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sputtering 금코팅 sputtering 투명전극 스퍼터링 dc 스퍼터 장비 IGZO 반도체 공정 식각공정 진공펌프
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"스퍼터" 검색결과 241-260 / 285건

  • 자료 표지
    [재료공학]SBT 박막제조와 누설전류 정전기용량 측정 결과 보고서
    는 2000Å으로 20분 동안 증착한다. DC 스퍼터링은 특성은 좋지 않게 나타나지만 스퍼터 속도가 좋다. 그리고 스터러링 할 때 진공을 만들어야 하는데 그 이유는 Si위에 Ti
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    | 리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.11.19
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  • 자료 표지
    ZnO 단결정 박막 분석
    다. 스퍼터에서 700℃에서 작동압력 15mtorr에서 증착하였다. 내부의 gas는 Ar 20sccm), O2 10sccm으로 혼합기체 분위기를 조성하였다. ZnO 시료를 타겟으로 하
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    | 리포트 | 10페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.12.31
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  • 자료 표지
    [재료과학]전기도금실험(도금의 종류)
    , 스퍼터 입자의 수가 적으므로, 도금속도가 느리다.- 이온 도금 ⇒ 직류 이온화, 고주파 이온화, 복합법; 증발된 입자가 플라즈마 속을 통과하면서 이온화하고 스파터와 같은 고에너지
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.07
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  • 자료 표지
    SiO2 박막의 식각 및 PR 제거_예비
    이 hing), 반응이온에칭(Reactive Ion Etching) 등으로 나뉜다. 플라즈마에칭은 플라즈마가 채워진 공간에 기판을 담그는 방식이고, 스퍼터 에칭은 아르곤(Ar)과 같
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    | 리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.11.07
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  • 자료 표지
    전기주조가공
    다.스퍼터 증착이나 진공증착에 의한 방법 : 고가의 장치를 필요,장치의 크기에 따라서 모형의 치수가 제한, 고온의 상태에서 모형으로부터 휘발성분이 나오기 쉬운 것에는 적용할 수 없
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    | 리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.07.01
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  • 자료 표지
    [반도체공학]박막증착
    (patterning)습식식각건식식각-플라즈마식각스퍼터 식각반응성 이온 식각(RIE)박막처리(pre/post processing)이온주입(ion implantation)]확산(diffusion ... 스퍼터될 수 있고, LPCVD를 사용하여 고품질의 것을 얻을 수 있다.3-4 Silicon Oxideㆍ무결정이고 전기적, 열적으로 우수한 절연체이다.ㆍ저항률(1012Ω-cm)은 높
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    | 리포트 | 9페이지 | 1,500원 | 등록일 2004.12.23 | 수정일 2025.01.21
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  • 자료 표지
    [자연과학]박막과 MEMS
    며 target으로부터 불과 수 인치 떨어져 있게 된다. 그리고 스퍼터 가스로는 보통 Ar이 사용된다. 가속된 전자가 Ar가스와 충돌하여 Ar이온을 생성하며, 이 Ar이온이 target을 때리 ... 의 역할을 수행하도록 한 것이다. 열전자로 하여금 기체의 이온화율을 높음으로써 낮은 기체압력(10~5 torr) 및 낮은 전압(40V이하)에서도 스퍼터 증착이 가능하도록한 장치이
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    | 리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.06.11
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  • 자료 표지
    [공업화학 실험]박막 재료의 표면 처리 및 PR 제거
    하는 화학 에칭과 이온 등을 가속시켜 기판을 충격하여 스퍼터 현상에 의해 에칭을 하는 물리 에칭이 있다. 식각은 지정된 영역에서 선택적으로 물질을 제거하여, 기판 위의 감광제 또는
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    | 리포트 | 13페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.01.28
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  • 자료 표지
    [공학기술]Thermal Evaporation법을 사용하여 발광박막의 제조
    도진공증착은 스퍼터 증착법과 더불어 박막 작성의 기본 기술이다. 더욱이 최근에는 이온 어시스트 증착 등, 진공 증착과 이온 공학기술을 복합화 한 기술도 탄생했다. 여기서 기술
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    | 리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.06.02
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  • 자료 표지
    증착법의 원리와 특징
    은 고체표면에 이온을 충돌시텼을 때에 일어나는 여러 현상가운데서, 고체를 형성하는 입자가 튀어나온다.“스퍼터”현상을 이용한 피막형성법은, PLD법의 일종이다.프로세스로서는,① Ar등
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    | 리포트 | 12페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.04.21
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  • 자료 표지
    [공학]기초 반도체 공정
    고, magnetron은 제어를 크게 할 수 있으나, 많은 magnetron 모양에서 낮은 압력으로 작동하기 때문에 스퍼터된 원자가 충돌이 거의 없이 기판에 도달하게 되는데 이 때 박막 물
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    | 리포트 | 161페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.12.30
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  • 자료 표지
    Atomic Absorption Spectroscopy (AAS)
    를 흑연도가니중에 넣어서 증발시키거나 음극 스퍼터(Sputtering)에 의하여 원자와 시키는 방법도 있다. 휘발성이 강한 (Hg, As, Se 등)의 측정에서는 환원기화법이 많이
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    | 리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.12.05
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  • 자료 표지
    ion plating (이온도금)
    1. Ion Plating(이온 도금)의 정의증발된 입자가 플라즈마 속을 통과하면서 이온화하고 스퍼터와 같은 고에너지를 가지고 도금이 되므로, 도금속도도 크고, 밀착도 좋
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 20페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.06.09
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  • 자료 표지
    [공학기술]ion plating(이온도금)
    (target)에공급하여 타깃을 스퍼터시켜 기판에 막을 증착하는 역할을 하고, 기판 방향을 향해 있는 두번째 이온 소스는 불활성 또는 반응성 이온빔을 기판에 공급하여 증착되고 있
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    | 리포트 | 26페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.06.08
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  • 자료 표지
    진공펌프의 종류와 내용
    high)오일 확산펌프, 터보 분자 펌프, 흡착펌프, 저온 냉각 펌프, 승화펌프, 게터 이온 펌프, 스퍼터 이온 펌프10-3~10-7고진공 (high)다단식 로타리 베인 펌프, 다단
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    | 리포트 | 19페이지 | 2,500원 | 등록일 2007.06.07
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  • 자료 표지
    진공의 원리와 진공펌프 및 게이지
    펌프는 확산 펌프 또는 스퍼터 이온 펌프와 결합하여 쓰여야만 한다 .진공펌프의 종류 ( 기타 ) 20 로타리 피스톤 펌프 (Rotary Piston Pump) ‘ 키니펌프
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    | 리포트 | 32페이지 | 3,300원 | 등록일 2007.05.25
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  • 자료 표지
    [박막] RF 마그네트론 스퍼터링을 이용한 ZnO박막에 관한 연구
    )석하고자 하였다.2. 실험 방법실험에서는 Fig. 1과 같이 RF 마그네트론 스퍼터 장치를 사용하여 ZnO 박막을 제조하였다. 본 장비는 타게트의 효율과 제조한 박막의 평활도 ... 결정질 박막이 증착되어 (002)외에 (100), (101) 피크도 나오고 있다. 이러한 현상은 다음과 같이 설명되어 질 수 있다. 일반적으로 스퍼터로 박막증착시, 기판온도의 증가
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    | 리포트 | 17페이지 | 3,500원 | 등록일 2004.12.05
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  • 자료 표지
    [전자공학] 박막형성법과 그성질
    박막형성법과 그성질1. 물리적 방법중 스퍼터법스퍼터 법은 박막이 되어야 할 재료의 target을 글로 방전으로 이온화시킨 가스를 충돌시켜 끌어낸 입자를 기판에 붙이는 방법
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    | 리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.01.18
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  • 자료 표지
    [반도체공정]반도체 기초공정
    의 증발 등 오염물질이 발생하지 않는 스퍼터이온펌프 ·터보분자펌프 ·크라이오펌프 등을 많이 사용한다. 진공용 기재료(초고진공용 재료라고도 한다)로는 스테인리스강(鋼) 계통을 많이 사용
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    | 리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.02.02
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  • 자료 표지
    스퍼터링
    를 만드는 것도 이 전원을 사용하였고, 이 비대칭 전압의 첫반주기 동안에 기판이 양로 대전되고, 스퍼터된 입자와 작동기체(Ar+), 여러 가지 분술물들에 의해 포격 당한다.다음 반
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    | 리포트 | 23페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.11.25
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