포토리소그래피 실험 리포트

소개글

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목차

1. 실험 주제
2. 실험 목적
3. 실험 이론
4. 실험 방법
5. 실험 결과
6. Discussion

본문내용

1.실험 주제
Positive & Negative Photoresist를 이용한 Photolithography.

2.실험 목적
Positive PR과 Negative PR의 차이점과 전체적인 Photolithography 공정의 전반적인 이해.

3.실험 이론
-Photoresist:빛을 받아 중합, 분해 또는 변성되는 성질을 일으키는 재료로, IC LSI생산에 없어서는 안 되는 재료의 하나이다.
이 PR에는 2가지 종류가 있는데, positive형과 negative형이 존재한다.
positive형은 감광성화합물, 합성수지, 유기용매의 3가지 성분으로 구성되어있고, 노광 전에는 감광성 물질이 현상액에 불용성이지만 노광 후에는 감광성 물질이 쉽게 용해되어 노광된 부분의 영역은 제거된다.

참고 자료

없음