PECVD 공정

최초 등록일
2018.06.15
최종 저작일
2012.10
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목차

1. Plasma
1) history & mean
2) application

2. CVD
1) review
2) type & feature

3. PECVD
1) mean & feature
2) application

본문내용

Application
▪ Fusion power
- Magnetic fusion energy (MFE)
- Inertial fusion energy (IFE) (also Inertial confinement fusion - ICF)
- Plasma-based weaponry
▪ Ion implantation
▪ Ion thruster
▪ Plasma ashing
▪ Plasma CVD
▪ Plasma etching
▪ Plasma arc waste disposal
▪ Plasma acceleration
▪ Dentistry

CVD (Chemical vapor deposition)
REVIEW
▪Film deposition by initiating a chemical reaction inside a chamber filled with reagents vaporized in an inert carrier gas

▪Energy supplied by the surroundings causes the diffused reagents to react thus forming the desired material film across the target surface

참고 자료

없음

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