"Laser-assisted etching"의 검색결과 입니다.

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Soft lithography 반도체 공정 CNT CVD 반응기 CVD PVD ceramic Hagen-Rubens Law

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"Laser-assisted etching" 검색결과 1-19 / 19건

판매자 표지

반도체 공정 정리본

나 throughput은 좋지 못하다.RIE (Reactive Ion Etching)위 두 가지 방법을 합친 방법이라고 생각하면 된다. Ion assisted etch(IAE)라고도 불린다 ... Machine)을 이용해 웨이퍼 표면을 매끄럽게 갈아낸다.Etching: Wafer 표면에 가공Damage를 줄이는 공정. 물리적 가공에 의한 데미지를 화학 용액으로 녹여 제거RTP ... .CleaningInspection: Wafer의 세부 형상과 평탄도 등 품질을 세밀하게 측정Particle Counting: Wafer 표면을 정밀하게 검사하는 공정으로 Laser 산란 방식으로 표면

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 61페이지 | 4,000원 | 등록일 2022.07.15 | 수정일 2023.07.02

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마이크로 열소자 제작을 위한 고세장비 금속채널의 레이저 가공 (Laser micromachining of high-aspect-ratio metallic channels for the application to microthermal devices)

한국광학회 오광환, 이민규, 정성호

논문 | 10페이지 | 무료 | 등록일 2025.04.21 | 수정일 2025.05.13

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점도평균분자량 측정 결과레포트 (A+)

-assisted laser desorption/ionization (MALDI) mass spectrometry; determining Mark-Houwink-Sakurada ... E라인 쪽으로 떨어지게 한다.4) 손가락으로 막은 E라인 입구를 열면서 동시에 초시계를 작동시키고 마지막 액체가 C구 미에 있는 etched line을 통과하는 시간을 측정 ... 들을 가지고 각 농도별 상대점도, 비점도, 환원점도를 구한 후 엑셀 프로그램을 이용하여 (추세선, 추세선 수식, R-제곱이 반영된 분산형 그래프) PEG수용액의 고유점도를 구한다

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2019.10.01

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반도체 공정_CVD (메카니즘, 종류, System, Future)

) PECVD (Hot-Wall) PECVD (Batch) (Continuous, in-line) (Laser) CVD R apid T hermal P rocessing CVD ... ) LPCVD P lasma -Assisted CVD ( PACVD) P lasma- E nhanced CVD (PECVD) H igh- D ensity P lasma CVD ... aspec ratio gaps Simultaneous deposition and etching to prevent bread-loaf and key-hole effects Cause

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| 리포트 | 21페이지 | 3,000원 | 등록일 2013.12.01

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CABIE-dry etching

하기 힘든 물질들을 식각할 때 사용된다.이온빔 식각(IBE) 이란?Chemical Assistant Ion Beam Etching. 화학 보조 이온빔 식각이라 한다. Ar 등과 같 ... 식각(Etching) 이란? 건식 식각(Dry Etching) 이란? 이온 식각(Ion Etching) 이란? 이온빔 식각(Ion Beam Etching) 이란? CAIBE 방식 ... 이 이루어진다. 식각 공정은 식각 형태와 식각 방법에 따라 다음과 같이 분류된다.식각(Etching) 이란?식각의 종류식각 형태에 따른 분류 등방성 식각 (Isotropic

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| 리포트 | 18페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.12.04

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실리콘 나노와이어의 합성

phase synthesis,, solid-liquid-solid(SLS) growth, thermal-evaporation oxide-assisted growth, Laser ... 와이어의 뛰어난 열전자적 효율에 중요한 요소라고 믿어지고 있다.Thermal-evaporation oxide-assisted growth노(furnace)를 사용하는 것이다. 이 노 ... 이 적당한 온도로 유지되어야 한다.Laser ablation method적절한 타겟 원자가 레이저빔에 의해 증발되어 기체를 형성한다. 이 기체는 Ar등의 기체를 타고 나노 와이어

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| 리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.11.21

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[예비 / 결과레포트] 유기물을 이용한 마이크로 패턴 제작

technology, deep reactive-ion etching, has made it possible to combine good performance typical of bulk ... 과 목 :과 제 명 :담당교수 :학 과 :학 년 :학 번 :이 름 :제 출 일 :Fabrication of Micro-Scale Patterns with Organic ... Material- Preliminary and Final Report -1. ObjectiveUnderstand basic principles of micro-scale patterning

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| 리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.12.23

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PVD와 CVD

체 등 다양한 재료의 성막이 가능하다. Target 냉각이 가능, 큰 target 사용이 가능하다. 기판의 sputter etching으로 pre-cleaning이 가능하다. O₂ ... ) Passivation -0.1~5.0torr, 200~500 ℃에서 동작Plasma Deposition etching.MOCVD (Metal-Organic CVD) 유기 금속 증기 ... 전달과정과는 별도로 기판에서의 종착조건을 제어함으로써 박막의 성질 및 구조 등을 변화시키는 기술 Energetic beam assistance Atomic layer

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| 리포트 | 22페이지 | 2,500원 | 등록일 2009.10.27

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TCO에 대한 기초 내용 및 현재의 기술동향, 관련 특허 조사 및 분석, 시장 및 기술동향에 대한 전망 발표 자료

Beam SputterIon Beam Assisted EvaporationPulsed Laser ablationReactive Evaporation09Market analysis ... 10Critical technology11ITO – 기술조사 분류표12Patent analysis - ITO target 개선 특허ITO target etching process ... . Summary 9. Q A02What is the Transparent electrode?Good conductor = Good reflector R = 1-2(4πεע/σ

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| 리포트 | 20페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.03.02

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연소 화학 기상 증착법(Combustion Chemical Vapor Deposition)

-assisted CVD) : UV LAMP, IR LAMP - LCVD (LASER-assisted CVD) : LASER (4) 반응온도에 의한 분류 - HIGH TEMP. CVD ... putter 할 수 있다. 5)Taget냉각이 가능하여, 큰 taget을 사용할 수 있다. 6)기판의 sputter etching 으로 pre-cleaning이 가능하다. 7)O2 N ... , ion-plating 으로 크게 분류 Thermal evaporation - 성장속도는 크나 박막의 밀착 강도가 작고 균일한 박막제조에는 불리하다. 특히 방향성 있는 증발입자

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| 리포트 | 18페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.12.17

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공주대 반도체제조공정 중간고사 족보

원광반사법)-레이저로 반사된각도따라 막두께판단▶표면결함[bright field :명시야관찰법,dark field :암시야관찰법]▶sem(scaning electron ... 되는 게이트공정▶plasma assisted cvd장점:낮은공정온도,높은장단비의 틈을 메우는 뛰어난 gap-fill능력,웨이퍼와의 우수한 접착력,높은 증착속도,높은 막 밀도와 그에 따른 ... 불순물 반도체-doping하는 원소에 의하여 구분캐리어가 정공인 p형 반도체캐리어가 전자인 n형 반도체-캐리어의 종류최외각전자가4보다 작을 경우 p형반도체최외악전자가4보다클 경우

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| 시험자료 | 2페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.11.08

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플라즈마

(Plasma Etch) 및 증착(PECVD: Plasma Enhanced -Chemical Vapor Deposition), 금속이나 고분자의 표면처리, 신물질의 합성 등 에서 이용 ... 에서는 강력한 자유전자 레이저가 개발되고, 있고 단파장화는 가시광 영역까지 도달하고 있다 원리적으로는 X-선 영역에서의 동작이 가능하고 장래 파장 가변의 X-선 자유 전자 레이저의 출현 ... 의 유무는 상관없으나 중성원자의 밀도에 따라 식(2-1)로 정의되는 전리도에 따라 (전리도) < 10-4 인 경우를 약전리 플라즈마, (전리도) > 10-4 는 강전리 플라즈마

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| 리포트 | 20페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.06.09

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[박막] PECVD에 대하여

(LASER-assisted CVD) : LASER (4) 반응온도에 의한 분류 - HIGH TEMP. CVD - LOW TEMP. CVD (5) 반응 기체의 종류에 의한 분류 ... Enhanced CVD) : rf(13.56MHz) or microwave(2.45GHz) - PCVD (Photo-assisted CVD) : UV LAMP, IR LAMP - LCVD ... ) 반응기 벽의 온도에 의한 분류 - HOT WALL CVD : 주기적인 CLEANING 필요 - COLD WALL CVD : 냉각 장치 필요 (2) 반응기 내부의 압력에 의한 분류

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| 리포트 | 18페이지 | 1,500원 | 등록일 2004.11.02

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[공학]나노임프린터 공정과 연구동향

이 있는 곳의 패턴은 작업하기가 힘들다는 점을 보안해서 말랑한 스탬프를 사용한다.? Laser - Assisted pirect imprint (LAD1....2002) Chou ... . Princeton Unv.-레이져를 사용하여 엑씨머 레이져가 투과 할 수 있는 스탬프를 사용하여 Resist를 녹여서 사용한다. 아직은 연구중이다.?정밀성도 높이다?시간을 줄일 수 ... 은 상온 저압공정이 가능하여 다층화공정 및 대량생산에 적합하다는 장점을 갖고 있다.● 몰드-어시스티드 리소그래피 (Mold-Assisted Lithography, MAL)앞

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| 리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.09.21

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[금속공학실험]ZnO박막 실험

) 아-크 증발2. 플라즈마 보조 PVD(Plasma Assisted PVD)1) 활성화 반응 증발(Activating Reactie Evaporation)2) 스퍼터링 ... 의 성막이 가능하다5) Target 냉각이 가능, 큰 target 사용 가능하다.6) 기판의 sputter etching으로 pre-cleaning이 가능하다.7) O2, N2 등 ... 시킨 방법이다. 이들 모든 방법은 10-2～10-7 torr의 진공조건에서 생성된 증기상을 피처리물 표면으로 이동되어 응착되게 하여 피복층을 형성시켜 피처리물 표면의 기계적, 화학

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| 리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.25

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[반도체공학] 반도체기초과정

- PhCVD (Photo-assisted CVD) : UV LAMP, IR LAMP- LCVP (LASER-assisted CVD) : LASER(4) 반응온도에 의한 분류- HIGH ... )노광(Exposure)공정현상(Development)공정식각(Etching)공정화학기상증착(CVD:Chemical Vapor Deposition)공정금속배선 ... 고, 나트륨은 1개의 가전자를 갖기에 가전자를 버림으로써 안정을 찾으려 한다. 결과적으로 나트륨은 양이온인 Na+가 되고 염소는 음이온인 Cl-가 되어 서로 당기는 힘에 의해

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| 리포트 | 14페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.04.21 | 수정일 2021.03.30

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Soft Lithography 와 그의 특징, 종류 및 장․단점,PDMS 물질의 장·단점

: Solvent-Assisted Micromolding (Molding방식)MIMIC의 방법의 다소의 약점을 극복하기 위해서 용매의 도움을 받는 이방법은 기판에 두꺼운 고분자 ... Soft Lithography- Soft Lithography와 그의 특징, 종류 및 장?단점에 대하여 조사- PDMS 물질의 장?단점에 대하여 조사- PDMS 물질을 대체하기 ... 위해 개발되고 있는 여러 가지 물질에 대하여 조사- Nano imprint Lithography와 Soft Nano imprint Lithography에 대하여 비교 조사1

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| 리포트 | 9페이지 | 2,500원 | 등록일 2007.02.21

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Soft Lithography

하여viscous drag of the fluid in the capillary③SAMIM(Solvent-Assisted Micromolding)MIMIC의 방법의 다소의 약점 ... Printing, Near-Field Lithography 등이 있다.Soft Lithography는 마스터 패턴 제작이 전제조건으로, 일반적으로 광학리소그래피 또는 나노스케일 패턴 ... 구현을 위해 전자빔 리소그래피, 레이저 간섭차를 이용한 리소그래피 등이 사용되고 있다. 마스터 패턴 위에 PDMS Casting 또는 코팅방식으로 증착하고 Curing 후 떼어내

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| 리포트 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.02.21

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[구조세라믹스] DC Bias가 인가된 ICPHFCVD를 이용한탄소나노튜브의 수직 배향법

할수assisted ICPHFCVD using etched substrate of Fig. 3(a) CNT was grown for 10min.This time, h ot ... 다. 이 분석 결과는 삼중 라만분광기로써 광원을 아르곤-이온 레이저(514nm, 488nm)를 이용하여 측정한 탄소나노튜브의 분광학적 특성을 나타낸 것이다. 각 시스템의 결과로 보 ... 1. 서론탄소나노튜브는 1991년 일본 NEC의 Iijima가 acrdischarge를 이용하여 다중벽 탄소나노튜브를 보고한 이후로 pyrolysis, laser

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| 리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2002.12.05

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