Secondary Ion Mass Spectroscopy)저에너지 이온이차 중성자후이온화 이차이온 질량분석기

리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.05.22

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가속기의 종류 및 원리

으로 이동시키는 장치이다 . 이온원으로부터 생성된 이온 빔은 높은 전위차를 통과하며 로렌츠 힘에 의해 가속되게 된다 . 이렇게 가속된 이온 빔은 전자석 장치에 의해 방향을 바꾸 ... 가속기의 종류 및 원리 문영민가속기란 ? 가속기는 전하를 띤 입자 , 즉 이온을 생성하여 전기장을 이용한 높은 전위차를 걸어주어 가속시키고 , 이를 자기장을 이용하여 원하는 표적 ... MeV 정도까지 효율적으로 가속BetatronCyclotronSynchrotron중이온가속기 중이온의 가속 에너지에 따라 그 활용분야가 구별됨 100 ~ 500 MeV : 주로 치료

리포트 | 24페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.06.23

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반도체 솔라셀 기말발표

는 기술 .1. Wafer Cleaning 웨이퍼의 표면 유기물 , 이온 , 금속 물질을 화학적으로 제거하여야 하며 , 화학 처리 후에는 순수한 Deionized (DI) water ... , 전자빔 등의 에너지에 의해 진공분위기에서 금속물질을 증발시키고 , 플라즈마 , 이온빔 등의 에너지로 활성화시킨 후 , 기능성 소자에 원하는 조성 및 결정구조로 요구에 맞는 기능 ... 의 이온을 떨어뜨려 Silicon Dioxide 를 깍아낸다 . 플라즈마상태란 기체상태에서 더 큰 에너지를 주어 이온상태가 되는 것이다 . 즉 H2O 상태가 H2 와 O2 로 나뉘어 H

리포트 | 32페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.01.23

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분말야금법에 대한 총정리.

미세조직의 제어를 위해 열처리를 함 내마모성 향상 , 표면경도 상승 , 제품의 강도 향상부품으로 제조 후 , 조립을 위해 접합 공정을 거침 이온 빔 용접의 경우 재료의 변형을 야기 ... 하게 하여 금속학적으로 접합 이온 빔 용접 고 에너지 전자빔을 이용하여 접촉 부위를 국부적으로 용융시켜 접합 프레스 접합 접촉부위를 가압하여 소성변형을 일으켜 기계적으로 접합함미적 감각 ... 다 . 5.3 분말 단조소결후에 사용하는 곳에 따라서 추가 공정 필요 1) 기계적 가공 - 재가압 , 단조 , 압연 , 신선 , 인발 , 선반가공 등 2) 표면처리 - 내식성이나 내마모성

리포트 | 34페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.05.03 | 수정일 2021.02.16

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반도체소자와공정-1

나 원하는 분포 범위 만큼 doping하는 것이 어렵다.Diffusion furnace5) 확산공정과 이온주입공정이온 주입공정이란? 1) 이온들은 이온 빔을 이용하여 반도체 속에 주입 ... 된다. 장점은 불순물 양의 정확한 제어, 재연하기 편한 형태, 그리고 확산 공정과 비교했을 때 낮은 공정 온도이다. 2) 그러나 이온 주입시 격자 손상을 입기 때문에 열처리 ... 공정 4) 식각 공정 5) 확산 및 이온주입 공정 6) 박막 증착 공정 7) 테스트 공정 8) 패키징 공정1. 반도체 소자반도체란? 반도체란 도체와 절연체의 중간 성질을 갖

리포트 | 21페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.04.21

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[재료공학기초실험 A+ 실험보고서] 결정화유리

한 근거로 핵생성 및 입자성장 온도를 결정했는지를 설명하고, 핵생성 온도가 입자성정온도보다 낮은 이유를 설명하시오.- 핵생성 온도는 유리천이온도(T)보다 조금 높은 온도에서 열처리 ... ℃, *입자성장온도:650℃결정입자의 특성*형상: 부분결정화가 이루어짐생성결정의 광물명?결정화 실험※열처리조건 그래프 (유리) → 승온속도(2℃/min), 1100℃에서 1시간 유지※열처리 ... 100SEM사진 200lSEM사진 5000SEM사진 5000-1광학현미경 1-1광학현미경 1-2l광학현미경 1-3의 XRD pattern▶특기사항그래프에 비정질은 유리천이온도(Tg

리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2012.06.10

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[무기분석실험] 1.양이온 1족과 6족의 정성분석-결과

1. 실험날짜 : 2014년 03월 12일2. 실험제목 : 양이온 1족과 6족의 정성분석3. 결과 및 분석 :3-1. 양이온 제1족1) 미지시료를 준비한다.2) 미지시료 10g ... 를 가한다. 이때 침전물이 생기는지 확인한다.(백색)8) 미지시료에서 어떤 이온이 검출되었는지 알아본다.1족 미지시료←㉮①번 미지시료②번 미지시료③번 미지시료0.5M HCl원심분리 ... 3침전←㉲①번 백색침전②번 -③번 백색침전3-2. 양이온 제6족1) 미지시료1을 준비한다.2) 1)에 1M NaOH 세방울을 넣는다.3) 침전물이 생기는지 확인한다.4) 미지시료

리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2014.08.22 | 수정일 2014.09.14

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주사 전자 현미경 (SEM) 실습과 관찰

되고 있다. 주사전자 현미경은 전자빔을 시료 표면에 조사하여 튀어나오는 2차 전자를 이용하여 관찰하는 현미경을 말한다. 주사전자 현미경은 전자의 발생부인 전자총 부분과 전자를 모아서 ... 에 닿을 때까지 전자빔의 경로를 조절하는 비점보정 코일로 구성되어 있다. 시료실은 관찰하는 재료를 넣는 스테이지, 각종검출기, 시료교환장치, 시료를 조정하는 조종기 등 많은 것 ... 을 가진다. 그러나 모든 시료는 도전체여야 한다. 세라믹 같은 부도체의 경우는 1차 전자의 전하가 표면에 쌓여 주변과 방전하게 된다. 그래서 금속 이외의 시료는 이온 코팅기로 표면에 도전

리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.06.10

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나노발표-이온주입

) (4)상온 (5)공정처리량이 높다. (6)수평적 확산이 적다.이온주입의 단점(1)장비 구조 복잡 (2) 고전압, 고전류, 고진공, 방사능에 의한 위험성 (3)에너지에 의한 물리 ... 적 강제 주입방식으로 SI 격자에 손상을 주어, 이온주입 후 열처리(annealing)필요이온주입의 수학적 모델Ion implant versus diffusion ... 하면 특히 깊이 침입하는 현상. 결정격자내에서 원자의 규칙적인 배열로 인해 어떤 공간이 생긴다. 이온빔이 결정축과 평형한 방향으로 입사할 경우 불순물 분포 예측이 불가능해진다.웨이퍼

리포트 | 19페이지 | 1,500원 | 등록일 2012.03.14

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PVD (Physical Vapor Deposition), 물리 증착법

PVD 원리◎PVD란PVD (Physical Vapor Deposition)란 아크, 열, 전자빔 등의 에너지에 의해 진공분위기에서 금속물질을 증발시키고, 플라즈마, 이온빔 등 ... 에는 모재와 코팅 층 사이에 스퍼터링, 침투확산, 이온믹싱, 화학반응 등의 표면반응을 통해 경사가능(graded interface)의 개념이 확립되어 우수한 밀착력을 얻을 수 있다.처리 ... 에 상관없이 등가적으로 박막 형성에 적합한 낮은 에너지의 이온빔을 기판에 수송하여 박막을 형성하는 기술이다.⑤Resistive Heating가장 기본적인 증착방법이다. 텅스텐과 같은 녹는

리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.07.05

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Thermal Evaporation법을 이용한 박막의 제조 예비

의 특성이 나빠지는 것이 있다. 이것을 회복시키는데는 적당한 열처리가 필요하다. 더구나 스퍼터링장치에는 이온과 고속중성입자가 진공용기내벽에 충돌하기 때문에 증착장치에 비해 다량의 가스 된다. ... 에도 집적회로 디바이스에 있어서 배선간의 절연,또는 디바이스간의 전기적인 분리 등 디바이스의 구조재료로 사용되며, 또한 미세구조 디바이스를제작하는 단계에서 불순물의 확산과 이온주입, 또는 ... 에칭 등의 처리를 국부적으로 한정하기 위한마스크재료로 사용되는 등 많은 예를 들 수 있다.형 성 법산화법고온산화(dry, wet, HCl 첨가)저온산화(고압수증기 촉매 산소프라

리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.03.08

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14E-beam_lithography_&_Imprint

-blanking 처리과정으로 빔의 운동을 제한Beam Blanking Plates전자빔의 굴절은 빔이 샘플의 표면을 스캐닝하는데 쓰여진다 원하는 방향으로 빔을 조정하기 위해 ... Electron-beam lithography Imprint목차전자빔 노광기술이란? 전자빔 노광기술 시스템 구성 전자빔 노광 기술의 장단점 임프린트란? 임프린트 공정 나노 임프 ... 린트 (a) Thermal-type(NIL) (b) UV-NIL 임프린트 기술의 장단점 질의 및 응답전자빔 노광기술이란?10~100keV 의 높은 에너지를 갖는 전자 빔을 이용

리포트 | 26페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.18

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특수가공법

적 가공 2-5. 전해 연삭 2-4. 전해 가공 2-6. 방전 가공 2-8. 레이저 빔 가공 2-7. 와이어 방전 가공2 Contents 2-9. 전자 빔 가공 2-11. 입자제트 ... , EDG) 3) 자기부상 연마 (Magnetic float polishing) 1. 특수 가공법 열에너지 가공 ( 국부적 영역에서 고온의 열에너지 이용 ) 1) 레이저 빔 가공 ... (Laser Beam Machining, LBM ) 2) 전자빔가공 (Electron-Beam Maching, EBM) 3) 플라즈마 아크 절단 (Plasma-Arc

리포트 | 52페이지 | 10,000원 | 등록일 2012.11.29

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특수가공법

Grinding 등의 후처리 인건비 절감6.5 전자빔 가공 관련 회사http://www.diymeca.com/http://www.serontech.co.kr/http://www ... 가공 속도와 조건과의 관계5.8 와이어 방전가공기의 가공 방법(6)전자빔 가공-----------------------------------------------19p6.1전자빔 ... 정의6.2 전자빔 용접의 원리6.3 전자빔 용접의 장점6.4 전자빔 용접의 활용6.5 관련 회사(7)초음파 가공---------------------------------------

리포트 | 53페이지 | 8,000원 | 등록일 2012.11.29

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DC Magnetron sputtering

하고 음극인 표적 재료표면에 아르곤 이온이 충돌하는 이온폭격을 일으켜 표적재료 원자가 증기상으로 방출되게 된다. 물론 이온빔을 이용하여 스퍼터링을 수행할 수 도 있다.이 방법 ... DC Magnetron sputteringSputtering의 원리이온 스퍼터링은 에너지를 가진 입자에 의해 표면을 bomardment하여 이때의 운동량 교환으로 고체 표면 ... 으로부터 재료가 이탈, 방출되게 하는 과정이다. 그러므로 피처리물과 마주보는 표적 재료표면 (다이오드 상태)에서 무거운 불활성 가스인 아르곤 가스가 글로우 방전에 의해 플라즈마를 형성

리포트 | 12페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.12.24 | 수정일 2013.11.17

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서강대학교 디지털회로설계 HW1 Semiconductor Fabrication Process

etchant)를 이용하여 래핑에 의해 발생한 표면의 미세한 갈라짐이나 결함을 제거한다. 에칭시 사용된 산이나 부식액은 고순도 RO/DI 물로 처리하여 제거한다. RO/DI 물은 이온화 되 ... 한다.▲ Reticle Mask2. 마스크 제작(Photo mask) : 전자빔 설비를 이용하여 설계된 회로 패턴을 유리판 위에 그려 넣어 마크를 만든다. 각층의 Pattern을 CAD ... 를 사용하여 디자인한다. Reticle의 빈 곳에 크롬으로 코팅한 후, CAD에 의한 각각의 pattern은 레이저 패턴 발생기 또는 전자빔에 의해 Reticle로 전사

리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.04.12

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prescott microbiology 미생물학 2장 정리, 동덕여대 약대

처리 고정 전체적인 형태 를 그대로 유지 효소를 불활성화 , 세포 내 구조물을 이루고 있는 단백질을 파괴 화학적 고정 미세한 세포 구조나 비교적 크고 복잡한 미생물의 모양을 보호 ... 배경 , 밝은 시료이온 결합 염료 염기성 염료 메틸렌 블루 , 염기성 푹신 , 크리스탈 바이올렛 , 사프라닌 , 말라카이트 그린 양으로 하전된 작용기 존재 핵산 , 다수의 단백질 ... 전하를 띠는 산성 조건에서 염색이 잘된다단순 염색 simple staining 한 가지 염료로 염색하는 방법 간단하고 사용하기 쉽다는 장점 도말 – 고정 – 염료 처리 후 적당

시험자료 | 17페이지 | 1,500원 | 등록일 2015.02.03

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thermal evaporation법을 이용한 박막의 제조 레포트.

고 료)를 증기상으로 만들던 간에 코팅증 피처리물 표면에 생성된 에너지를 가진 이온으로 피처리물 표면을 활성화시켜 접착성을 크게 증가시킨 방법이다. 이들 모든 방법은 10-2～10 ... 스퍼터링은 코팅층의 합금성분과 피복율을 쉬게 조절할 수 있다. 특히 코팅층이 피처리물에 우수한 접착력이 요구되거나 피처리물이 온도에 따라 성질이 변하는 경우는 이온도금을 사용하는 편 ... 증발 장비로는 별로 사용되지 않는다. 전자빔 방식의 단점은 전하가 축적되어 증발율을 측정하는 장치와 간섭이 일어날 수 있으며 유동하는 전자가 피처리물에 전기적으로 축적될 수 있

리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.11.15

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