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"박막 공정" 검색결과 741-760 / 3,383건

  • 재료공학실험1 - 포토리소그래피
    재료공학실험1 - PhotolithographyQ1(1) Lift off법은 기존의 식각 기술을 도입하되, 금속 막을 입힌 후 식각 공정을 행하는 것이 아니라, 금속박막 증착 전 ... 에 기판에 감광막을 입히고 감광막을 현상하여 패턴을 형성 한 후 거기에 금속박막을 증착하고 감광막을 용매를 써서 벗겨내는 방법이다. 이 경우 공정이 복잡해진다는 단점이 있 ... 된 PR의 프로파일이 역사다리 꼴 형태로 되어서 Lift off 공정에 적합하다.Q2증착반도체 소자를 구동하기 위해 필요한 다양한 물질(금속이나 polymer)을 얇은 두께의 박막
    리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2019.09.20
  • 반도체 8대 공정 기술, 제조원료 및 제조기술(삼성 면접 자료)
    공정 3.식각공정 4. 이온주입 5.박막형성 기술 및 공정반도체 공업-원리n형 반도체 전자가 하나 남는 주개의 형태 불순물 : As(비소) – 5족원소 자기장 받음 → 남아있 ... 에 박막층을 형성하는 공정화학적 방법CVD (Chemical Vopor Decomposition)반도체 제조기술-박막형성표면에서 화학반응이 진행되어 박막을 형성박막성장의 경로반도체 ... 반도체(Semiconductor) 공정기술목 차반도체공업 반도체 제조원료 반도체 제조기술1.다결정 실리콘 제조 2.단결정 실리콘 제조 3.실리콘웨이퍼의 제조1.웨이퍼세척 2.사진
    리포트 | 22페이지 | 3,500원 | 등록일 2018.05.16
  • 증착공정
    기 위해서는 반도체의 원재료가 되는 실리콘(Si) 웨이퍼 위에단계적으로 박막을 입히고(증착공정) 회로 패턴을 그려 넣은(포토공정) 다음, 불필요한 부분을 원하는 만큼 제거(식각공정 ... )하고 세정하는 과정을 여러 번 반복 하게 된다.이 공정 과정 중에서 박막을 성장시키는 방법, 증착기술 PVD, CVD,가 있다.CVD란?CVD는 Chemical Vapor ... 증착공정(deposition)'증착'의 사전적 의미는'퇴적'이라는 뜻으로'쌓아 올린다'는 의미를 가지고 있다.'증착'은 디스플레이 공정에서반도체 기판에, 즉, 실리콘 기판 위
    리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2018.01.27
  • thin file공정
    Report1. 박막제조공정의 개요박막제조공정이란 thin film deposition(증착)과 photolithography(사진 식각) 기술을 이용하여 원하는 형상의 회로 ... , drilling, trimming 등이 있으나 궁극적으로 이러한 부가 공정은 thin film process를 의미하지는 않는다.2. 박막제조공정(Thin film process ... 위에 형성되어 있는 층(산화 공정이나 박막증착 공정의 결과로)을 선택적으로 제거하는 공정을 사진식각(photolithography) 공정이라 한다. 이중 사진공정은 마스크(mask
    리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.12.04
  • 판매자 표지 자료 표지
    [신소재기초실험]산화 공정 - Oxidation Process
    산화 공정- Oxidation Process-1. 실험 목적가. 실험 목표산화공정의 진행 순서 및 기본원리를 이해하고 실험결과를 비교, 고찰해본다. 산화공정은 반도체 소자 제조 ... 공정 중 하나로 고온(800~1200℃)에서 산소나 수증기를 주입시키고 열을 가해 실리콘 웨이퍼 표면에 얇고 균일한 실리콘 산화막(SiO _{2})을 형성 시키는 공정이다. 실리콘 ... 산화막은 실리콘 표면에 원하지 않는 오염을 방지하고 반도체 소자에서 매우 우수한 절연체로 전류와 도핑물질의 이동을 막는데 사용되는 물질이다. 그러므로 고품질의SiO _{2} 박막
    리포트 | 8페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.04.13 | 수정일 2020.08.13
  • [재료,소재,화공실험]투명전극 실험 보고서 에이플러스 받은 내용입니다.
    과 같은 습식 코팅 공정이 가능하여 균일한 박막을 경제적으로 대량생산 할 수 있다. 또한 PEDOT : PSS의 전기적 특성은 박막의 모폴로지(mophology) 또는 화학적/물리 ... 은 LCD, PDP, OLED 등의 평판 디스플레이, 터치스크린, 박막 태양전지에 다양하게 활용되고 있다. 현재 사용되고 있는 가장 대표적인 투명전극은 우수한 광학적, 전기적 성능 ... 라 고온의 증착 공정을 사용하기 때문에 인쇄 공정을 활용하여 고성능의 투명전극을 제작한는데 한계가 있어왔다. 또한 ITO 투명전극의 경우 인듐이라는 고가의 희귀 원소가 사용되기 때문
    리포트 | 10페이지 | 4,000원 | 등록일 2018.10.26
  • 반도체의 원리, 종류 및 공정 과정
    디지털 회로 설계HW#1목차트랜지스터란?1) 접합형 FET(JFET)2) 절연형 FET(MOS)반도체 공정이란?1)웨이퍼 제조, 회로 설계 및 마스크 제작2) 웨이퍼 가공-박막 ... . 가장 대표적인 공정박막형성, 패턴 형성 그리고 도핑 3가지가 있다.-박막형성박막형성의 목적은 웨이퍼 표면에 막을 형성하는 것이다. 가장 기본적인 박막형성법은 웨이퍼 표면 ... 다.ALD공정의 원리ALD는 원자층 증착법으로 ALD금속이 포함된 원료와 반응 가스를 교차하여 주입함으로 원료와 가스를 반응시켜 원자단위 박막을 성장시키는 방법이다. 기존의 PVD
    리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2017.12.01
  • 반도체 제조 공정의 종류와 기법 서술
    웨이퍼 제작박막 성장 또는 증착패턴형성● 반도체 제조공정에서 사진 공정은 어떤 역할을 수행하는가불순물 주입박막 식각여라차례반복사진공정을 통해 집적회로를 구성하는 트랜지스터,저항 ... 되는 SiO2를 제작하는 공정-건식 산화법건식산화는 산소를 바로 주입하여 공정하는 형태로 다른 부산 물이 존재 하지 않기 때문에 양질의 박막을 얻을 수 있으나 산화막 성장 속도가 느리 ... ,커패시터 등에 해당하는 패턴을 웨이퍼의 표면에 구현한다. 반도체 제조공정에서는 이러한 과정들이 여라 차례 반복되면서 하나의칩을 만들어 내게 된다.가장 중요한 반도체 기술이 사진
    리포트 | 17페이지 | 4,500원 | 등록일 2015.06.09
  • 판매자 표지 자료 표지
    [화학공학실험]발광박막의 제조 및 PL분석
    발광박막의 제조 및 PL분석1. 실험 목적가. 발광특성이 있는 물질을 사용한 간단한 발광박막의 제조를 통하여 박막재료 제조 공정의 이해를 돕는다.나. 광학적인 재료분석기법 중 ... 의 하나인 PL 분광법(Photoluminescence Spectroscopy)의 기본 원리를 이해하고, 실제 박막 재료의 특성들 즉, 고체 결정의 band-gap 특성, 불순물 특성 ... , 발광 특성 등을 조사한다.2. 실험 이론 및 원리가. 박막수면의 기름막, 비누방울이 아롱진 막, 금속 표면의 녹, 함석 ·생철의 아연막 ·주석막 등이 이에 속하지만, 이 밖
    리포트 | 6페이지 | 2,500원 | 등록일 2016.03.07 | 수정일 2020.08.01
  • 물리 증착법(PVD)에 대한 조사[정의 및 원리, 특성, 종류 등]
    으로 증착 시키는 공정을 말한다. 원하는 금속 물질에 가해진 에너지가 운동에너지로 변하여 물질이 기판으로 이동하여 박막을 형성하게 된다.- PVD의 증착면은 수 나노미터에서 수천 ... 위에 증착 할 수 있는 장비를 사용하는 공정으로써, 반도체 공정 및 MEMS 공정에 필요한 전극 제작에 주로 사용된다.4.2.2.E-beam evaporation의 박막증착 형성 ... Physical Vapor Deposition[Report]과 목 명 : 박막재료공학담당교수 :학 과 : 재료공학전공학 번 :이 름 :목 차1. 박막제조를 위한 증착법2. PVD
    리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2017.01.06
  • 태양전지
    태양전지의 장단점 장점 단점 20 년 이상 장수 ( 소재 안정성 우수 ) 유연성이 거의 없음 수요증가에 대한 대응가능 ( 대규모 생산가능 ) 생산 시 복잡한 공정 높은 제조단가 많 ... 전지의 장점과 단점 장점 단점 제조공정 단순 ( 저가의 제조설비 밎 공정 ) 전기 변환 효율이 기존의 태양전지에 비해 낮다 . 10 년 이상 사용하여도 초기 효율을 거의 유지 ... 3 ) 를 이용하여 만든 ( 박막형태 ) 차세대 태양전지 염료감응 태양전지의 일종 전기발생을 위한 활성층으로 실리콘웨이퍼 대신 기판을 사용하여 박막을 증착 16 /20유기재료학
    ppt테마 | 22페이지 | 4,000원 | 등록일 2019.09.22 | 수정일 2023.05.12
  • 인하대 패터닝 예비보고서
    한다. 반면, 역방향 바이어스(p형 부분에 – 전압, n형 부분에 +전압)의 경우는 전위장벽을 높여 전류의 흐름을 억제한다.박막의 식각 및 증착 공정을 활용한 소자들에 대한 원리 ... 지만, 나머지 반도체 제작의 주요 공정에서는 산화 공정, 박막 증착, lithography 공정 등과 같이 화학을 소재로 하는 설계가 많기 때문에, 화학공학전공자가 반도체 산업 ... 이산화규소 박막의 형태화 및 처리Patterning and treatment of SiO2 thin films실험 조:작성자:학번:실험 일자 :제출 일자 :담당 조교 이름 :“나
    리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.09.15
  • [물리학과][진공 및 박막실험]진공의 형성과 RF Sputter를 이용한 ITO 박막 증착 결과 보고서
    내구성이 우수하며, 낮은 온도에서 공정이 가능하고 원료 가격이 저렴하여 ITO 투명 도성 박막을 체할 수 있는 물질로서 각을 받아왔다.ITO박막은 높은 기도성과 투과도를 얻기 해서 ... 진공의 형성과 RF Sputter를 이용한 ITO 박막 증착1. 실험 목적(1) Sputter를 이용하여 ITO박막을 증착해보자.(2) Sputter 장비의 증착 순서를 익히 ... 고, 각각의 부품 역할을 이해하자.(3) ITO 박막의 특성을 결정하는 조건(증착압력, RF power 등등)에 대하여 알아보자.2. 실험결과3. 결론Sputter를 이용하여 ITO
    리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.09.23
  • 반도체 공정과정
    을 거친 웨이퍼에서 불필요한 조건의 박막을 물리적 화학적 방법을 이용해 선택적으로 제거해 나감으로서 웨이퍼에 마스크와 동일한 패턴을 형성7. 증착공정 웨이퍼 위에 원하는 분자 또는 ... 목차 반도체 공정CZ 초크랄스키법 , Fz ( 플로팅 존법 ) 1. Ingot 성장1. 단결정 Si(Seed) 잉곳 (Ingot) 의 밑단제거 2. 다이아몬드 톱을 이용하여 균일 ... 두께로 얇게 절단 3. 웨이퍼 완성 2. 웨이퍼 만들기 ( 결정 성장 후 성형 공정 필요 )3. Lapping , Polishing 절단 직후의 웨이퍼에는 표면에 흠이 있기 때문
    리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.07.09
  • 판매자 표지 자료 표지
    [냉동공조에너지실험]태양광 발전기
    적으로 저급한 재료에 저가 공정을 이용하여 생산비는 낮으나 효율이 낮다. 단결정 실리콘을 사용한 전지는 집광장치를 사용하지 않은 경우의 기록이 24% 정도이며 집광장치를 사용한 전지는 28 ... 다. 지상용으로 가장 널리 사용되고 있는 결정질 실리콘 태양전지는 스크린 인쇄법에 의한 전극을 갖는 구조로써 광변환 효율이 12%~17% 정도이다. 현재 태양전지 공정에 대한 연구 ... 는 태양전지 제조시에 소요되는 공정을 현재 16시간에서 1시간대 이내로 단축하는 공정단순화, 대량생산용 연속 제조공정, 저온 급속 열처리 공정 개발과 고효율을 달성하기 위한 표면처리
    리포트 | 6페이지 | 2,500원 | 등록일 2020.05.09 | 수정일 2020.08.12
  • 나노재료공학_기말 REPORT
    따라서 빛을 모을 수 있는 가장 작은 한계값이 100nm가 되는 것이다.2. Homogeneous하게 박막을 제작할 수 있는 방법의 이름을 모두 열거 하시오.*Homogeneous ... 의 지시어 줌으로서 연속적으로 막을 형성하는 방법→단일 물질을 다층박막 구조로 만들지는 못한다.→최소 두가지 이상의 물질을 가지고 있어야 다층박막구조를 만들 수 있 ... 다.④Lithography Techniques-광학 리소그래피광학 리소그래피는 일반적으로 컴퓨터 칩을 만드는 데 사용되는 화학 공정이다. 실리콘으로 만들어진 평면 웨이퍼는 집적 회로를 만들기 위해 패턴
    리포트 | 16페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.06.13 | 수정일 2020.11.22
  • [물리학과][진공 및 박막실험]Ellipsometer를 이용한 박막의 두께 측정 결과 보고서
    Ellipsometer를 이용한 박막의 두께 측정1. 실험 목적Ellipsometer를 이용하여 박막의 두께 측정를 측정한다.레이저의 반사를 통해서 박막의 두께를 알아본다.2 ... = (180-116.3)/2 =31.85°△ = 360° ? 84.7° = 275.3°3. 결론Ellipsometer를 이용하여 박막의 두께 측정를 측정할 수 있었다. 또한 ... 레이저의 반사를 통해서 박막의 두께를 알아보았다. 엘립소미터는 레이저를 이용해 반사되는 각을 보고 박막의 두께를 측정하는 것이고, 박막의 두께는 지문이나 다른 물질이 있음으로 인하
    리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.09.23
  • 나노화학실험 CVD 예비보고서
    하다장치비가 비교적 저렴하다공정제어가 정밀하다증착온도가 700~1100℃로 높아 열에 영향을 받는 재료에 적용이 힘들다기판의 종류가 제한적이다불순물의 오염도가 상대적으로 높다박막 ... 성이 강한 기체 상태의 화합물을 반응 장치 안에 주입하여 이를 빛, 열, 또는 플라즈마 등으로 활성화시켜 박막을 형성한다.3. 이론 및 키워드[1] 진공[1.1] 정의 : 물질이 전혀 ... kPa1atm = 760Torr = 1.01325bar = 1.013x105Pa = 101325Pa[1.3] 사용진공영역진공도 범위적용되는 공정진공펌프의 기종저진공(Rough
    리포트 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2020.06.30 | 수정일 2021.05.30
  • 스퍼터링, RIE 실습 레포트
    위 금속 박막 증착 및 광학적 투과율 측정DC 플라즈마를 이용한 스퍼터링 증착 방법으로 유리기판 위 금속 박막 증착 시 일정 파워와 일정 압력에서 증착시간, 전체 유량, O2 ... gas 유무에 따른 금속 박막의 광학적 투과율 변화를 측정하는 데 목표를 둔다.ⅱ) RIE를 이용한 bare glass, 실리콘 기판 표면처리 조건에 따른 접촉각 측정이온 충격 및 ... 가 전기적 반응에 의해 가속되어 충돌현상을 갖는데, 증착 및 식각 등의 플라즈마 공정은 이러한 충돌현상으로 발생하는 물리적, 라디칼을 이용한 화학적 반응을 이용한다.ⅰ) 스퍼터링
    리포트 | 7페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.06.28
  • PVD방법(열 증발법, 전자빔 증발법, 스퍼터링 법)
    가 Target 에서 떨어져 나와 기판 표면에 박막형성PVD 의 장점 저온공정 , 안정적 고품질 박막에 유리 불순물 오염정도가 낮음 ( 진공상태 ) 단순한 메커니즘 ( 박막의 접합성과 단일 ... Deposition) - 증착하고자 하는 금속을 진공 속에서 기화시켜 방해물 없이 기판에 증착하는 방법 (Deposition ( 증착 ) 이란 웨이퍼 위에 얇은 박막을 덮는 것을 의미
    리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2020.07.09
  • EasyAI 무료체험
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2025년 10월 08일 수요일
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