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pecvd 금오공대 반도체 알파 스텝 플라즈마와건강 진공 증착 반도체 공정 반도체 증착 ito patterning pvd
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"열플라즈마 공정" 검색결과 341-360 / 1,424건

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    기계 공학 응용 실험 예비레포트-MEMS실험 입니다.
    을 실시한다.③ Etching 공정Si 에칭을 실행하는 방법으로 드라이에칭과 웨트 에칭이 있으며 모두 가능하다. 요구되는 형상의 특징, 깊이, 정밀도에 따라 ICP나 Plasma 등 ... 층을 증착하고 식각하는 공정을 통해 미세 구조물을 형성한다. 즉, 희생층과 구조층을 기판위에 형성시킨 후 희생층을 식각하여 구조층만 남게 하는 방법이다.-3D products3차원 ... 을 이용한다. LIGA 마이크로머시닝 가공기술은 X-ray lithography 공정, 도금 공정, 주형 공정을 사용하는 전체 공정을 지칭하며, 각 공정의 독일어 약어를 조합
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    | 리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2017.03.30
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    실리콘 웨이퍼 표준 세정, Cr 증착, photolithography, Cr 식각 실험
    : 1분반-1조- 김덕재, 김정우, 김준희, 명아론, 김지희, 김슬기제 1 장. 실험목적반도체 제조공정의 핵심공정인 포토리소그래피 공정까지의 공정을 수행함으로서 세정방법과 증착 ... 의 원리, 포토리소그래피 공정의 중요성 등을 인식하고 공정을 이해하기 위함.제 2 장. 이론1. 세정법[1](1) 실리콘[3]실리콘은 4개의 가전자를 가지는 기본적인 반도체 물질이 ... 로서 실리콘을 사용하는 이유는 지구에서 두 번째로 풍부한 원소이고 지구 지각의 약 25%를 구성하고 있다. 공정이 적정하다면 실리콘은 반도체 제조에 적합하고 순도를 갖는 다량의 형태
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    | 리포트 | 31페이지 | 2,000원 | 등록일 2016.04.26
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    OLED재료와 기술 그리고 향후 전망
    서론OLED 개요OLED 분자 재료 및 특성EL의 원리와 재료기술 분류 및 구동공정 기술R,G,B 컬러 형성 방식OLED 구동 방식향후전망결론OLED 재료와 기술 그리고 향후전망 ... 해 왔다. CRT(Cathode Ray Tube), PDP(Plasma Display Panel) 등을 거쳐 20년에 가까운 시간 동안 대부분의 가전제품, 휴대폰에 사용된 디스플레이 ... 서나 펄쳐서 볼 수 있다 유기EL 은 조명으로도 사용할 수도 있다. 지금까지 백열등을 점광원에서 형광등을 선광원이라 했다며 유기EL의 조명은 면광원이다 즉, 면자체가 발광한다는 것이
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    | 리포트 | 7페이지 | 3,000원 | 등록일 2018.04.09
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    레이저 공학 레포트 (응용분야, 레이저 거리 센서)
    에 응용 (2) 기능성 박막형성 (3) 극소의 선택적 퇴적2. 레이저 CVD에 의한 마이크로 렌즈 제작(1) 레이저 CVD의 원리 (2) 마이크로 렌즈 형성3. 레이저 플라즈마 X선 ... 리소그래피(1) 레이저 플라즈마 X선 발생원리 (2) LAPLAX 리소그래피4. 자외선 펄즈레이저에 의한 반도체 표면 에칭 계측(1) 드라이 에칭의 레이저 계측 (2) Si기판 ... 차 개발에 있어서 레이저 응용계측(1) 홀로그래피 간섭법 종류와 특징(2) 응용 : 기계적변형, 열적 변형, 진동, 구조물 계측• 토목 건축 분야1. 건설현장에서의 응용(1) 소형
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    | 리포트 | 11페이지 | 3,000원 | 등록일 2018.11.15 | 수정일 2018.11.22
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    반도체 클리닝 공정에 대한 레포트
    (excitation) 에너지에 의존한다. 이 에너지는 열(heat), 플라즈마, 복사(radiation) 로부터 얻어질 수 있다. 또한, 건식세정은 물리적 상호작용에 있어 운동량(momentum ... ① 스퍼터를 시킨다② 오염 물질들을 휘발성 물질로 변화시킨다.③ 오염물질이 놓여 있는 아래층의 물질이 함께 제거된다.(lift-off)Plasma 세정 시에는 공정가스와 plasma ... 반도체 공정 클리닝반도체 공정 클리닝(Semiconductor cleaning system)웨이퍼의 표면 상태를 조절 하는 과정제출일전공과목학번담당교수이름서론클리닝 과정
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2015.05.30
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  • 판매자 표지 자료 표지
    반도체 클리닝 공정 (반도체 클리닝 공정에 대한 조사 레포트)
    (excitation) 에너지에 의존한다. 이 에너지는 열(heat), 플라즈마, 복사(radiation) 로부터 얻어질 수 있다. 또한, 건식세정은 물리적 상호작용에 있어 운동량 ... 방법① 스퍼터를 시킨다② 오염 물질들을 휘발성 물질로 변화시킨다.③ 오염물질이 놓여 있는 아래층의 물질이 함께 제거된다.(lift-off)Plasma 세정 시에는 공정가스 ... 반도체 공정 클리닝반도체 공정 클리닝(Semiconductor cleaning system)웨이퍼의 표면 상태를 조절 하는 과정제출일전공과목학번담당교수이름서론클리닝 과정
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    | 리포트 | 8페이지 | 3,000원 | 등록일 2015.06.12 | 수정일 2017.01.09
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    기계가공의 종류 및 내용
    용접 용사 아크용접 , 가스용접 , 저항용접 , 테르밋용접 가스식 , 전기식 변질가공 열처리 표면처리 담금질 , 뜨임 , 풀림 , 불림 화성처리 , 양극성화피막 , 표면경화 ... 된다 . 이 융해철을 이용하여 접합하거나 살올림하기도 하는 용접 ▶ 용 접 의 종류모재보다 뛰어난 특성을 갖는 봉 , 선 , 분말 등의 재료를 사용하여 가스나 전기등의 열원에 의해 용융 ... 를 사용할 수 있다 . 3. 부착가공 ( 용사 )사용하는 열원에 따라 가스식과 전기식으로 구분되며 , 세부적으로 plasma 코팅 , H.V.O.F ( 고속화염용사 ), fusing
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    | 리포트 | 53페이지 | 3,000원 | 등록일 2018.11.27 | 수정일 2023.08.21
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  • 자료 표지
    선박건조공학 요약 정리
    법금속, 유리, 플라스틱 등을 열과 압력을 가해 접합하는 기술아크, 마찰, 플라즈마, 레이저, 가스, 고주파용접 등 다양함[한국의 조선 산업]1980년대 본격적으로 조선에 진출 ... 연결되어 절단선 형성※ Plasma 상태: 전기적 중성 기체가 많은 에너지를 흡수한 후 원자와 전자가 유리되어 극성된 상태※ 플라즈마 절단의 장/단점▶ 장점빠른 절단속도각종 금속 ... )으로 불린다.[도장]▶ 목적: 후속되는 가공, 조립과정 중 발생할 수 있는 녹을 방지하기 위해 일차적으로 도장, 예열, 건조하는 공정▶ 종류- Wash Primer- 유기 zinc
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    | 시험자료 | 22페이지 | 2,000원 | 등록일 2016.02.07 | 수정일 2021.07.05
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  • 자료 표지
    유체역학 요점 및 정리
    하는 유체 동역학이 있다.5. 플라즈마는 전기적으로 중성이지만 이온화 하고 있는 고온의 기체로 전자성 유체라고도 하며, 핵융합 발전의 에너지원과 반도체 공정에 응용되고 있다.6. 유체 ... 1. 유체는 기체, 액체, 플라즈마 같이 형태를 변형하기 쉽고 유동성에 변화가 많은 물질로, 비틀림에 의해 영구적으로 저항하지 않는 성질을 가지고 있다.2. 압력에 따른 유체 ... 와 속도 퍼텐셜의 곱이 -1일 때 서로 직교하는데, 이것은 열전도에서의 에너지 흐름선과 등온선이 서로 직교하는 것과 유사하다.18. 점도는 흐름에 대한 저항의 정도로 상대적 운동
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    | 리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2017.10.08
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    8. PLED 소자제작(결과-논문)
    동안 코팅해주고 접착력을 더 높여주고자 약간의 열을 가한다(softbaking). 다음 포토마스크를 코팅된 ITO기판에 올려 UV노광을 시켜 패턴을 만든다. positive PR ... HTL를 깔기 위해, 사용할 PEDOT:PSS를spin coater로 4000rpm에서 30초간 도포하고 15분간 열처리를 한다. 열처리가 끝나면 emitting layer를 글러브 ... 박스 안에서 3900rpm에서 30초간 도포한다. 코팅이 끝나면 90도로 30분동안 열러리를 한다. 열처리 과정까지 끝나면 발광면을 제외한 전극부분의 고분자들을 클로로벤젠과 메탄올
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    | 리포트 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2016.04.06 | 수정일 2016.04.11
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    왜 Plasma에 대해 알아야 하는가?
    왜 Plasma에 대해 알아야 하는가?저는 박막을 형성하는데 plasma가 매우 중요하다고 생각해서 이에 대해 조사하였습니다.그 이유는 plasma를 이용한 공정의 장점에 대해 ... 나 evaporation과 같은 공정과 달리 저온에서 공정이 가능하다는 것 입니다. CVD의 경우 여러 물질이 서로 화학반응을 하기 위해 반응에너지가 필요한데 이를 열에너지로서 공급하고 있 ... 습니다. 즉 고온에서 공정이 이루어져야 합니다. 하지만 sputtering에서는 chamber 내부의 압력과 전극의 양단의 전위차이가 plasma의 밀도를 결정하며 온도는 크게 중요하지 않
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    | 리포트 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2014.03.23
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    CVD method 예비
    hamber안으로 유입된다. 이 기체 혼합물은 증착표면에 이르기까지 가열되고, 대류 또는 증착표면의 가열에 의해 계속 열을 공급받는다. 여러가지 공정 조건에 따라서 반응기체는 증착 표면 ... 법(열,플라즈마,광).2) 원료가스(할로겐화물, 수소화물, 유기금속화합물).3) 온도(기상, 기재, 로벽, 노즐).4) 압력(상압, 저압, 초저압).5) 반응 Chamber. ... 에피,산화막 및 질화막을 형성하는데 사용된다. 이들 반응 장치의 대부분은 RF 전력을 이용한 냉벽(cold wall) 공정이며, 반응실 내부의 열판을 가열시켜 가스를 열적으로 활성
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    | 리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2017.06.17
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    [재료공학실험]주사전자현미경을 이용한 미세구조 관찰
    (liquid-solid) 화학반응에 의해 에칭이 이루어지게 하는 것을 말한다. 습식에칭은 반도체 공정에서 매우 광범위하게 사용되고 있다. 즉, 절단한 wafer의 표면 연마, 열 ... 이 가능하다. 열전자총대신에 Field Emmission(FE) 전자총을 장착한 FE-SEM은 1.5㎚이하의 고 분해능으로 고화질의 화상을 얻을 수 있기 때문에 형상관찰에 폭넓게 이용 ... 이 다른 상이 있다던가 하기 때문에 아무런 조직을 볼 수 없기 때문이다. 에칭(etching)은 접촉되는 부분을 화학적으로 녹여서 제거하는 공정이다. 에칭에는 용액을 사용하는 습식
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    | 리포트 | 9페이지 | 3,500원 | 등록일 2018.01.31 | 수정일 2020.08.05
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  • 자료 표지
    나노공정 용어 정리
    (Plasma Enhanced-chemical vapor deposition)반도체 전(前)공정 장비로 웨이퍼 표면에 원료가 되는 가스를 공급한 뒤 열과 플라스마를 이용해 화학적 반응 ... 나노공정책: Micro and Nano Fabrication: Tools and ProcessesMean Free Path(평균자유행로)평균자유행정(平均自由行程)이라고도 한다 ... 가 평균자유행로만큼 나아가면 평균적으로 1회 충돌한다고 볼 수 있다. 0℃, 1atm에서의 기체분자의 평균자유행로는 약 10-5cm 정도이다. 기체의 점성계수·열 전도율·확산계수
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    | 시험자료 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2016.04.11
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    ♥이것만보면됨8개년정리♥생활과화학(생활속의화학)1차시험중간고사
    정리본겹치는 문제는 정리해서 문제수가 맞지 않습니다. 제가 시험에 사용하려고 파일 하나하나 열어보면서 타이핑치고 정리한 파일입니다.제가 에타에서 구매한 파일과, 동감에서 포인트 ... 는합물을 비스듬히 빠르게 회전시켜서 가벼운 것은 위로 뜨고 무거운 것은 아래로 내려가는 점을 이용한 것은?1. 원심분리법2. 전자법(전자기장법)3. 기체 확산법4. 열확산법5 ... 억도의 온도가 필요하다3. 핵융합 반응의 원료로 중수소와 삼중수소가 주로 사용된다4. 플라즈마 방식과 레이저 방식이 주로 핵융합 반응에 적용되고 있다.5. 핵융합 발전은 핵분열
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    | 시험자료 | 11페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.05.12
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    PVD 원리와 종류
    . PVD의 종류물리증착의 기초 프로세스는 증발과 증착에 있고, 이 프로세스의 공정 및 이것에 대하여 각종 연구가 진행되고 있다. 예를 들면, 스퍼터 증발법이나 이온화(플라즈마 ... 나 디스플레이를 비롯한 각종 소재의 표면처리에 다양하게 응용되고 있다.그림1. 박막공정의 분류본 보고서는 박막제조 기술 중에서 건식코팅(Dry Coating)으로 알려진 진공증착에 의한 ... (800~1050°C)인 TD와 CVD공정이, 템퍼링 온도 이하(450°C)에서도 우수한 밀착력을 갖는 PVD공정으로 대체되고 있다.(2) PVD의 메카니즘PVD의 원리는 진공
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    | 리포트 | 14페이지 | 2,000원 | 등록일 2015.07.27
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    고분자재료실험 예비보고서(ITO)
    및 수율을 향상시킨다.4. 실험이론 및 배경Pattern 공정을 하기 위해서는 주변의 청정도가 매우 중요한데, 아래 그림에서 보는 것과 같이 Clean room 에서 빛에 노출 ... 되지 않는 환경을 구비한 후 공정을 시작하여야 한다.Cleaning & Wet-Station 의 중요성모든 반도체 공정은 오염물들의 근원이고 이는 소자의 성능과 수율에 직접적인 영향 ... 을 미치게 된다. 각 공정 후 Glass 표면의 오염물은 기하급수적으로 늘어나게 되고 이 오염물에 의해 반도체 소자의 수율은 급격히 감소하게 된다. 반도체 세정 공정은 Glass
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    | 리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2015.05.11 | 수정일 2022.09.29
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  • 판매자 표지 자료 표지
    간호학과 대학병원 실습 OR 사전학습 레포트
    피.- 액체성 EO가 피부에 닿았을 때 빨리 제거하지 않으면 심한 화상을 입을 수 있음.(2) Plasma 멸균- 과산화수소를 멸균제로 사용.- 멸균공정 시간이 빠르고 안전. ... 멸균법이 불가능 할 때- 열에 약한 물건을 멸균할 때- 기구와의 좋은 적합성- 비교적 저렴한 가격- 증기로 인한 호흡기에 자극성- 자극적인 냄새- 결핵균 살균에 장시간 소요- 기구
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    | 리포트 | 34페이지 | 3,500원 | 등록일 2020.04.15 | 수정일 2020.04.21
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    용접 기초 PPT
    에 해로운 일산화탄소가 많이 발생할 수 있으므로 주의가 요구됨2. 아크 용접플라즈마 아크 용접(Plasma Arc Welding)플라즈마 가스를 가는 틈으로부터 고속으로 분출시켜 생기 ... 는 2개의 금속 물체를 열이나 압력 또는 압력을 동시에 가해 접합시키는 기술이다.볼트(Bolt)리벳팅(Riveting)본딩(Bonding)용접(Welding)압접(Pressure ... - 원자 사이의 거리는 1cm의 1억분의 1정도로 세밀한 결합이다. 용접의 장점 - 재료의 절약 - 공정수 절약 - 이음효율의 높음으로 제품의 성능과 수명이 향상 - 자동화 용접 가능
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    | 리포트 | 48페이지 | 3,500원 | 등록일 2016.06.02 | 수정일 2020.07.03
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  • 자료 표지
    [고분자재료실험] 5. ITO Scribing & Cleaning. - 예비
    시킨다.4. 실험이론 및 배경 :Pattern 공정을 하기 위해서는 주변의 청정도가 매우 중요한데, 아래 그림에서 보는 것과 같이 Clean room 에서 빛에 노출되지 않는 환경 ... 을 구비한 후 공정을 시작하여야 한다.Cleaning & Wet-Station 의 중요성모든 반도체 공정은 오염물들의 근원이고 이는 소자의 성능과 수율에 직접적인 영향을 미치게 된다 ... . 각 공정 후 Glass 표면의 오염물은 기하급수적으로 늘어나게 되고 이 오염물에 의해 반도체 소자의 수율은 급격히 감소하게 된다. 반도체 세정 공정은 Glass 표면의 모든
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    | 리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2014.12.26
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- 작별인사 독후감
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