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ALD ppt 발표 자료

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최초등록일 2023.11.10 최종저작일 2022.03
반도체공정 ALD 공정 개요
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    목차

    1. ALD 공정 개요
    2. Enhanced ALD
    3. ALD 최근 기술 동향
    4. 참고문헌

    본문내용

    ALD (Atomic Layer Deposition)
    다양한 기재(substrate)위에 금속 전구체와 반응 가스를 교차적으로 주입
    Self-limiting surface reaction에 의해 박막을 LBL형태로 성장 시키는 진공기상증착 방법

    특징
    Self-limiting surface reaction
    -> 복잡한 3차원 구조 기재 위에서도 매우 균일한 두께의 박막을 얻을 수 있다.
    No gas phase reactions

    참고자료

    · 반도체용 ALD 공정 장비의 진공 챔버 내부 유동에 대한 PIV 측정/ 허동현/ 서울과학기술대학교/ 2020
    · UV-enhanced atomic layer deposition of Al2O3 thin films at low temperature for gas-diffusion barriers/
    · https://slidetodoc.com/advances-in-atomic-layer-deposition-of-semiconductor-device-2/
    · Spatial Atomic Layer Deposition (SALD), an emerging tool for energy materials/ Comptes Rendus Physique/ 2017/ 391-400
    · Area-Selective Atomic Layer Deposition of SiO2 Using Acetylacetone as a Chemoselective Inhibitor in an ABC-Type Cycle/ Alfredo Mameli/ ACS NANO/2017
    · https://news.skhynix.co.kr/post/ald-using-atoms
    · https://repository.hanyang.ac.kr/bitstream/20.500.11754/105923/1/UVenhanced%20atomic%20layer%20deposition%20of%20Al2O3%20thin%20films%20at%20low%20temperature%20for%20gas-%20diffusion%20barriers.pdf
    · a_20160623_B4510_s04775_622.pdf
    · yong by 김용효 (prezi.com)

  • AI와 토픽 톺아보기

    • 1. ALD (Atomic Layer Deposition) 공정 개요
      ALD는 반도체 및 나노소재 제조에서 혁신적인 박막 증착 기술입니다. 원자 단위의 정밀한 제어를 통해 매우 얇고 균일한 막을 형성할 수 있다는 점이 핵심 강점입니다. 자기 제한적 화학 반응(self-limiting reaction)을 기반으로 하는 ALD는 복잡한 3D 구조에도 우수한 단차 피복성(step coverage)을 제공합니다. 이러한 특성으로 인해 차세대 반도체 소자 제조에 필수적인 기술로 자리잡았으며, 향후 더욱 중요해질 것으로 예상됩니다.
    • 2. ALD의 장단점 및 특성
      ALD의 가장 큰 장점은 원자 수준의 정밀도, 우수한 균일성, 그리고 높은 단차 피복성입니다. 이러한 특성은 미세한 구조 제어가 필요한 첨단 소자 제조에 매우 유리합니다. 그러나 공정 속도가 느리다는 점이 주요 단점으로, 생산성 향상이 과제입니다. 또한 높은 장비 비용과 복잡한 공정 제어가 필요하며, 전구체 물질의 선택이 제한적일 수 있습니다. 이러한 장단점을 고려할 때, ALD는 고부가가치 제품에 적합한 기술이라고 평가됩니다.
    • 3. ALD 응용 분야
      ALD는 반도체 산업에서 가장 광범위하게 활용되고 있으며, 특히 고유전율 절연막(high-k dielectric), 금속 배리어층, 그리고 3D NAND 플래시 메모리 제조에 필수적입니다. 디스플레이 기술, 태양전지, 배터리, 그리고 센서 분야에서도 점차 중요해지고 있습니다. 의료용 임플란트 코팅, 촉매 제조, 그리고 에너지 저장 장치 등 다양한 산업에서의 응용 가능성도 높습니다. 이러한 광범위한 응용 분야는 ALD 기술의 우수성과 미래 성장 가능성을 잘 보여줍니다.
    • 4. Enhanced ALD 및 최근 기술 동향
      최근 ALD 기술은 공정 속도 향상을 위한 다양한 혁신이 진행 중입니다. 플라즈마 ALD, 열 ALD의 개선, 그리고 새로운 전구체 개발이 활발히 이루어지고 있습니다. 머신러닝을 활용한 공정 최적화, 원자 정밀도 제어 기술의 고도화, 그리고 다층 박막 동시 증착 기술도 주목할 만합니다. 또한 환경 친화적 전구체 개발과 공정 비용 절감을 위한 연구도 진행 중입니다. 이러한 기술 동향들은 ALD를 더욱 실용적이고 경제적인 공정으로 발전시킬 것으로 기대됩니다.

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