[공학]나노패터닝기술의종류와 방법

소개글

나노패터닝 기술의 종류와 패터닝 방법에 관한 레폿입니다~^^

목차

● 나노패터닝 기술에 대하여
● 패터닝의 종류와 그 원리

본문내용

● 나노패터닝 기술에 대하여

반도체를 만들때 중요한 것은 회로를 설계하는것과, 설계된 회로를 구현하는것 이다. 얼마나 회로를 작고 정확하게 그려낼수 있는가 하는것이 반도체의 성능과 직결되는 인인데, 이러한 패터닝의 관점에서 나노기술이 유용해지고 있다. 이러한 패터닝의 방식에는 크게 Top down 방식과 Bottom-Up방식으로 나눌 수 있다.

▷ Top-Down 방식
현재 반도체를 만드는대 쓰이는 기술인 포토 리소그래피 기술은 대표적인 탑다운 방식이다. 탑다운 방식이란, 큰 물체를 점점 잘개 쪼개나가는 방식을 말하는데, 현재의 리소그래피 기술은 거의 한계에 다가서있다고 생각되어지고 있어서 새로운 방식의 패터닝방식이 요구되고 있다. 이러한 노력들에 NGL (Next Generation Lithography) 라고 불리는 새로운 리소그래피들이 있는데 아직까지는 대부분이 그다지 만족스럽지 못한 기술들 이다. 그 중에 두가지가 현재 가장 각광받고 있는데, EUV(Extream Ultraviolet)리소그래피와 E-Beam 리소그래피가 그것이다. 이외에도, 나노 임프린트 기술과 UV임프린트 기술이 있다.

▷Bottom-Up 방식
바텀업 방식은 완전히 반대되는 방식으로 마치 레고블럭을 쌓듯이 분자들을 직접 조절하여 패터닝을 하는것이다. Self-Assembly는 분자들의 자기조립 성질을 이용한 패터닝기술로 화학베이스의 나노기술이며 분자가 자기조립할때 여러 팩터를 조절하여 원하는 패턴을 만드는 기술이다. 현재 차세대 패터닝의 방법으로 가장 각광받는 방식이기는하지만, 아직 한정된 종류의 패터닝 밖에는 불가능하고 사용가능한 물질도 제한되있는등 기술적 난점이 많다.

● 패터닝의 종류와 그 원리

① EUV(Extream Ultraviolet)리소그래피

참고 자료

나노테크 활용기술의 모든 것, 정윤하외, 대영사
나노임프린트리소그래피 기술동향 분석 보고서. 한국과학 기술정보연구원
인터넷 자료 등..