[재료공학]리소그래피

소개글

집적회로를 만들 때 중요한 부분에 사진기술이 사용된다. 실리콘칩 표면에 만들고자 하는 부품의 패턴을 빛으로 촬영하고 그것이 감광된 수지를 칩 표면에 고정한 후 화학처리나 확산처리를 하는데, 이를 총칭해 리소그래피(lithography)라 한다.

목차

∙리소그래피(X-ray Lithography)
∙리소 그래피의 이용 (기사인용)
∙리소그래피 관련기술

본문내용

∙리소그래피(X-ray Lithography)
집적회로를 만들 때 중요한 부분에 사진기술이 사용된다. 실리콘칩 표면에 만들고자 하는 부품의 패턴을 빛으로 촬영하고 그것이 감광된 수지를 칩 표면에 고정한 후 화학처리나 확산처리를 하는데, 이를 총칭해 리소그래피(lithography)라 한다. 따라서 얼마만큼 미세한 패턴을 만드는가가 이 기술의 키포인트인데, 짧은 파장의 빛을 사용하면 정밀도가 높은 패턴을 만들 수 있다. 처음에는 눈에 보이는 파장의 빛(가시광선)을 사용하는 정도였으나, 곧이어 자외선을 사용하게 됐고, 최근에는 필요에 따라 전자빔을 사용해 1μ 이하의 미세한 패턴을 만든다. 이것을 서브미크론 기술이라 한다. 그 다음에 기대되는 것이 더욱 파장이 짧은 X선이다. 이를 위해 강한 X선을 만들어내는 장치가 개발됐다. 전자를 원둘레를 따라서 뱅글뱅글 돌리다가 갑자기 전자에 브레이크를 걸면 강한 X선이 방출되는 이 장치는 원래 싱크로트론(synchrotron)으로 불리는데, 그 궤도(orbit)를 따라 도는 전자에서 방사(radiation)되기 때문에 SOR로 약칭된다. 세계 각국에서 엄청나게 돈이 많이 드는 이 장치의 건설과 기술개발에 힘을 쏟는 이유는 장래에 국방 등에 쓰이는 대규모초집적회로 또는 지능기계의 기초가 되기 때문이다.
∙리소 그래피의 이용 (기사인용)
반도체 업계에서는 10GHz 칩을 만들 수 있는 공정 기술 개발에 많은 노력을 기울이고 있다고 한다. 한 예로 Extreme Ultraviolet사는 초자외선(EUV) 리소그래피 공정 기술 개발에 상당한 진전을 보이고 있으며, 최근 제조 장비 개발도 착수했다. 초자외선 리소그래피 기술은 광리소그래피의 일종으로, 사진 촬영 기법과 거의 동일하다고 한다. 개발하는 장비는 회로의 이미지를 실리콘 웨이퍼 위에 인쇄하는데도 사용되고，그 이미지가 현상된 뒤, 층마다 재료의 제거와 부착을 행하는데도 사용된다. 차세대 리소그래피 공정 기술은 인텔사나 AMD사와 같은 칩 개발 업체에는 필수적인 공정 기술이다. Extreme Ultraviolet사의 비즈니스 부문 이사인 Chris Philippi씨는 기존의 리소그래피 기술로는 초고속 칩을 개발하는 것이 불가능하다고 한다. 현재 사용되고 있는 리소그래피 기술은 원자외선을 사용하고 있으며, 이 기술로는 100 나노미터 정도 크기의 칩까지 사용할 수 있다고 한다. 현재 칩 개발 업체는 0.13 마이크론 공정을 사용하여 칩을 만들고 있으며, 곧 한계에 도달할 것이라고 한다.

참고 자료

없음