"리소그래피장비"의 검색결과 입니다.

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"리소그래피장비" 검색결과 181-200 / 255건

유비쿼터스 설명

하였다는데 의미가 있다 하겠다.USN 통합관측장비와 무선메쉬네트워크의 가장 큰 장점은 확장성이 용이하다는 것이다. USN 통합관측장비의 경우 반경 100미터 이내에 센서를 추가 ... 로 설치할 수 있으며, 무선메쉬네트워크 또한 15km 반경 내 관측장비의 추가가 가능하므로 인프라의 추가적 구축 없이도 규모의 확장이 가능하다.현재 우리나라의 경우 기상청을 포함하여 약 ... 는 다 기관이 공동활용하는 형태로 개선되어야 할 것이다.USN 통합관측장비는 그러한 과제를 해결하기 위한 여러 가지 솔루션중 하나로서 다양한 관측센서를 통합적으로 수용하기 위한 실용

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.10.06

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새로운 재료 제거 가공 방법 아이디어

와 차이점 장단점을 비교하시오.①RIE(Reactive Ion Etching)의 원리장비는 건식 식각장치로 써 마주 보고 있는 두 개의 평행판형 전극에 고주파전 원을 인가하여 플라즈마 ... )하는 것. 대규모 집적 회로(LSI) 등 반도체 소자를 제조하는 공정에서 반도체 단결정 웨이퍼에 박막 형성, 포토리소그래피(photolithography), 에칭, 이온 주입 등 ... 의 기술이 가해지는 요소 프로세스 중의 한 공정이다. 웨이퍼 표면에 부착된 전극 재료를 포토리소그래피로 형성된 패턴에 따라 식각하는 공정으로, 종전에는 화학 약품을 사용하는 웨트 에칭

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.03.30

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한국 반도체 산업의 국가경쟁력- 포터의 다이아몬드 모델 중 정부의 역할을 중심으로

한 범위 시장형 스마트 센서 및 전력용 반도체 개발도 추진 중이다. 이 외에도 나노리소그래피, SiP 공정 등 미래 첨단 기술 개발과 함께 핵심 기술 개발 중심의 산학연 컨소시엄 방식 ... 추진 중이다. 친환경 기술을 위해 PFC 감축을 위한 기술 개발 추진 및 감축 활동 전개하고 제조 공정에서의 에너지 절감을 위한 장비 기술 개발하고 있다.③ 기술혁신 인력양성 ... 하고 있으며, NT-IT 융합 설계 및 공정 전문 인력 양성 사업 추진 중이다. 또한 설계 인력 양성 사업의 지속적 지원을 위한 시스템화와 함께 공정 및 장비 인력 양성을 위한 산학

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| 리포트 | 15페이지 | 2,500원 | 등록일 2011.05.06

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기술개발사업과 나노핵심기반기술, 디자인기반기술, 기술개발사업과 산업디자인기술, 민군겸용기술, 기술개발사업과 환경기술, 환경기술실증화사업, 기술개발사업과 우주개발사업, 평가관리

측정 장비 및 분석 기술※ 후보기술 : 하이브리드 나노 복합재료기술2. 나노기반기술개발사업1) 사업목적 및 성격○ 나노기술분야의 기반강화가 필요한 기술개발을 통하여 5년 이내에 국내 ... 조작 기술, 분자제어 자기조립 기술, 나노소재 응용 초분자 합성기술, 나노튜브 전자 및 광소자 기술, 나노입자 응용 태양전지 기술, 주사형검침현미경(SPM)장비 기술, 나노이론 ... 의 전산모사 기술, 나노 생체모방 재료기술※ 후보기술 : 원자층 나노 식각공정기술, Sol-Gel 공정기술, 미래형 나노 리소그래피 기술, 나노 바이오센서 기술, 나노재료의 표면/계면

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| 리포트 | 14페이지 | 6,500원 | 등록일 2013.04.12

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나노임프린트 리소그래피

beca패터닝이 가능하다[4]. 또한 포토리소그래피에 사용되는 고가의 광학기기가 필요 없기 때문에 장비가 저가라는 점, 그리고 고해상도와 높은 공정처리량(throughput)의 우수 ... 하는 UV 나노임프린트 리소그래피(UV-NIL) 방식이다. 열 NIL 장비는 구조적으로 자외선 광원을 사용하지 않고 단지 히터와 압축기만으로 구성되어 있기 때문에 그 구조가 간단 ... 은 쉽지 않다. UV 임프린트 리소그래피 장비는 자외선 광원을 사용하고 압력 또한 인가하기 때문에 구조가 다소 복잡하다. 그리고 임프린트 프로세스 특성상 폴리머 레진을 액체 상태

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| 리포트 | 118페이지 | 15,000원 | 등록일 2007.01.27 | 수정일 2014.07.16

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바이오칩 기술개발동향

○ 바이오칩은 사용하는 생체분자에 따라 DNA칩, 단백질칩, 세포칩, 케미칼칩 등으로 분류할 수 있다. 이중 DNA칩과 단백질칩의 경우 기존에는 광리소그래피를 기반으로 제작 ... Affymetrix사는 컴퓨터칩을 만드는 데 사용되는 광리소그래피(photolithography) 라는 기술을 사용하여 수십만개의 다른 뉴클레오티드(nucleotide)를 하나의 유리판 ... 되므로, 고가의 장비를 사용하고, 제작비용이 비싸, 많은 연구자, 특히 생물학자들의 접근이 용이하지 않다. 또한 바이오센서를 이용한 진단의 경우, 다른 물질들의 오염을 방지하는 것

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| 리포트 | 9페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.06.24

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[재료공학]리소그래피

에 많은 노력을 기울이고 있다고 한다. 한 예로 Extreme Ultraviolet사는 초자외선(EUV) 리소그래피 공정 기술 개발에 상당한 진전을 보이고 있으며, 최근 제조 장비 ... 개발도 착수했다. 초자외선 리소그래피 기술은 광리소그래피의 일종으로, 사진 촬영 기법과 거의 동일하다고 한다. 개발하는 장비는 회로의 이미지를 실리콘 웨이퍼 위에 인쇄하는데도 사용 ... ?리소그래피(X-ray Lithography)집적회로를 만들 때 중요한 부분에 사진기술이 사용된다. 실리콘칩 표면에 만들고자 하는 부품의 패턴을 빛으로 촬영하고 그것이 감광

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| 리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.06

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플라즈마 생성과 응용

에서 사용되는 저온 플라즈마의 종류-. 응용분야 중성입자 빔의 응용분야로는 차세대 반도체 공정에서 나노 스케일 반도체 식각 장비, 나노 스케일 증착 공정 및 나노 스케일 리소그래피 ... 적 라디칼 생성에서 다른 종류의 발생방식보다 월등히 높은 효율을 나타낸다. -. 응용분야. 대기압 플라즈마 시스템은 고가의 진공 장비를 필요로 하지 않기 때문에 경제적이며 펌핑 ... (Lithography) 공정에서 사용되며 양질의 탄소 나노 튜브 성장 공정에서도 사용될수 있다. 강력한 EUV를 내는 광소스는 리소그래피에 사용되며 전자빔, 이온빔과 같은 전하

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| 리포트 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.09.29

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NANO과학이란?

짧아질수록 더 작은 크기의 패턴을 만들수 있지만 마스크나 렌즈를 만들기가 힘드는등 많은 기술적 난점이 있기 때문이다. 하지만 현재 사용되고 있는 리소그래피 장비를 크게 바꾸지 않 ... 는 "양자eam Lithography라고 한다.① EUV(Extream Ultraviolet)리소그래피말그대로 Exposure공정에 사용하는 빛을 극자외선을 이용하여 하는 것이다. 파장이 ... 에 어려움이 있다.② E-Beam 리소그래피전자빔을 substrate에 주사하여 패터닝을 하는 방식이다. EUV방식보다 더 미세한 패터닝을 할수 있는 장점이 있지만 아직 양산에 어려움

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| 리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.01.18

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신소재개론 기말

Beam(FIB)- FIB (Focused Ion Beam)는 집속 이온 빔을 말함- 주로 불량분석실에서 사용하는 장비- 반도체 칩을 만들고 나서 Metal Layer를 수정해 주 ... 는장비- 원하는 곳을 끊거나 이을 수 있음- 특히 원하는 곳을 끊는 경우에, Laser Cutting에 비해 서 정밀도도 높고 particle도 튀지 않아 정밀한 작업이 가능Photo ... Lithography- 빛을 이용한 전통적인 리소그래피- ‘50nm 장벽’을 극복하기 위한 리소그래피- 종류 : EUV, X-ray, E-beam lithography- 장점

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| 리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.10.29

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동우화인캠 자기소개서

직접 반도체 공정 장비를 다루며 그 과정을 이해하게 됐고 팀워크의 중요성도 배울 수 있었습니다. 실험 주제를 정하고 실험 과정을 설계하기 위해서는 배경 지식이 필요했습니다. 학부생이 ... 을 기본적으로 이해하는 시간이었습니다. 웨이퍼 검사, 산화공정, 에칭, 금속화, 포토리소그래피, PR strip, C-V측정 과정의 순서로 실습하였습니다. 이 여러 과정 중, 제일

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| 자기소개서 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2013.06.10

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미세유동장치의 효율적인 제작방법

183. 결합 방법 선정184. 응용19결론21참고문헌22iAbstract24그림 목차그림 1벌크 미세가공의 예6그림 2표면 미세가공6그림 3포토 리소그래피 과정7그림 4복제 몰딩 ... 1실리콘의 물성치2표 2바이오 분석 장비로서의 폴리머 재료 적합성4표 3접합방식의 분류17표 4접합 방식에 따른 특성 비교19iii서론소형 바이오 분석 장비들의 발달이 계속 ... 되면서 값싸고 일회용의 장비를 손쉽게 생산할 필요성이 대두되었다. 지금까지 실리콘 기반 MEMS 기술이 바이오 분석 장비의 기술개발에 중요한 역할을 해왔다. 그러나 실리콘을 이용해 미세

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| 리포트 | 27페이지 | 5,000원 | 등록일 2007.03.01

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습식 에칭 기술

개발이 활발히 진행되고 있다.Fig. 4. 포토리소그래피 및 에칭 공정에 의한 패턴형성3.1.1. 에칭 장비에칭의 이방성을 더욱 향상시키고 정밀한 패턴을 형성하기 위해서는 이온 ... 습식 에칭 기술개발 현황83.1 기술개발 현황83.1.1. 에칭 장비93.3.2. 에칭공정93.1.3 모델링 및 전산 모사9제 4 장 습식 에칭 기술의 시장성124.1 기술 분류 ... ) 공1Fig. 2. 이방성 식각의 공정3Fig. 3. 스프레이 패턴의 차이에 따른 면내 균일성4Fig. 4. 포토리소그래피 및 에칭 공정에 의한 패턴형성8Fig. 5. 습식 에칭

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| 리포트 | 20페이지 | 3,000원 | 등록일 2007.12.19

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나노 패터닝 기술

중이며 향후 광학기기, 나노 디바이스 등을 개발할 예정이다.△ 벤처기업 NND는 50㎚ 이하의 패턴을 형성할 수 있는 임프린트 장비 ´나노시스610´ 의 판매에 들어가 몰리 ... 큘러임프린트(MII)·나노넥스·오브듀캣 등 미국·유럽 기업들이 장악한 임프린트 장비 시장에서 경쟁하고 있다. 이 제품은 압력용기 방식을 채택, 임프 린팅 후 수지 잔류층을 최소 ... 화했으며 가격도 외산 제품의 절반 이하에 불과한 것이 특 징이다.△ 한편 반도체 공정에서 고분자막으로 코팅한 기판 표면을 스탬프로 찍어 물리적으로 패 턴을 형성하는 나노 임프린트 리소그래피

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| 리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.03.07

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포토 예비

에 패턴을 그려 집적회로를 만드는 기술. 사진 기술을 응용한 것이어서 포토리소그래피라고도 한다. 감광성 수지를 도포한 기판에 포토마스크(원판)를 통해 자외선을 조사하면 포토마스크 ... particle에 대해 매우 취약하고, 이로 인한 pattern 불량이 전체 panel의 불량을 유발하므로, 청정한 환경과 재료 및 장비의 관리가 보다 중요한 공정이며, 향후 TFT ... 만 80년대에 접어들면서 기술 및 장비의 발전으로 positive방식의 단가가 많이 저렴해 진 편이라 두가지의 장,단점을 이용하여 알맞은 곳에 사용하고 있다.Negative

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| 리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.04.19

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유기전자학(Organic Electronics)이란 무엇인가

-backplane이다. 이것은 기존의 TFT-LCD에서 사용하는 a-Si TFT의 CVD와 리소그래피 공정을 OTFT의 인쇄공정으로 대체하여 공정비용의 절감과 함께 초대형 디스플레이 ... 시켰다. 광학도구들이 개선되면서, 독특한 렌즈 디자인과 빛 소스에 의해서 새로운 레지스트들(resists)이 개발되어 리소그래피 석판인쇄 스케일링을 지속시켰다. 화학자들은 독특한 감광성 ... 케 하며, 이것은 현재 광학 노출도구의 248-nm 노출 파장보다 훨씬 작은 것이다. 폴리머 절연체들은 반도체 장비의 운용과 신뢰도에도 또한 필수적이다. 처음에는 반도체 칩의 봉입

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| 리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.12.11

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Lithography 공정 실험

* Lithography 실습*1) Lithography 란 무엇인가?; Lithography(리소그래피)는 반도체 집적 회로를 반도체표면에 그리는 방법 및 과정을 통칭하며, 초 ... 의 불량을 유발하므로, 청정한 환경과 재료 및 장비의 관리가 보다 중요한 공정이며, 향후 TFT 제작공정의 고정밀, 대면적화에 따라서 그 중요성이 더욱 커지는 공정이고, 현재, 패턴

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| 리포트 | 3페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.10.19

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POSS

어 활용분야가 높다.그리고 더 나아가 우주항공 분야에도 활용될 가능성이 높다.3. 광학적 투명성- 첨단 광학 장비에 사용될 수도 있다.4. 낮은 수준의 기체 투과력- 시간이 지나 ... 로 실세스퀴옥산계 고분자 중 낮은 편이며 폴리페닐실세스퀴옥산은 1.60의 값은 가진다. 따라서 페닐과 메틸의 공중합을 통해 적절한 코어와 크래드 소재를 설계할 수 있다. 리소그래피

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| 리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.12

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증착기를 이용한 반도체 공정

에 고온의 환경이 필요합니다.PVD는 고품질의 박막이나 나노구조를 만들 때 쓰이지만 진공이 필요하기 때문에 장비가 고가이며 증착속도가 느린 반면 CVD는 넓은 면적에 빠른 속도 ... 손상을 제거하고, 공정을 정밀하게 통제하는 완전 자동화된 장비로 가장자리 부분과 표면이 경면연마 됩니다. 그 결과 얻어지는 웨이퍼들은 극도로 평탄하고 결함이 없는 상태입니다 ... 한다.5. 리소그래피 (Lithography)리소그래피는 포토레지스트를 도포하는 공정으로 시작해 노광, 현상, 에칭, 포토레지스트 제거에 이르는 일련의 프로세스이다. 이 공정은 모든

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| 리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.09.21

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박막재료의 표면처리 및 식각실험

을 합니다. 이 물질은 확산공정,산화 공정,이온 주입등에서 방패역 할을 하여 아까 씻겨간 부분에만 반응이 일어나 반도체 물질을 주입하든가 하죠. 이렇게 한번 끝나고나면 리소그래피 1 ... 공정이 끝납니다. 대략 DRAM 같은거 하나 만들려면 약 70 번정도의 리소그래피가 필요합니다.미세 가공 기술 개발의 선두에 있는 DRAM 기술에 있 어서 리소그래피 기술은 항상 ... 전체 기술의 개발을 좌우하는 중요한 요인이다.1> Optical Lithography대량생산이 가능하며, 장비 안정성 및 가격, 효율 등 모든 면에서 device를 제조하기에 가장

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| 리포트 | 22페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.05.27

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