EUV 리소그래피 발표자료 및 대본

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최초 등록일: 2021.08.02
최종 저작일: 2020.04; 19페이지/ 압축파일; 가격 4,000원

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소개글

"EUV 리소그래피 발표자료 및 대본"에 대한 내용입니다.

조선대 신소재공학과 나노공정 EUV 리소그래피 발표자료 및 대본입니다.

발표용 피피티 자료와 대본용 한글파일로 구성되어 있습니다.

반도체의 8대 공정, 포토공정(포토리소그래피), EUV 리소그래피, 실제 EUV 장비 사진 및 설명, EUV 장점 및 문제점, 실제 적용제품 등의 내용입니다.

본문내용

포토공정 ( 포토 – 리소그래피 )란?
리소그래피란 ‘석판인쇄술’을 의미
‘포토’란 빛( 光 ) 을 의미
⬇︎
즉, ‘포토-리소그래피’ 는 빛을 이용한 기판 인쇄술을 의미

포토공정의 순서
감광액 도포 ▶ 노광(Exposure) ▶ 현상(Develop)

감광액(PR) 도포
빛에 민감한 물질로, 반도체 제조 시 원판 표면 위에 미세한 회로를 그리기 위해 빛을 이용하는 광학 공정에 사용되는 액체

노광(Exposure) 공정
감광액 도포 후 노광장비를 사용해 빛을 선택적으로 조사하여 마스크의 패턴을 웨이퍼에 찍어내는 공정

참고 자료

없음

압축파일 내 파일목록

EUV 리소그래피 발표자료 대본.hwp
EUV 리소그래피 발표자료.pptx

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