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"vlsi 공정기술" 검색결과 61-80 / 270건

  • (A+ 레포트) 마이크로프로세서의 발전 과정과 컴퓨터 산업에 기여한 점 그리고 최신동향에 대하여 자세히 서술하라.
    Duo) 프로세서는 약 20억 개 이상의 트랜지스터가 칩 위에 집적되는 수준까지 발전하였다. 반도체 집적도의 확기적인 발전은 반도체 회로 공정 기술의 미세화에 의한 것으로 이 ... 한 이론으로 50년이 지난 지금에도 거의 정확하게 맞아 들어가고 있다. 무어의 법칙으로 표현되는 반도체 공정 기술의 미세화와 함께 마이크로프로세스의 발전에 핵심이 되는 또 하나의 요소 ... 화된 공정 기술을 적용하고 있다. 기존의 미세화된 공정 기술을 기초로 하여 새로운 마이크로아키텍처를 발표하고 있다. 아래 그림은 이 전략에 따라 그 동안의 발전해온 인텔 CPU 제품들의 변화를 볼 수 있습니다.
    리포트 | 4페이지 | 6,500원 | 등록일 2013.03.06 | 수정일 2019.01.05
  • 실험01 MOSFET 특성(예비)
    게 만들 수 있고 제조공정 또한 간단하다.초대규모집적(VLSI)회로(마이크로프로세서, 메모리 칩) MOSFET 기술로 만들어지고 있다.FET가 갖는 높은 입력저항과 저전압에서 동작 ... 반도체 전계효과 트랜지스터(MOSFET)의 두 종류가 있다.MOSFET는 BJT에 비해 아주 작게 만들 수 있고 제조공정이 간단하다.N-채널 MOSFET은 구조적으로 소스
    리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2014.12.11
  • 디스플레이 제조공정 및 개요
    을 알아야 한다 . 웨이퍼 프로세스의 반복적 흐름▣ 디스플레이 및 반도체 전체 공정 기본 프로세스 기술의 분류▣ 디스플레이 및 반도체 전체 공정 박막공정기술 - 박막형성기술 ... 은 반도체 제조공정 중에서 가장 다양성이 풍부한 분야로서 그 장치도 방식과 원리에 있어 매우 다양 화 되어 있다 . 박막형성기술이 중요한 이유 형성된 막이 그대로 디바이스 구조 중에 남 ... 을 스퍼터링 (sputtering) 이라고 부른다 . 스퍼터링 중성기체 발생에 관한 목표물 충돌과정▣ 리소그래피 공정 리소그래피는 포토마스크 기판에 그려진 VLSI 의 패턴
    리포트 | 30페이지 | 3,500원 | 등록일 2012.06.19 | 수정일 2015.12.14
  • (포토리소그래피) Manufacturing Processes - Photolithography
    공정3. 포토리소그래피의 기술발전4. 포토리소그래피의 차세대 기술1. 포토리소그래피의 개요포토리소그래피(Photolithography)는 원하는 회로설계를 유리판 위에 금속패턴 ... 으로 만들어 놓은 마스크(mask)라는 원판에 빛을 쬐어 생기는 그림자를 웨이퍼 상에 전사시켜 복사하는 기술이며, 반도체의 제조 공정에서 설계된 패턴을 웨이퍼 상에 형성하는 가장 중요 ... 한 공정이다. 본래 리소그래피는 석판화 기술로서 인쇄기술로 쓰이다가 현재는 반도체 노광공정 기술을 통칭하는 이름으로 쓰이고 있으며, 반도체 소자의 고직접화에 가장 핵심적인 역할
    리포트 | 16페이지 | 2,500원 | 등록일 2013.11.20
  • MEMS 기술과 나노기술을 이용한 마이크로(유비쿼터스)
    을 말한다. 멤스로 만든 미세 기계는 마이크로미터(100만분의 1 미터) 이하의 정밀도를 갖는다.구조적으로는 증착과 식각 등의 과정을 반복하는 반도체 미세공정기술을 적용해 저렴한 비용 ... 이 있다. Top-down 방법은 VLSI 기술의 연장선으로 반도체의 가공 기술을 더욱 미세화하여 치수를 줄여나가는 접근 방식이며, 이는 수 십 nm 수준에서 한계에 이를 가능 ... 하는데 유용하다.MEMS기술을 이용한 제조공정Surface Micromachining실리콘 기판 위에 구조층과 희생층을 증착하고 식각 공정을 통하여 미세 구조물을 형성함희생층과 구조
    리포트 | 17페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.12.06
  • 마이크로프로세서의 발전 과정과 컴퓨터 산업에 기여한 점 그리고 최신동향을 A4 용지 2페이지 이내로 자세히 서술하라.
    는 전자 기술의 발전으로 VLSI와 같은 고집적전자 회로 부품이 개발됨에 따라 가능해진 것으로 그 중에도 마이크로프로세서(CPU)라는 중앙처리장치용 산술/논리 연산장치, 제어장치 ... 위에 집적되는 수준까지 발전하였다. 반도체 집적도의 확기적인 발전은 반도체 회로 공정 기술의 미세화에 의한 것으로 이를 무어의 법칙(Moore’s Law)으로 설명하기도 한다.인텔 ... 하는 제어장치를 1개의 작은 실리콘 칩에 집적시킨 초대규모 집적회로(VLSI)로 이루어진 처리장치이다. 내부는 산술 논리 연산기, 레지스터, 프로그램 카운터, 명령 디코더, 제어회로 등
    리포트 | 9페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.03.09
  • VLSI 설계의 여러가지 현상들
    이다. 반도체 집적도의 한계 문제를 근본적으로 해결하기 위해서는 이제부터는 선폭 축소가 아니라 새로운 재료를 찾는 등의 방법을 연구해 나가야 한다.5.CMOS 제조공정 기술1)CMO ... (Application Specific Integrated Circuit, 주문형 반도체)를 사용하지만 개발에 걸리는 기술자산과 설비, IP 등 초기 개발비가 들며 설계 자산을 다른 ... (neutron irradiation)를 이용하여 재결합중심을 만들거나 게더링(gettering)을 이용하는 방법이다. 그러나 이것은 고비용을 요구하는 공정이므로 생산가격의 상승을 초래
    리포트 | 9페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.06.20
  • 삼성전자의 성공요인과 앞으로의 전략
    개발에 성공함으로써 우리나라를 미국, 일본에 이은 세계 세 번째 VLSI급 반도체 기술 보유국가로 만들었다.이후 1992년, 1993년도를 거치면서 DRAM 및 메모리반도체 1위 ... 조원, 이익 29조원이라는 단일제품 사상 최대의 경이적 기록을 세웠다. 결국 삼성반도체는 기술개발, 전문인력 육성, 생산공정 개발 등으로 한국반도체를 인수한 지 10년이 채 못돼 ... 기업으로 도약하였고 현재에 이르기까지 메모리 반도체 선두기업으로서의 위상을 강화하고 있으며, 각종System LSI 반도체 분야 역시 속속 세계 정상급의 기술력을 보유
    리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.12.04
  • (간호정보학 꼼꼼정리) 간호정보, 정보전문간호사, 유헬스, 국가고시대비, 중간고사, 기말고사대비
    세계인의 건강을 지원하기 위해 (간호와 간호정보, 정보관리)를 (정보처리와 통신기술과 통합)하는 것17) 2009 헬싱키 NI: 간호정보과학과 간호정보 실무는 전 세계의 인구, 가족 ... , 지역사회의 건강을 증진하기 위해 간호정보와 지식 그리고 정보와 지식의 관리를 정보통신 기술과 통합하는 것18) 간호정보학의 목표: 정보관리와 교환을 최적화하여 개인, 가족 ... , 질 관리26) 간호정보학의 핵심역량: 컴퓨터활용기술, 정보활용기술, 전반적인 정보학 역량27) 간호정보 역량모델: 기본컴퓨터역량, 정보소양, 정보관리28) 간호정보학 실무범위
    리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2015.11.10
  • 삼성전자 반도체산업 개발, 삼성전자 반도체산업 성공요인, 삼성전자 반도체산업 핵심역량, 삼성전자 반도체산업 기술흡수, 삼성전자 반도체산업 메모리제품,삼성전자 반도체산업 제고 방안
    의 제조에 필요한 309개의 공정중 대부분의 공정은 1974년부터 축적되어온 반도체제조기술을 바탕으로 응용할 수 있었다. 그러나 가장 핵심이 되는 8개의 공정은 전혀 경험이 없는 상태 ... 삼성전자 반도체산업의 개발, 삼성전자 반도체산업의 성공요인, 삼성전자 반도체산업의 핵심역량, 삼성전자 반도체산업의 기술흡수, 삼성전자 반도체산업의 메모리제품, 향후 삼성전자 ... 반도체산업의 제고 방안 분석Ⅰ. 서론Ⅱ. 삼성전자 반도체산업의 개발1. 64K DRAM의 개발1) 반도체의 기술체계2) 개발과정2. 256K DRAM의 개발1) 조기개발의 의미2
    리포트 | 15페이지 | 6,500원 | 등록일 2013.07.24
  • 반도체의 고집적화와 웨이퍼 결함, SoC기술, 그리고 반도체회사의 종류
    동일한 면적 속에 그릴 수 있는 선의 개수가 많아지므로 집적 도가 상승. 선이 가늘어지게 되면 인접한 선과 선 사이의 공간이 줄어들기 때문에 공정 상 결함이 생길 확률이 커짐. 이 ... 을 갖추고 있어 직접 생산, 제조까지 하는 반도체 종합 회사.3)팹리스(Fabless): 반도체 제조 공정 중 하드웨어 소자의 설계와 판매만을 전문으로 하는 회사로, 종합반도체기업 ... )웨이퍼 공정 중 싱글 크리스탈(단결정) 잉곳은 매우 중요한 과정. 싱글 크리스탈(단결정)을 만들때 결함이 발생 할 수 있음.2)결함: 결정이란 규칙적인 원자배열을 하고 있는 것을 말
    리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.06.20
  • EUVL (Extreme Ultraviolet Lithography) for semiconductor processing
    , 반도체 공정용 리소그래피 기술의 최근 동향, 전자통신동향분석, 제13권, 제5호 (1998).3. 진윤식, 박도영, 전정우, 정영민, 극자외선(EUV) 리소그라피를 위한 광원 ... maps.(5)..PAGE:20References1. 이승윤, 안진호, 차세대 극자외선 리소그라피(EUVL) 기술, 전자공학회지, 제33권, 제5호 (2006).2. 정태진, 유종준 ... 및 스테이지 기술, 전기의 세계, 제51권, 제2호 (2002).4. Jung Hyeun Kim, Christof Asbach, Se-Jin Yook, Kevin Orvek
    리포트 | 20페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.06.26
  • [전자회로실험] MOSFET의 특성 예비보고서
    공정이 비교적 간단하다. MOSFET만을 이용하여 디지털 논리 기능과 메모리 기능을 실현할 수도 있다.☞ 현재 대부분의 VLSI 회로는 MOS 기술로 만들어지고 있다.② 전류 전도 ... , L은 채널 길이, W는 채널폭을 나타낸다. 주어진 공정 과정에 대해 (0.5μnCox)의 값은 상수이므로, 소자의 외형비 W/L이 소자의 도전율 파라미터 K를 결정하게 된다
    리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.10.05
  • 삼성그룹(삼성) 호암 이병철회장의 연혁, 삼성그룹(삼성) 호암 이병철회장의 성장과정, 삼성그룹(삼성) 호암 이병철회장의 경영방식, 삼성그룹(삼성) 호암 이병철회장의 기술발전 분석
    Ⅰ. 개요1백 명 정도의 연구인력으로 출범한 당시 개발팀은 마치 자갈밭에서 금을 찾아 헤매는 심정이었다. 미국 마이크론테크놀로지사로부터 디자인기술을, 일본 샤프사로부터 공정기술 ... DRAM의 개발에 성공하였다. 불과 6개월 밖에 걸리지 않은 64K DRAM의 개발 -보다 정확한 의미로는 공정기술의 재현과 개발- 은 단순한 가전용 LSI급 반도체생산단계에 머물러 ... 삼성그룹(삼성) 호암 이병철회장의 연혁, 삼성그룹(삼성) 호암 이병철회장의 성장과정, 삼성그룹(삼성) 호암 이병철회장의 경영방식, 삼성그룹(삼성) 호암 이병철회장의 기술발전 분석
    리포트 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2013.07.17
  • [삼성전자 전략][브랜드 전략][경영 전략][인재육성 전략][HRD]삼성전자 브랜드 전략, 삼성전자 경영 전략, 삼성전자 인재육성 전략, 삼성전자 HRD(인적자원개발) 전략 분석
    로 결정하였고, 불과 1년도 안되어서 1983년 12월 1일 64KD램을 개발하여 세계를 놀라게 하였다. 미국의 마이크론 테크놀로지의 칩 설계기술과 일본 샤프의 공정기술을 도입해서 ... 주에게 원 스톱 shopping의 기회를 제공하고, 항상 광고주 보다 먼저 준비 된 상황속에서 이전의 단순한 갑을적 종속 관계에서 벗어나 공정한 마케팅 카운셀러로 인정받아야 할 것 ... 었다. 그 후 12월 20일 한국반도체의 외국 지분 50%를 마저 인수하여, 1980년에 삼성반도체를 출범시켰다. 처음에는 초보적인 집적회로를 생산하던 삼성반도체는 VLSI에 투자하기
    리포트 | 10페이지 | 5,000원 | 등록일 2013.07.17
  • 마이크로프로세서의 발전 과정과 컴퓨터 산업에 기여한 점 그리고 최신동향을 A4 용지 2페이지 이내로 자세히 서술하라.
    를 가지고 있다. 마지막으로 80486DX2는 80486DX에 클럭 배가 기술을 적용하였다.1992년에 펜티엄이 나오기 시작했는데, 80586 마이크로프로세서는 64비트의 데이터 ... 와 비디오, 통신기능을 내장함으로써 여러 가지 기능을 한꺼번에 할 수 있는 기능이다. 펜티엄II- MMX기술을 자체적으로 포함하고 클록속도가 300, 333, 450MHz등으로 나타나 ... 하는 점화장치와 연료장치를 장착을 하고 있다.4. 마이크로프로세서 최근동향컴퓨터와 같은 반도체 기술은 1980년부터 지금까지 20여 년 동안 정말 혁명적으로 불릴 정도로 많은 발전
    리포트 | 5페이지 | 3,500원 | 등록일 2013.04.17
  • (a+자료)고성능컴퓨터를 만들기위해 우리는 어떠한 노력을 했는가(슈퍼컴퓨터 레포트)
    화할 수 있는 운영체제가 개발 되었다.결과적으로 VLSI 기술, 병렬 프로그램 언어, 컴파일러 그리로 병렬 운영체제를 기반으로 제작된 병렬 컴퓨터 시스템은 많은 성능 향상을 가져왔 ... 하다. 일기 예보, 원자력 연구, 지진 분석 및 컴퓨터 그래픽의 계산 등 과학 기술 분야의 복잡하고 방대한 계산을 처리하는 데 사용된다.연산처리 속도가 매초 10억 회 이상의 과학 기술 ... 에 되돌려 보내는 방식이다.프로세스를 실행한 후 다음 프로세스에 대한 대기와 실행 등을 제어할 수 있다. 공정 제어기계나 의료기 시스템에도 사용된다.7. 분산 시스템
    리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2014.06.15
  • [컴퓨터의이해공통] 마이크로프로세서의 발전과정과 컴퓨터산업에 기여한 점 및 마이크로프로세서최신동향, 매트릭스 코드의 하나인 QR코드와 QR코드만들기 마이크로프로세서발전과정
    는 것이다. 최근, LSI, VLSI, ULSI기술을 “세계를 장악하는 열쇠”라 부르는 것은 그 중요성을 웅변하고 있는 것이다.컴퓨터는 현대 사회에서 빼 놓을수 없는 중요한 도구가 되 ... 로 성공한 컴퓨터에 장착이 되었다.1976년에 다시 8080의 입출력 부분과 기능적인면을 보강한 8085가 선보였다. 8085에서 가장 중요한 것은 NMOS공정과 5V 단일전원 ... CPU로서 450, 500, 550MHz의 클럭스피드로 제조공정은 0.25미크론이 될것이고 카트마이는 지금까지 INTEL이 밝힌 바대로 부동소숫점 연산에서 'SIMD' (Single
    리포트 | 14페이지 | 2,500원 | 등록일 2013.04.07
  • 디스플레이 공정
    프로세스 기술의 분류▣디스플레이 및 반도체 전체 공정박막공정기술- 박막형성기술은 반도체 제조공정 중에서 가장 다양성이 풍부한 분야로서 그 장치도 방식과 원리에 있어 매우 다양 화 되 ... 어 있다.박막형성기술이 중요한 이유형성된 막이 그대로 디바이스 구조 중에 남아 있음 그 디바이스의 특성 양품률 신뢰성 등에 커다란 영향을 주기때문▣디스플레이 및 반도체 전체 공정 ... 과정▣리소그래피 공정리소그래피는 포토마스크 기판에 그려진 VLSI의 패턴을 웨이퍼 상에 전사하는 수단이다.리소그래피 공정의 흐름▣리소그래피 공정리소그래피 공정의 실제 예드라이에칭
    리포트 | 20페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.10.09
  • 삼성전자의 반도체 사업부
    기 시작함 1980 년대 막대한 투자자금을 확보하여 VLSI 반도체 사업에 진출 , 메모리사업에 특화 DRAM 을 주력제품으로 선정 , 선진업체들과의 기술격차를 줄이는데 노력 ... 사업현황 메모리사업에서 전세계 시장점유율 1 위를 차지 !!인수합병 DRAM 업체간의 인수합병 Micron/TI. 공정기술 단축의 저원가 전략을 추구 대량생산의 효율적 으로 운영 ... 컴퓨터의 CPU 를 말함 MCU (Microcontroller Unit) - 각종 전자제품 내에서 기능을 제어세계반도체산업 반도체의 생산공정 웨이퍼의 표면에 여러 종류의 막
    리포트 | 27페이지 | 3,500원 | 등록일 2011.08.27
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2025년 10월 11일 토요일
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