Microscale Patterning with Photolithography and Etching Processes_예비레포트

목차

1. 제목
2. 실험 목적
3. 이론
4. 시약과 기구
5. 실험 방법
6. References

본문내용

1. 제목: Microscale Patterning with Photolithography and Etching Processes
2. 실험 목적
Photolithography와 etching의 과정과 원리를 이해한다.
Cleaing, Photolithography와 etching의 과정을 통해 패턴을 제작하고 관찰한다.
3. 이론
① Photolithography
빛을 이용한 기판 인쇄를 통해 회로 패턴을 제조하는 방법으로, 기판 위에 패턴을 새기는 과정이다. 빛에 반응하며 특성이 바뀌는 감광성 화학물질인 PR(Photo Resist)을 웨이퍼 위에 얇게 코팅한 후 설계된 도면에 맞춰 원판 mask를 제작하고 mask에 빛을 조사하여 원하는 패턴을 새긴다.

1) Vapor prime
웨이퍼를 준비하는 과정. 먼저 Deionized water를 통한 세정과 건조 단계를 거쳐 표면을 깨끗하게 만든다. 그 후 웨이퍼 표면은 친수성이기 때문에 소수성인 PR과 접착이 잘 안되므로 이를 해결하기 위해 HMDS를 도포하여 웨이퍼를 소수성으로 바꿔준다. 이 과정은 PR과 웨이퍼의 접착력을 높인다.

참고자료

· LG 디스플레이 뉴스룸: 포토리소그래피
· Sk Hynix 뉴스룸: 포토공정=노광과 현상
· Chemical synthesis of ferrite thin films (Subhajit Nandy, Keun Hwa Chae, in Ferrite Nanostructured Magnetic Materials, 2023)
· [Reagents & Apparatus] “안전보건공단”
· “Chemical Engineering Laboratory I”