"마그네트론 스퍼터링 기술"의 검색결과 입니다.

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스퍼터링 RF-magnetron sputtering 박막공정 evaporator ito glass PVD CVD rf sputtering 증착

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"마그네트론 스퍼터링 기술" 검색결과 41-60 / 113건

박막증착 개론

, 즉 이온화율에 가장 큰 영향을 받는다. 플라즈마 밀도를 향상시키기 위해 연구된 것이 마그네트론 sputtering 기술이다. 그러나 마그네트론 sputtering은 플라즈마를 타겟 ... magnetron 스퍼터링 장치가 반응성 스퍼터링 장치로 이용될 수 있다. 어떤 물질이든지 반응성 스퍼터링 동안 박막은 반응성 가스의 입자가 금속 박막에 섞여 있는 고용체 합금(solid s ... cathode magnetron sputtering(HCM)HCM은 magnetron sputtering의 종류중의 하나다. magnetron sputtering은 강한 자기장

리포트 | 9페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.11.26

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판매자 표지

RAM(Random Access Memory) - DRAM, SRAM, FeRAM(FRAM), MRAM, PRAM

.4 MRAM (Magnetic Random Access Memory)1.2.5 PRAM (Phase-change Memory)1.3 RAM의 발달 과정2. DRAM (Dynamic ... SDRAM)2.2.5 Rambusⓡ DRAM(RDRAM)2.3 DRAM의 다양화 기술2.3.1 저전압 동작2.3.2 Multi-I/O 구성2.3.3 Memory Interleaving ... 과의 Integration2.3.9 Protocol DRAM2.3.10 Embedded Memory Logic2.4 DRAM 기술 동향2.5 DRAM의 산업 전망3. SRAM

리포트 | 64페이지 | 5,000원 | 등록일 2012.12.22

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Reactive magnetron sputtering을 이용한 ZnO박막증착

)132.2.4. 스퍼터링을 이용한 박막형성의 영향요소142.2.5. RF 스퍼터링152.2.6. Magnetron 스퍼터링182.2.7. RF 마그네트론 스퍼터링192.3. 플라즈마 ... . 광학적 특성72.2.5. ZnO 박막 제조 기술82.2. 스퍼터링82.2.1. 스퍼터링의 원리82.2.2. 스퍼터링의 특징122.2.3. 스퍼터율(sputter yield ... 223. 실험 방법 및 분석243.1. 반응성 RF 마그네트론 스퍼터링 실험 장치243.2. 실험 방법273.3. 분석 장치313.3.1. SE(Spectroscopic

리포트 | 57페이지 | 3,500원 | 등록일 2008.12.06

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스퍼터링

의 경우 열전도성이 좋지 않아 증착속도가 제한된다. 그래서 재료로부터 화학반응을 이용하여 절연막을 증착시키는 방법도 사용된다.3. 마그네트론 스퍼터링 (Magnetron ... Sputtering)마그네트론 스퍼터링 기술은 발생된 플라즈마(아르곤 등의 비활성가스)를 영구자석을 이용해 만든 자기장을 이용해서 수백볼트의 전압으로 가속시켜서 표적재료에 스퍼터링 시킴 ... 재료 공학 실험 예비레포트Sputtering...제출일 : 2006년 4월 13일◎ Sputtering 의 종류1. 직류 스퍼터링 (DC Sputtering)스퍼터링 방법

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.09.21

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금속 산화물 및 질화물 합성 (예비)

조절할 수 있다.또한 rf 마그네트론 스퍼터링은 전원으로 rf파를 가해주는 것으로 자장이 타겟표면에 가해지면, plasma형성이 용이하고 이차전자에 의한 박막표면의 손상도 줄여줄 수 ... 게 기대되고 있다.종래의 기판용 재료는 알루미나가 주류이었지만, 알루미나와 비교할 경우 질화알루미늄은 위에 기술한 특성 이외에도 곡강도가 높고, 경도가 낮아 가공성에 있 ... 들의 기체상이 기판으로 이동하여 박막이 형성된다. 스퍼터링에 의한 박막의 제조 방법은 기타의 다른 박막의 제조법에 비해 비교적 낮은 온도에서 증착이 가능하므로 증착층과 기판사이의 열

리포트 | 18페이지 | 2,000원 | 등록일 2012.04.04

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09Dry_Etching_&_ECR-RIE

프로세스의 핵심 기술 초미세 가공 기술 2. 전면 식각 : 웨이퍼 표면의 청정화와 결정 결함의 평가 a. 웨이퍼 표면의 청정화 : 연마나 절삭 등의 기계적 가공으로 생긴 변형층을 제거 ... 장비가 이 부류에 속한다 . 화학적으로 증강된 물리적 스퍼터링 손상에 의해 증강된 화학 반응성 화학적 스퍼터링 ( 즉 , 이온충격은 화학반응이 진행될 에너지를 제공 ) 중 어느 하나 ... 다극성 자석 ( multipole magnets) 에 대한 플라즈마 형성 방식이 제시되었지만 이것 또한 마이크로파 / 플라즈마 결합이 복잡한 단점을 지니고 있다 ) 전자가 E

리포트 | 25페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.18

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PECVD / SPUTTER

이 스퍼터링 기술이다.왼쪽 그림을 보고 설명하자면, 예를 들어 운동 에너지를 갖고 있는 이온이 음극 표면의 수천 개의 격자형 원자와 격렬하게 충돌하여 제 1층 또는 제 2층에 있는 원자 ... 은 평판형 마그네트론 스퍼터링의 그림이다.평판 캐소드의 뒤쪽에 영구 자석을 둔다. 자기극은 N과S를 그림과 같이 배치한다. 자기장의 세기는 캐소드(음극)의 앞면에서 (자기력 선도 ... 를 쫓아낸 후 표면에 막을 부착 하는 기술 Sputtering의 원리는 고전압이 인가된 증착할 금속으로 만든 타겟과 Anode 전극 사이에 Ar가스를 주입하고, 플라즈마 방전을 이용

리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.05.12

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ITO Glass에 대한 소개와 쓰임

는 것처럼 1~2원자가 증기상으로 방출되어 증발효율이 낮은 편이나, 마그네트론을 이용하여 스퍼터링 비를 증가시키는 방법이 개발되었다. 다른 진공 코팅방법에 비하여 작업조절이 용이 ... .ITO 필름의 제조● ITO 필름은 거의 대부분 PVD, 전자빔 진공증착 또는 스퍼터링법으로 표면에 흡착시켜 만든다.● 박막을 형성시키는 방법에는 크게 PVD(Physical ... Vapor Deposition)법과 CVD(Chemical Vapor Deposition)법이 있는데, 특히 PVD법은 증착, 스퍼터링, 이온플레이팅법으로 나누어지며 증착에는 저항열

리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.05.14

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LOW-E 유리

분-E 유리Hard Low-E 유리제조방법-마그테크론 스퍼터링(Magnetron Sputtering)-표면에 Ag, Au 등과 같은 적외선반사특성이 우수한 금속을 진공증에서 얇 ... 적 안정성이 뛰어남유리 공정도주석조 확대도건축재료와 구법 4. Low-E 유리의 제조공법4-2. 진공 증착밥(Magnetron Sputtering, Soft-coationg)√진공 ... 코팅이 가능하고 색상, 투과율,반사율 조절이 가능-유리기관 접착력과 화학적 내구성이떨어짐→현재는 질화규소, 산화티탄등의 사용, 추가코팅으로 내구성증진시켜 문제해결(기술발달)-적절

리포트 | 19페이지 | 4,000원 | 등록일 2012.06.28

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플라즈마 공정

는 않음 공정상 정밀제어와 주의 요함 ▶Magnetron 스퍼터링 - 소스 타겟 뒷면에 영구자석이나 전자석을 배열하여 음극에서 방출되는 전자를 국부적으로 모아 Ar기체 원자 ... 화여기와 반발플라즈마의 특성전기적 특성 화학적 특성 물리적 특성 자기적 특성DC스퍼터링DC스퍼터링 (D.C Glow Discharge sputtering) →가장 간단한 스퍼터링 ... 구조로서 전도성 물질의 스퍼터링에 사용된다. 이 구조의 가장 큰 단점으로는 비전도성 물질의 스퍼터링이 불가능하다는 것이지만 가장 일반적으로 손쉽게 사용할 수 있다는 것이 장점이

리포트 | 31페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.01.16

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플라즈마

.스퍼터링 (sputtering)스퍼터링 장치 I원리와 구성Sputtering은 실로 많은 부분에 사용되어지는 없어서는 안 될 기술이라고 할 수 있다. 스퍼터링이란 간단히 말 ... 에 R 축전 전기장은 ICP에서 플라즈마 초기 방전(ignition)에 기여하기도 하지만 플라즈마와 안테나 사이에 존재하는 유전체를 스퍼터링 현상에 의하여 손상을 주고 플라즈마의 균일 ... 한 플라즈마 변수를 찾기 위해 수 많은 방법들이 시도되어 왔으며 지금도 많은 소스들이 시험되고 있다. Magnetic Enhanced ICP(MEICP), Low or High

리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.11.01

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sputtering

다. 낮은편이나, 마그네트론을 이용하여 스퍼터링 비를 증가시키는 방법이 개발되었다. 다른 진공 코팅방법에 비하여 작업조절이 용이하고 Sputter cleaning으로 코팅층과 피처리 ... . Circular, planar magnetron cathode schematic, illustrating the magnetic confinement and the resulting ... -beam) 또는 RF (Radio-Frequency) 스퍼터링(sputtering) 등을 이용해 왔으나 최근에는 엑시머 레이저를 이용하는 방법의 개발이 이루어져 있다. 엑시머

리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.03.24

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스퍼터링

는데, 실용화되어 공업기술로서 넓게 이용되게 된것은 1930 년 이후라고 한다.스퍼터링의 기본1. 글로우 방전양측글로양극암부아스톤암부음극글로쿠룩스암부부글로페러데이암부양광주전 위직류 ... : 얻기 쉽고, 다른물질과 반응이 어렵고, s가 높다는점기본적인 스퍼터링 장치2극 직류 스퍼터링 장치고주파(R.F) 스퍼터링법마그네트론 스퍼터링법배향타겟 스퍼터링법2극 직류 스퍼터링 ... 에 의해 스퍼터링 이 일어난다방 법자장발생코일(~100G)고주파전원냉각수 배관셔터기판직류배기계탱크회로 매칭박스마그네트론 스퍼터링법전장및자장이 존재시 타겟에서의 전자의 운동전자들은 작

리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.20

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DRY ETCHING

) 에 위치벽 특성을 만들어낸다 . 애노드에는 스퍼터링이 없다 . 압력은 0.1torr 이하로 비교적 낮다 .( 장비 )MERIE 자기적으로 강화된 반응성 이온 식각 반응기인 마그네트 ... 한 반응성 화학 공정과 물리적 공정에서 웨이퍼 표면으로부터 물질을 제거하기 위한 기술이다 . RIE 는 그림에 표시된 것처럼 웨이퍼가 RF 가 인가되는 전극 (cathode

리포트 | 26페이지 | 3,000원 | 등록일 2013.05.21

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SIMS (Secondary Ion Mass Spectrometry)

NEXAFSNear-edge EXAFSX선 흡수단 근접 미세 구조NMRNu clear magnetic resonance핵자기 공명법RAMANRaman spectroscopy라만 분광법 ... 을 알아내는 기술.기체나 액체, 복잡한 유기물 질과 화학혼합물 등을 이온화시켜 이온화된 여러 성분의 분자이온을 분리하여 각 분자이온에 관한 성분 및 조성을 얻는 분석법...PAGE:7 ... 스퍼터링(Sputtering)고속의 일차이온이 고체시료 표면에 충돌하게 되면 충돌에너지가 시료 표층부의입자들에 전파되어 일부 입자들은결합팔(bonding)을 끊고 시효에서방출되는 현상

리포트 | 32페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.06.29

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[공학기술]박막증착 기술보고서<스퍼터링&CVD>

의 하나이다. 이론적으로 배웠던 스퍼터링의 종류에 DC planar diode 스퍼터링, Triode 스퍼터링, Magnetron 스퍼터링, RF 스퍼터링, Ion beam 스퍼터링 ... 기술 등이 있다. 각각의 스퍼터링 기술 마다 공정의 특성이 달라 그에 따른 공정을 선택하여 제품을 생산하고 있다. 이와 같은 스퍼터링 공정 중 대표적인 스퍼터링 기술 ... 은 Magnetron 스퍼터링법 이라고 할 수 있는데 Sputtering Target 뒷면에 자장을 인가하여 Plasma 내의 전자가 자장의 방향과 수직으로 나선운동을 하면서 Target 주위

리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.06.14

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Sputter Deposition

magnetic confinement and the resulting electron trajectories.(4) magnetron sputtering system ... . Structure-zone diagram showing schematic microstructures of films deposited by cylindrical magnetron s ... pu분의 화합물 target은 sputtering yield가 작고 이차 전자의 방출량이 많다.)?sputtering 기술, 물질, 증착조건에 의존하므로 target물질에 따라 막

리포트 | 21페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.11.02

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로이 유리(Low-E Glass)

생리Hard Low-E 유리제조방법-마그테크론 스퍼터링(Magnetron Sputtering)-표면에 Ag, Au 등과 같은 적외선반사특성이 우수한 금속을 진공증에서 얇게 코팅→복 ... 확대도건축재료와 구법 4. Low-E 유리의 제조공법4-2. 진공 증착밥(Magnetron Sputtering, Soft-coationg)√진공증착법 이란?: 반사유리의 제조공법 ... 이 가능하고 색상, 투과율,반사율 조절이 가능-유리기관 접착력과 화학적 내구성이떨어짐→현재는 질화규소, 산화티탄등의 사용, 추가코팅으로 내구성증진시켜 문제해결(기술발달)-적절한 차폐계수

리포트 | 18페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.09.20

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ITO

은 Ni 층을 사용할 수 있는 가능성을 확인했다. 니켈 금속 박막층은 스퍼터링 기술로 증착되었고 다른 증착 시간에 따른 전기적 성질과 광학적 성질이 조사하였다. 입방 저항과 투과도 ... 여 plasma형성용 전자방출 전극을 이용. 전자와 기체의 충돌을 촉진시킴으로써 낮은 Ar압력하에 Sputter할 수 있게 하거나, magnetron방식을 사용하여 해결할 수 있 ... 에 적합함3) Magnetron SputteringTarget(Cathode) 뒷면에 영구자나 전자석을 배치함으로써, 전기장에 의해(RF or DC) cathode로부터 방출되는 전자

리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.11.05

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TCO에 대한 기초 내용 및 현재의 기술동향, 관련 특허 조사 및 분석, 시장 및 기술동향에 대한 전망 발표 자료

electrode in many equipment08How make a TCO ?Equipment (For deposition)DC/RF SputterRF Magnetron SputterIon ... 10Critical technology11ITO – 기술조사 분류표12Patent analysis - ITO target 개선 특허ITO target etching process ... 정질 상태에서도 잔류물 생성을 방지. 참고 특허 酸化インジウム-酸化セリウム系スパッタリングタ [ゲット及び透明導電膜及び透明導電膜の製造方法 (산화인듐-산화세륨계 스퍼터링 타겟 및 투명

리포트 | 20페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.03.02

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