리소그라피와 패터닝

소개글

리소그라피의 정의와 분류, 패터닝 방법, 새로운 패터닝 방법에 대한 PPT입니다^^

목차

-기존의 패터닝기술
Photo Rithography
레이저패터닝
Motivation-CVD&PVD

-새로운 패터닝기술
구조
원리
특징(장단점)
문제점해결방안
향후전망

본문내용

Lithography

리소그래피(Lithography)
미술에서 온 것으로 석판에 석고 등을 부어 모양을 만들어내는 것을 본떠 마스크 상의 기하학적인 모형(pattern)을 반도체 웨이퍼 혹은 원하는 시료의 표면에 도포되어 있는 얇은 감광재(photoresist)에 옮겨 놓은 것
포토리소그래피(광 노광기술)
라디에이션리소그래피(방사 노광기술)

Photo Lithography

습식식각
화학용액(산)으로 인한 환경오염 문제
→폐용액을 처리하는데 많은 비용
공정시간이 오래 걸림. 정확도 떨어짐
건식식각
습식식각의 가장 큰 단점인 마스크 아래를 녹이는
언더컷을 유발하는 것을 보완한 것

참고 자료

반도체 제작공정 – 동아대학교 신소재공학과 재료공학실험실
web.skku.edu/~std/newpages/Sputter.htm

Sputtering – 충남대학교 표면처리 연구실