다양한 리소그래피법을 이용한 나노구조 형성

소개

다양한 리소그래피 법을 소개
나노 구조 형성법
차세대 리소그래피법 소개

목차

없음

본문내용

Lithography기술이란?
-접속회로제작시 실리콘칩 표면에 패턴을 제작하는 기술
-짧은 파장의 빛을 사용하여 정밀도 높이는 것이 핵심.

전자빔 리소그래피
(EBL: Electron Beam Lithography)
-극자외선 리소그래피와 더불어 가장 유망한
차세대 리소그래피

장점
-파장이 짧아 해상도에 제한을 받지않음
-자동화를 통한 정밀제어가 가능
-포토 리소그래피에 비해 초점심도가 깊음
-마스크 없이 직접 패터닝이 가능
단점
-직접패터닝 경우 작업속도가 느림
-고비용

Conclusion

-optical lithography의 한계에 봉착하여 차세대 lithography
기술 필요
-차세대 lithography의 실제 생산라인 적용 위해서
Cost o Ownership, 생산량(wafer perhour), defects density의 개선이 필요
-EUVL, XRL, IBL 등 각 차세대 lithography의 단점 개선

참고자료

· Nanomarkets, Emerging Nanoelectronics Markets: The Next Opportunity for the Semiconductor and Materials Industries, 2004
· Intel, "The Intel Lithography Roadmap", Intel Technology Journal, Vol.6, pp56-61 (2002)
· Wikipedia 홈페이지(http://www.wikipedia.com)
· 중앙일보, 2004. 9.
· IC Knowledge, Technology Backgrounder: Immersion Lithography,2003 (http://www.icknowledge.com)
· Hynix 발표자료, “반도체 기술추이와 Lithography 동향”, 2003. 10.
· El-Mul사 홈페이지(http://www.el-mul.com)
· Molecular Imprint사 홈페이지(http://www.molecularimprints.com)
· NanoInk사 홈페이지(http://www.nanoink-inc.com)
· R. D. Piner, J. Zhu, Feng Xu, S. Hong, C. A. Mirkin, "Dip-PenNanolithography," Science, Vol. 283, pp661-663 (1999)
· L. Guo, P. R. Krauss and S. Y. Chou, "Nanoscale Silicon FieldEffect Transistors Fabricated Using Imprint Lithography," Appl. Phys.Lett, Vol. 71, pp1881~1883 (1997)
· S. Y. Chou, Peter R. Krauss and P. J. Renstrom, "Imprint of sub-25nm Vias and Trenches in Polymers," Appl. Phys. Lett, Vol. 67,pp3114~3116 (1995)
· Zettacore사 홈페이지(http://www.zettacore.com)
· Cristina Martin-Olmos ,Conductivity of SU-8 Thin films through Atomic Force Microscopy Nano-Patterning, Advanced functional materials,2012,22,1482