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"마그네트론 스퍼터링 기술" 검색결과 81-100 / 113건

  • [나노입자]나노 입자 제조 및 분석 방법
    puttering법은 다른 디지털 회로에 noise의 발생 원인이 될 수 있으므로 시스템적으로 noise filter나 절연체에 의한 차폐와 접지가 중요하다.- 마그네트론 스퍼터링 ... 나노 크기의 입자를 제조하는 방법과제조된 입자를 어떻게 분석할 것인가나노 입자의제조와 분석과 목 명:나노 기술 입문학 과:생명분자공학부응용화학과학 번:200421810이 름:김 ... 배 영제 출 일:2006년 5월 3일 (수)담당교수:김 재 호 교수님< 목 록 >1. 나노 입자의 제조1.1 나노 기술의 접근 방법? Top-down approach? Bottom
    리포트 | 32페이지 | 2,500원 | 등록일 2006.05.28
  • 반도체 집적소자 제조 단위공정 ( 금속박막공정, 사진공정, 식각공정 )
    성)1. 금속박막공정박막 증착의 기술로써, 기판위에 패턴을 나타내기 위해 금속 막을 입히는 공정이다. 이때 박막을 입히는 방법은 크게 두 종류로 나뉜다. CVD와 PVD의 방법인데 ... 식각 기술을 이용하여 deposition되어 있는 film을 미세 회로 형상으로 구현하는 일련의 과정을 뜻한다. 이 외에 부가적인 공정으로는 plating(도금), dicing ... 의 방다. 또한 step coverage가 좋아서 균일한 성막이 가능하다. sputter 방법이 갖는 단점인 낮은 성막 속도는 magnetron 이나 ECR (Electron
    리포트 | 16페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.11.06
  • [자연과학]박막과 MEMS
    다. 마그네트론 스퍼터링 장치는 DC 스퍼터링 장치와 비슷하지만 cathode에는 영구 자석이 장착되어 target 표면과 평행한 방향으로 자장을 인가해 준다. 이러한 영구 자석이 장착 ... 의 특수한 표면막으로서 전자 장치의 부품에 이용하며, 금속 박막이나 유전체 박막은 종래의 저항이나 콘덴서를 대신 사용하여 최소형화 기술에 공헌하고 있다. 그렇다면 MEMS는 무엇 ... 소형 시스템이나 초소형 기계를 의미한다. 의료분야를 비롯한 기계분야 등 여러방면에서 폭넓게 쓰일 수 있는 기술이기 때문에 현재 많은 사람들이 연구하는 분야 중 하나이다.박막을 만드
    리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.06.11
  • [공학] 건식도금에 대하여 CVD와 PVD
    글로방전은 직류가 아니라도 전자를 나선상태로 만들어 주면 (고주파나, 마그네트론 등으로) 발생시킬 수 있다.음극스퍼터링의 종류는 다음과 같다.(1)직류스퍼터링(DC s ... 건식도금에 대하여건식도금은 CVD(chemical vapor deposition)과 PVD(physical vapor deposition)으루 크게 분류할 수 있다. 건식도금기술 ... 은 소재(基板:기판에 엷은 금속 또는 금속화합물을 피복시킨다는 의미에서 박막(薄膜)제조기술(thin film technology)이라는 말을 많이 사용하고 있다.이 중 CVD 법
    리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.06.01
  • [반도체공정] 스퍼터링
    The process of work마스크 제작ITO 절단기판 세척건 조스퍼터링 증착PR 도포에 칭UV 노광현 상Soft bakingHard bakingN2 ... gasSputtering 이론(1)스퍼터링이란? 플라즈마(Plasma)상태에서 이온화된 양이온 가스(Ar+)가 타겟에 강하게 충돌하여 momentum transfer에 의한 타겟물질이 기판위에 증착 ... 되는 원리를 이용한 물리적 증착방법의 하나 스퍼터링 방법 다이오드 DC 스퍼터링 다이오드 RF 스퍼터링 Triode 스퍼터링 Magneteon 스퍼터링스퍼터링의 원리Sputtering
    리포트 | 24페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.06.22
  • CVD법에 의한 CNT의 증착 및 특성
    Filament 화학기상증착법(HF-CVD)162-4-3. 수소원자의 역할172-5. 스퍼터링(Sputtering)183. 실험 방법 및 분석193-1. Magnetron ... 배향 합성이 어려운 단점이 있다. 최근에 부각되어진 합성기술로 화학기상증착법(CVD ; chemical vapor deposition)이 있다. CVD법은 열CVD법, D 플라즈마 ... 으로부터 정성 및 정량분석, 그리고 화학결합 상태 등을 분석할 수 있다.4. 결과 및 고찰4-1. Si wafer의 전처리Magnetron Sputtering에 의해 철 박막을 증착
    리포트 | 73페이지 | 3,500원 | 등록일 2008.05.10
  • Thermal evaporation system
    은 공간의 기체압력이 대기압보다 낮은 상태, 즉 분자밀도가 약2.5´1019분자/cm3보다 적은 상태를 의미한다.진공의 기술요소진공을 응용하기 위해서는 지상에 인위적인 진공을 발생 ... 시키고 제어해야 한다. 이런 진공기술의 요소는 발생기술, 재료기술, 가공 및 부품기술, 평가 및 제어기술로 대별되며 이 네 가지 요소가 합쳐져서 진공 응용기술이 성립된다.진공 ... 의 특성진공은 다음과 같은 특성이 있으므로 전 과학기술 분야와 산업분야에서 진공기술이 응용되고 있다. 압력차에 의한 힘의 발생, 극청정 환경 제공, 단열효과, 입자의 장거리 비행가능
    리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.05.16
  • [박막공학] Sputtering
    , Magnetron Sputtering, Bias Sputtering, Ion Beam Sputtering 등이 있다.Vapor-phase epitaxy의 발전을 위한 많은 기술 ... 1. 서론오늘날 많은 종류의 필름 증착 방법들이, Microcircuit 기술에 사용되고 있다. 그리고 계속해서 다양한 기능들의 수행 범위를 넓히고 있 ... 증기 증착법은 반응을 일으키고 끝내는것에 에너지의 개입 방법에 따라 구분 될 수 있다. a) 열적 활성화 반응으로 열이 저항체나 rf, 적외선 가열 기술에 의해 공급되는 방식
    리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.12.22
  • [전자재료]PVD&CVD에 대하여
    c지 이유 때문에 대부분의 실리콘 기술에서는 스퍼터링으로 대체되고 있다고 한다. 첫째는, 뒤에서 다루게 될 Step coverage라고 불리는 표면의 요철문제를 해결하는 능력때문 ... 에 그렇고, 두번째로 이베포레이션으로는 잘 제어된 합금을 만들기가 어렵다고 한다.어떤 Ⅲ-Ⅴ족 합성 기술은 이베포레이션이 표면 요철 극복력이 부족한 점을 장점으로 사용하기도 한다 ... 용해된 후에느 빨리 떼어낸다. 이런 기술은 합금을 형성하기 위해 사용되기보다는 여러가지 얇은 금속에 사용된다. 다층은 식각하기가 어렵지만 Lift-off로 교묘히 극복해낸다
    리포트 | 35페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.08.07
  • [박막] RF 마그네트론 스퍼터링을 이용한 ZnO박막에 관한 연구
    W/cm2)-100 W(1.05 W/cm2)이었으며 기판은 가열하지 않았다. 또한 DC 마그네트론 스퍼터링법으로 증착한 Al을 이용하여 전극폭 8 ㎛의 IDT(Inter ... 한 기술에 관한 연구와 저 삽입손실에 적합한 박막형 압전재료를 이용한 SAW 필터에 대한 연구가 병행되고 있다.대표적인 박막형 압전 박막은 ZnO박막을 들 수 있다. ZnO ... )석하고자 하였다.2. 실험 방법실험에서는 Fig. 1과 같이 RF 마그네트론 스퍼터 장치를 사용하여 ZnO 박막을 제조하였다. 본 장비는 타게트의 효율과 제조한 박막의 평활도
    리포트 | 17페이지 | 3,500원 | 등록일 2004.12.05
  • CVD&PVD
    기판의 온도가 상승하는 등의 불리한 점이 있어 실용화 되지 않았으나, Magnetron Sputtering 기술이 개발되어 위의 문제점들을 해결하여 반도체 소자 제조의 배선 형성 ... 기 안으로 주입되면 열이나 플라즈마 등으로부터 에너지를 받게 되어 분해되는데, 이때 원하는 물질이 기판 위에 도달하여 막을 형성하는 기술이다. 화학적 기상 성장을 이용하는 박막 ... Deposition)PVD에 해당하는 증착법에는 스퍼터링 (Sputtering), 전자빔증착법 (E-beam evaporation), 열증착법 (Thermal evaporation), 레이저
    리포트 | 5페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.05.01
  • [박막공학]여러가지 박막 제조 공정
    차개 요 여러가지 박막 제조방법 분자선 에피탁시(MBE) Supttering 화학기상 증착법(CVD) 여러가지 증착법의 차이개 요박막 공정의 정의 박막 증착 기술을 이용 원하는 형상 ... ECR 플라즈마 CVDPVD(물리적 증착 방법) * 진공 증착 저항 가열 증착 전자빔 가열 증착 * 분자선 에피택시 * 스퍼터증착 직류스퍼터 증착 고주파 스퍼터 증착 마그네트 ... 작용들을 통해 새로운 층을 생성함.Sputtering스퍼터링의 정의 고체의 표면에 고 에너지의 입자 표면원자와 충돌 고체 표면의 원자 분자를 표면으로부터 제거하는 것 글로우 방전
    리포트 | 30페이지 | 3,000원 | 등록일 2005.11.16
  • 포토리소그라피(photolithograpy)공정의 기본과 금속배선공정인 무전해, 전해도금의 기초 및 원리
    Fabrication)Ⅱ. 금속 배선 기술1. Sputtering1.1 Sputtering의 개요- 스퍼터링은 전자 박막재료 증착 과정 중 하나인 Physical Vapor ... Photolithography 와 금속 배선기술Photolithography and electrochemical deposition techniquesAbstract본 보고서 ... 에서는 TFT-LCD의 제조 공정의 기초 단계 중 하나인 Photolithography 공정에 대하여 자세히 다루고, 다음으로 금속 전기 배선 기술인 sputtering 기술과 도금
    리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.17
  • [공학]디스플레이 재료및 공정
    Contents (목차)1. 진공공정(Vacuum Process)2. 디스플레이 및 반도체 전체공정3. 박막공정기술(Thin film process)1)CVD - PECVD2 ... 되고 있에 ‘장치’를 붙이면 되는 것이다.박막공정기술(Thin film Process)박막형성기술은 반도체 제조공정 중에서 가장 다양성이 풍부한 분야로서, 그 장치도 방식과 원리에 있 ... 어 매우 다양화되어 있다. 용도는 기판공정뿐만 아니라 배선공정에 있어서도 앞으로는 많은 장치가 필요하게 될 것이라고 여겨진다. 박막형성기술이 중요한 이유는 형성된 막이 그대로
    리포트 | 33페이지 | 2,500원 | 등록일 2006.02.22
  • [반도체재료] 박막증착
    이온화를 계속하? 한 방식으로, 스퍼터링이 집중적으로 일어나 이온화를 유발하고, 이로 인해 피처리물의 피복율이 크게 증가된다.마그네트론 효과를 증가시키기 위하여 다양한 기하학 ... 가 원통형 음극을 싸고 있는 플라즈마내에 잔류하게 하여 음극이 거의 균일하게 마모되도록 한다.마그네트론 스퍼터링은 다른 방식에 비하여 많은 면적을 동시에 피복시킬 수 있으며, 다른 ... 적 효과를 나타내며, 이런 현상을 이용하여 각종 전기소자, 집적회로, 광학부품 등 여러 응용분야에 이용되고 있다.산업분야에 사용되는 박막기술은 수평 및 수직자기 기록매체, 광자기 기록
    리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2002.05.10
  • [세라믹공학] RF Magnetron Sputtering 법에 의한 (Ba,Sr)TiO3 박막의 제조 및 전기적 특성평가
    고 피로현상이 없고 누설전류 특성도 낮게 유지 될 수 있음페로브스카이트 구조(Ba,Sr)TiO3 의 기본물성실험목적RF 마그네트론 스퍼터링 박막을 기판위에 증착 ((Ba0.5,Sr0 ... RF Magnetron Sputtering 법에 의한 (Ba,Sr)TiO3 박막의 제조 및 전기적 특성평가발표자 :서론DRAM(dynamic randon access memory ... 낮은 누설전류가 필요서론서론 충분한 축적용량 확보를 위한 방법 1.막의 두께 감소⇒ 터널링으로 인한 누설전류의 우려 2.단면적 증가 ⇒ 물리적 한계 기술과 공정상의 어려움 3
    리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.05.16
  • [정보저장기기]자성박막기술의 정보저장기기 응용
    를 이용한 초고밀도 기록/저장 기술2.1 재생 헤드용 거대 자기저항 기술Fe/Cr다층박막에서의 50%이상의 거대자기저항 효과가 학계에 보고된 이후 IBM에서 스퍼터링 공정을 이용 ... AbstractAt present longitudinal magnetic recording systems are the basis of all low cost high ... as to where the fundamental physical limitations of longitudinal magnetic recording may lie. In
    리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2004.12.29
  • 박막의증착
    1.실험목적신소재 개발의 새로운 명제로서 재료에다 한 물리량을 다른 물리량으로 변환하는 기능을 부여하는 기능성 재료의 개발은 고도의 첨단기술과 밀접히 관련된다. 신소재 개발 ... 의 일환으로 각종 소재가 박막의 형태로 여러가지 목적에 응용되게 되었고, 기능성으로서 경도, 내부식성, 열전도성이 요구되거나 전기적, 광학적 성질을 중요시하는 경우가 첨단산업 기술면 ... 에 크게 부각되고 있다. 박막형성 기술의 대표적 방법으로 CVD(Chemical Vapour Deposition), PVD(Physical Vapour Deposition)법 이 있
    리포트 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.12.26
  • 진공증착 (Evaporation)
    스퍼터링(Magnetron Sputtering)라) 이온빔 스퍼터링(Iom-beam Sputtering)마) 중성입자 스퍼터링(Neutral-particle Sputtering)2RF ... Voltage Electron Beam Evaporation)3) 아-크 증발(Arc Evaporation)4) 마그네트론 증발(Magnetron Evaporation)5) 이온빔 증발 ... 물질의 표면에 붙게하여 얇은 피막을 형성시키는 방법을 말하며, 도금 물체는 금속이나 비금속 모두 가능합니다.{또한 진공증착, 특히 물리증착법(PVD)은 기존의 표면처리강판 제조기술
    리포트 | 11페이지 | 2,500원 | 등록일 2002.04.10
  • [박막 증착] PVD의 원리와 종류
    반응을 얼마나 효과적으로 하느냐에 따라 금형과 공구의 성능과 수명을 올릴 수 있다.그 동안 PVD기술의 발달은 효과적인 공정기술의 개발로 이어져 많은 진전을 이루고 있으며, 자동차 ... 와 코팅층 사이에 스퍼터링, 침투확산, 이온믹싱, 화학반응 등의 표면반응을 통해 경사가능(graded interface)의 개념이 확립되어 우수한 밀착력을 얻을 수 있다.처리온도가 고온 ... yield가 높다.② reactive processDC diode, RF diode, triode, magnetron, modified RF magnetron sputtering다음 두
    리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.01.18
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2025년 10월 11일 토요일
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