나노 패터닝 기술

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최초 등록일: 2007.03.07
최종 저작일: 2007.01; 4페이지/ 한컴오피스; 가격 1,000원

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나노과학개론 레폿입니다.
과제명은 대표적인 나노임프린팅 기술에 대하여 조사하여라 였습니다.
각각의 기술에 대한 그림도 포함되어 있습니다.

본문내용

Ultraviolet nanoimprint
■ 가열방식의 나노임프린트 리소그래피의 문제점과 대안
△ 다층(multi-layer)작업시 열변형에 의해 다층정렬이어렵다는 점과, 점도가 큰 레지스트(resist)를 임프린트하기 위해서는 고압(30 bar 정도)이 필요하기 때문에 하단에 제작된 구조물이손상될 수 있음
△ NIL에서 일반적으로 사용되는 불투명한 스탬프(stamp)는 다층화 정렬작업에 불리하게 작용
△ 상온저압 프린팅 공정기술인 UV나노임프린트 리소그래피(ultraviolet nanoimprint lithography, UV-NIL)를 대안으로 제시

■ UV-NIL의 특징
△ 이 공정기술은 UV 경화소재를사용하여 상온저압으로 나노구조물을 제작할 수 있는 기법으로, 가열방식 NIL에서는 일반적으로 실리콘스탬프가 사용되는데 반하여, UV 투과성 재질인 수정(quartz), 유리(glass) 등으로 제작된 스탬프가 사용된다는 점이 특징이다.
△ UV 투과성 스탬프로 가압한 상태에서 UV를 조사하여 경화시킨 후, 이방성 에칭과정과 lift-off 과정을거쳐 나노패턴을 기판 위에 전사하는 방식이다

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