"리소그래피 공정"의 검색결과 입니다.

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포토리소그래피 asml 반도체화학 반도체 포토공정 microlithography

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"리소그래피 공정" 검색결과 21-40 / 496건

수분수집을 위한 초발수/초친수 복합 표면 제작: 그라비아 옵셋 프린팅과 콜로이달 리소그래피 공정 (Fabrication of a Hybrid Superhydrophobic/superhydrophilic Surface for Water Collection: Gravure Offset Printing & Colloidal Lithography)

한국정밀공학회 지승묵, 임현의, 김인영, 김은희, 정지은, 김완두

논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.04.09 | 수정일 2025.05.08

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나노 임프린트 리소그래피법에 의한 나노미터급 원기둥패턴을 갖는 도광판의 제작 공정 개발 (Development of Fabrication Process of Light Guiding Plate with Nanometer-Sized-Cylindrical Pattern Using Nano ImprintLithography Method)

제어·로봇·시스템학회 이병욱, 홍진수, 김창교

논문 | 4페이지 | 무료 | 등록일 2025.03.13 | 수정일 2025.03.28

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다층 리지스트 및 화합물 반도체 기판 구조에서의 전자 빔 리소그래피 공정을 위한 몬테 카를로 시뮬레이션 모델 개발 (A Monte Carlo Simulation Model Development for Electron Beam Lithography Process in the Multi-Layer Resists and Compound Semiconductor Substrates)

한국진공학회 손명식

논문 | 11페이지 | 무료 | 등록일 2025.05.07 | 수정일 2025.05.17

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포토리소그래피 공정만을 이용한 단일벽 탄소 나노튜브의 자가 조립 공정에 대한 연구와 단일벽 탄소나노튜브 다중채널 전계효과 트랜지스터 제작 (Study on the Self-assembled Process of Single-walled Carbon Nanotubes (SWNTs) Fabricated Using Only Photolithography and the Fabrication of SWNT-based Multi-channel Field-emission Transistors)

한국물리학회 김경헌, 김태근, 김선호, 변영태

논문 | 4페이지 | 무료 | 등록일 2025.04.27 | 수정일 2025.05.14

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밀리미터파용 HEMT 소자 개발 및 제작을 위한 T-게이트 형성 전자빔 리소그래피 공정 모의 실험기 개발 (Development of Electron-Beam Lithography Process Simulation Tool of the T-shaped Gate Formation for the Manufacturing and Development of the Millimeter-wave HEMT Devices)

대한전자공학회 손명식, 신동훈, 이진구, 황호정, 김성찬

논문 | 14페이지 | 무료 | 등록일 2025.05.17 | 수정일 2025.05.22

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photolithography 공정 발표자료, 포토리소그래피

Photo-litho-graphy : light-stone-writinglithography2-D patternphotolithography3-D patternThen, how is the pattern transfered in photolithography? In t..

리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2016.04.26 | 수정일 2016.05.04

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PMMA/P(MMA/MAA) 구조에서 0.1μm T-gate 형성을 위한 전자빔 리소그래피 공정에 관한 연구

한국재료학회 최상수, 이진희, 유형준, 이상윤

논문 | 8페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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Si TFT공정과 포토리소그래피 공정 조사 레포트

Si-TFT manufacturingWhat is TFT?About LCD.LCD is adopted liquid crystal properties to display unit. The molecular array is changed by electronic syste..

리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.06.23

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반도체 공정과 리소그래피 개요

Photo Lithography반도체 (집적회로) 공정1단계 : 단결정 성장2단계 : 규소봉 절단3단계 : Wafer 표면 연마4단계 : 회로 설계5단계 : Mask 제작6단계 ... : 산화 공정7단계 : 감광액 도포8단계 : 노광 공정9단계 : 현상 공정10단계 : 식각 공정11단계 : 이온 주입12단계 : 화학기상증착13단계 : 금속 배선14단계 ... : Wafer 자동선별15단계 : Wafer 절단16단계 : 칩 접착17단계 : 금속 연결18단계 : 성 형규소봉 가공 및 마스크 제조Wafer 가공 공정조립 및 검사Lithography

리포트 | 27페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.01.18

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리소그래피 개요및 이론 및 공정 에대한 설명

의 Ar[4] 장비가 주목받고 있다.Giga Bit 시대의 리소그래피 기술은 장비나 마스크 자체만의 기술이 아닌 집적 공정 전반의 기술적 검토를 필요로 하고 있다. 광학적 해상도와 반 ... 리소그래피 공정은 전체 반도체 제조 공정의 약 35%를 차지하는 제일 중요한 기술로서, 반도체 집적소자의 초 고집적화 및 이를 위한 초미세화 기술을 이끌어 가고 있다.선폭 ... (linewidth)이 작아질수록 광학적 해상력 한계를 극복하기 위한 기술들이 많이 연구되었고 이에 대한 많은 변수들이 등장하므로 이를 제대로 이해하고 분석하는 것이 리소그래피 공정

리포트 | 8페이지 | 무료 | 등록일 2009.07.18 | 수정일 2018.11.24

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반도체, 리소그래피 간단요약

리소그래피(Lithography)란?흔히 포토-리소그래피(photo-lithography) 공정을 줄여서 포토(photo) 공정이라고 한다. 감광 수지를 이용하기 때문에 감광 ... 공정이라고 부르기도 하나, 엄밀히 말해 감광액을 사용하는 단계 역시 포토리소그래피의 일부이기 때문에 일반적으로는 포토 공정이라고 부르는 편이다. 포토리소그래피의 단어를 '포토 ... '와 '리소그래피'로 나눠서 그 의미를 파악하면 이 공정이 어떠한 작업을 의미하는지 보다 쉽게 알 수 있다.우선 포토(photo)는 빛이나 사진을 의미하는 단어다. 빛(光)을 의미

리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2021.01.11

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EUV 리소그래피 발표자료 및 대본

포토공정 ( 포토 – 리소그래피 )란?리소그래피란 ‘석판인쇄술’을 의미 ‘포토’란 빛( 光 ) 을 의미 ⬇︎즉, ‘포토-리소그래피’ 는 빛을 이용한 기판 인쇄술을 의미포토공정 ... 하는 광학 공정에 사용되는 액체노광(Exposure) 공정감광액 도포 후 노광장비를 사용해 빛을 선택적으로 조사하여 마스크의 패턴을 웨이퍼에 찍어내는 공정

리포트 | 19페이지 | 4,000원 | 등록일 2021.08.02

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반도체 노광장비를 독점하는 ASML에 대해서

될 독점적 위치에 있는 기업으로 이 회사는 리소그래피 관련 시스템으로 구성된 고급 반도체 장비 시스템을 개발한다. ASML은 DUV 리소그래피, EUV 리소그래피 그리고 응용 ... 프로그램까지 세 가지 영역에 대한 홀리스틱 리소그래피 솔루션을 판매한다. 2020년대 이후 세계적으로 반도체 품귀현상이 발생하고 있으며 더 나아가 기하급수적으로 성장하는 반도체 시장 ... 에 맞물려 ASML 또한 호황을 누리고 있는 것이 사실이다. 특히, 5nm 이하의 미세 공정을 통해 반도체를 생산하는 데 있어 기존 DUV 장비가 아닌 EUV, 즉 극자외선 노광장비

리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2022.10.02

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포토리소그래피 실험 리포트

과 전체적인 Photolithography 공정의 전반적인 이해.3.실험 이론-Photoresist:빛을 받아 중합, 분해 또는 변성되는 성질을 일으키는 재료로, IC LSI생산에 없 ... 하였다.6. Discussion이번 실험은 디스플레이재료 시간에 배웠던 Photolithography 공정을 간단히 실험하여 positive & negative PR의 차이점 ... 과 공정과정을 이해하는 실험이었다. 우선 positive와 negative 모두 같은 방법으로 실험을 진행하였는데, 다른 점이 있다면 negative에서 Exposure(노광) 과정

리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.08.10

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반도체(포토리소그래피,나노임프린트)실험 결과 보고서(실험과정, 분석)

정도로 PR을 올려 준 후 다음과 같이 코팅을 해준다.표 1 PR coating 공정PR Spin coating1step(속도/시간)1800rpm60s● 주의점 : 스포이트로 PR ... 를 제거하고 기판과의 접착력을 높여 주기 위해 soft bake를 해준다.표 2 Soft bake 공정 조건PR Soft Bake온도(CENTIGRADE )90시간(s)120(4 ... 장착. ● 처음 공정에서 웨이퍼의 진공을 잡아 주지 못하였다. 즉 그로 인해 contact이 완전하지 않아 마스크와 기판 사이에 간격이 보다 넓어지게 되고 회절에 의한 분해능이 안

리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.11.02 | 수정일 2023.08.24

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Photolithography 예비보고서

예비보고서실험제목 Photolithography이론 및 배경1) Lithography 정의와 Photolithography 공정 과정 Photolithography 공정과정 ... Lithography(리소그래피)란, 웨이퍼라고 하는 반도체 기판에 미세하고 복잡한 전자회로 패턴이 담긴 마스크 상을 빛을 이용해 그려 회로를 그리는 기술이다. 여기서 패턴을 형성 ... 하는 방법은 흑백 사진을 만들 때 필름에 형성된 상을 인화지에 인화하는데, 그것과 유사하다고 하여 Photo Lithography(포토 리소그래피)라고도 한다

리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.12.16 | 수정일 2021.04.08

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반도체 제조 공정 보고서

1. 소개반도체공정을 주제로 반도체 제조 공정에 중심적인 내용을 다루고 반도체의 역할과 종류, 반도체 관련 장비 및 기술, 반도체산업의 시장과 전망을 조사하여 반도체에 관한 전반 ... 하여 만든다. 재료내 정공(h+)의 밀도가 높아져 전기전도현상의 운반체가 정공(h+)이 된다.3. 반도체 제조 공정3.1 반도체 8 대 공정 반도체의 제조 공정은 기업마다 정의 ... 하는 기준은 다르나 크게 전공정과 후공정으로 나누어 총 8 가지 과정으로 반도체 8 대 공정은 웨이퍼를 투입하고 제품으로 출하될 때 까지 거치는 주요 생산 기술이다.

리포트 | 22페이지 | 3,000원 | 등록일 2021.04.07

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나노 임프린트 리소 그래피 실험 결과 보고서

실험 결과 보고서실험 제목 : Nano Imprint lithography실험 날짜 :실험 장소 :실 험 자 :실험조원 :Ⅰ Introduction나노 임프린트 리소그래피 공정 ... 은 나노 크기의 패턴을 만들어 내는데 대량 생산이 가능한 방법이다. 나노 크기의 패턴의 mold만 제작 한다면 간단한 공정으로 패턴을 프린트 할 수 있다. 그렇기 때문에 공정의 간소 ... 화로 공정 시간 및 비용이 감소한다.● 그림 1 나노 임프린트의 R2R 개략도.또한 프린트 공정은 그림1처럼 Roll-to-Roll 공정이 가능하다. 공정이 연속적으로 이루어지

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2024.08.31

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[A+레포트] 마이크로리소그래피 실험 Microlithography

마이크로리소그래피 실험 Microlithography Lab1. 실험 목표 Objective of ExperimentPhotolithography를 이용하여 마이크로미터 패턴 ... (numerical aperture, N.A)해상도를 향상시키면서도 공정 효율을 높이려면 높은 개구수를 가지면서 동시에 노광 면적 (field area) 가 커야한다.N.A. = n×sinθn ... 를 이용해서 제거한다. 웨이퍼가 이전에 resist로 코팅된 적이 있다 면 다시 코팅하기 전에 stripping을 해주어야 한다.- RCA 세정법 : 현재 반도체 공정에서 사용되는 세

리포트 | 10페이지 | 3,000원 | 등록일 2021.11.16 | 수정일 2021.11.18

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8대공정 요약

습니다. 주로 소자 간 분리, 불순물 확산 방지 등의 목적으로 사용됩니다.3) 포토공정다음으로 포토공정은 포토리소그래피를 줄인 말로 웨이퍼 위에 회로 패턴이 담긴 마스크 상을 빛을 이용 ... 8대공정은 웨이퍼제조,산화,포토,식각,증착및이온주입,금속배선,EDS,패키징공정으로 나눌수있습니다.1) 웨이퍼 제조반도체 집적회로는 웨이퍼라는 얇은 기판 위에 다수의 회로가 만들 ... 를 높여줍니다.2) 산화공정다음으로 산화공정으로 산화막을 형성합니다. 산화막은 회로간 누설전류를 차단하며, diffusion barrier와 식각방지막 역할을 합니다. 주로 실리콘

리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2021.04.11

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