스퍼터링

소개글

스퍼터링에 대한 PPT 자료 입니다.

목차

PVD and CVD
스퍼터링이란....
스퍼터링의 기본 원리
스퍼터링의 종류

본문내용

고체의 표면에 고에너지의 입자를 충돌시키면, 그 고체 표면의 원자 · 분자가 , 그
러한 고에너지 입자와 운동량의 교환하여, 표면밖으로 튀어 나오게 된다. 이러한
현상을 스퍼터링 현상이라고 부르고 있다. 이 현상은 1842년 Grove에 의해서 발
견되고 박막에의 이용은 1870 년대부터 행해져 왔는데, 실용화되어 공업기술로서
넓게 이용되게 된것은 1930 년 이후라고 한다.

스퍼터링률(sputter yield)이란, 정이온 1개가 음극에 충돌할 때, 그것이 1개당 평균 몇 개의 원자 또는 분자를 음극에서 충돌하여 내보낼수 있을까를 나타내는 량이다.
스퍼터링률에 영향을 주는 가장 큰 요인 : 정이온의 가속 전압 V이다.

특 징
가장 간단한 방법
방전시 가스의 압력이 높음
기판을 타깃에 근접
: 타깃의 스퍼터링 원자의 가스에 의한 확산이 큼
타깃의 열방사, 2차 전자에 의한 온도상승이 크다
방전이 불안정
절연체의 스퍼터는 불가능
: 정이온의 방전때문

장치 구성
- 도입구 : 방전용의 가스 주입
미조정의 리크코크,
고압전극 : 글로방전을 일으킴
- 저진공계 : 진공을 측정

특 징
- 방전은 안정하다
- 비교적으로 낮은 압력에서도 지속
- 고주파 방전으로 생긴 이온에 의해 스퍼터링

참고 자료

없음