포토리소그래피와 식각 공정을 이용한 미세 패턴 형성
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Microscale Patterning with Photolithography and Etching Processes_결과레포트
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2023.12.12
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1. 포토리소그래피(Photolithography)웨이퍼에 감광제(Photoresist)를 코팅하고 UV 빛을 조사하여 패턴을 형성하는 공정입니다. 본 실험에서는 양성 감광제 AZ1512를 사용하여 클리닝, PR 도핑, 소프트 베이킹, UV 노광, 현상, 하드 베이킹 단계를 거쳤습니다. 양성 감광제는 빛을 받은 부분의 폴리머 분자간 결합이 약해져 현상액에 의해 제거되므로 노광된 부분이 마스크와 동일한 패턴으로 형성됩니다. 해상도는 Rayleigh 관계식에 의해 결정되며, 파장이 짧고 개구수(NA)가 클수록 미세한 패턴을 만들 수 있습니다.
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2. 습식 식각(Wet Etching)화학반응을 이용하여 웨이퍼의 불필요한 부분을 제거하는 공정입니다. 감광제가 남아있는 부분을 방어막으로 사용하여 감광제가 없는 부분을 선택적으로 식각합니다. 본 실험에서는 BOE(Buffered Oxide Etch) 용액 내의 HF를 사용하여 산화규소를 식각했습니다. 습식 식각은 저비용이고 빠르지만 등방성 식각으로 인해 감광제 하부도 식각될 수 있어 미세한 패턴 구현이 어렵다는 단점이 있습니다.
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3. 감광제(Photoresist) 특성감광제는 수지, 용매, 광활성 화합물(PAC)로 구성되며 양성과 음성 두 가지 종류가 있습니다. 양성 감광제는 빛을 받으면 PAC가 활성화되어 폴리머 결합이 약해지고 현상액에 용해되는 반면, 음성 감광제는 빛을 받으면 결합이 강해져 빛을 받지 않은 부분이 제거됩니다. 양성 감광제는 해상도가 우수하여 미세 패턴 형성에 유리하지만 산화막과의 접착력이 떨어지는 단점이 있습니다.
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4. 베이킹(Baking) 공정감광제 내의 용매를 제거하고 밀도를 증가시키는 공정입니다. 소프트 베이킹은 UV 노광 전에 용매를 적절히 제거하여 노광 시 감광제가 제대로 반응하도록 합니다. 노광 후 포스트 노광 베이킹은 standing wave 현상을 제거하고, 하드 베이킹과 포스트 현상 베이킹은 남아있는 용매를 제거하여 감광제의 밀도를 높이고 웨이퍼와의 접착력을 향상시킵니다.
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1. 포토리소그래피(Photolithography)포토리소그래피는 반도체 제조의 핵심 공정으로서 미세한 패턴을 정확하게 형성하는 데 필수적입니다. 이 기술은 광원을 이용하여 감광제에 패턴을 전사하는 방식으로, 현대 집적회로 제조에서 가장 중요한 역할을 합니다. 극자외선(EUV) 기술의 발전으로 더욱 미세한 패턴 형성이 가능해졌으며, 이는 반도체 성능 향상에 직접적으로 기여합니다. 다만 장비 비용이 매우 높고 공정 난이도가 증가하고 있어, 지속적인 기술 혁신과 투자가 필요합니다.
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2. 습식 식각(Wet Etching)습식 식각은 화학 용액을 이용하여 불필요한 물질을 제거하는 전통적이면서도 효과적인 공정입니다. 비용 효율성이 우수하고 장비가 간단하여 여전히 많은 반도체 제조 공정에서 활용되고 있습니다. 그러나 등방성 식각으로 인한 측면 식각 문제와 화학 폐기물 처리 문제가 있습니다. 미세 패턴 형성이 필요한 최신 공정에서는 건식 식각으로 점차 대체되고 있지만, 특정 용도에서는 여전히 중요한 역할을 하고 있습니다.
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3. 감광제(Photoresist) 특성감광제는 포토리소그래피 공정의 성패를 좌우하는 핵심 재료입니다. 감광제의 감도, 해상도, 접착력 등의 특성이 최종 패턴의 품질을 결정합니다. 양성 감광제와 음성 감광제의 선택에 따라 공정 결과가 달라지며, 최근에는 고해상도와 높은 감도를 동시에 만족하는 신소재 개발이 활발합니다. 감광제의 특성 개선은 반도체 미세화 기술 발전의 직접적인 원동력이 되고 있습니다.
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4. 베이킹(Baking) 공정베이킹 공정은 감광제의 용제를 제거하고 기판과의 접착력을 향상시키는 중요한 열처리 공정입니다. 프리베이킹과 포스트베이킹 단계에서 온도와 시간을 정확하게 제어해야 최적의 결과를 얻을 수 있습니다. 베이킹 조건이 부적절하면 감광제의 박리, 패턴 변형 등의 문제가 발생할 수 있습니다. 공정의 안정성과 재현성을 위해 베이킹 조건의 정밀한 관리가 필수적이며, 이는 전체 포토리소그래피 공정의 수율 향상에 직결됩니다.
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포토리소그래피와 식각 공정을 이용한 미세패턴 제작1. 포토리소그래피(Photolithography) 빛을 이용한 기판 인쇄를 통해 회로 패턴을 제조하는 방법입니다. 감광성 화학물질인 PR(Photo Resist)을 웨이퍼에 코팅한 후 마스크를 통해 빛을 조사하여 원하는 패턴을 새깁니다. Vapor prime, PR coating, soft bake, exposure, develop, hard bake의 ...2025.11.17 · 공학/기술
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Photolithography 예비보고서1. 반도체 기본 개념 반도체는 상온에서 전기 전도도가 도체와 부도체 사이인 물질을 말한다. 반도체를 통해 다이오드, 트랜지스터, DRAM, 플래시 메모리와 같은 소자를 만들 수 있게 되었으며 현대 산업의 핵심 물질로 각광받고 있다. 반도체의 종류로는 intrinsic semiconductor(진성반도체)와 extrinsic semiconductor(외인성...2025.05.05 · 공학/기술
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PN 접합 제조 공정 기술 요약1. 열산화(Thermal Oxidation) 열산화는 웨이퍼 표면에 산화층을 형성하는 공정으로, 마스킹, 소자 격리, 게이트 산화막 형성, 표면 패시베이션 등의 목적으로 사용됩니다. 습식 산화는 두꺼운 산화층 형성에 사용되고, 건식 산화는 높은 밀도의 산화층 형성에 사용됩니다. 2. 확산(Diffusion) 확산은 실리콘에 불순물을 도입하는 방법으로, 도...2025.11.18 · 공학/기술
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[A+] 단국대 고분자공학실험및설계2 <포토리소그래피> 레포트1. 포토리소그래피 포토리소그래피(Photolithography)는 원하는 회로설계를 유리판 위에 금속패턴으로 만들어 놓은 포토마스크라는 원판에 빛을 조사하여 생기는 패턴을 웨이퍼 상에 전사시켜 복사하는 기술이며, 반도체 및 디스플레이의 제조 공정에서 설계된 패턴을 웨이퍼 상에 형성하는 가장 중요한 공정이다. 포토리소그래피 공정은 측정을 포함하여 기본 8단...2025.01.22 · 공학/기술
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photolithography 및 etching 공정 레포트1. 반도체 공정 이 보고서는 반도체 제조 공정에 대해 자세히 조사하여 반도체 공정에 관한 전반적인 내용을 다루고 있습니다. 주요 내용으로는 반도체의 정의와 특성, 반도체 8대 공정(웨이퍼 준비, 산화, 증착, 포토리소그래피, 식각, 금속화, 전기적 테스트, 패키징)에 대한 설명과 실험 과정 및 결과 분석이 포함되어 있습니다. 2. 포토리소그래피 포토리소그...2025.01.24 · 공학/기술
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반도체 취업] 8대공정 간단 정리 및 추가 개념 상세 설명1. 반도체 제조 공정 반도체 제조 공정은 크게 웨이퍼 제조, 전공정, 후공정으로 나뉩니다. 웨이퍼 제조 공정에서는 실리콘 웨이퍼를 만들고, 전공정에서는 웨이퍼 위에 회로를 형성하며, 후공정에서는 테스트와 패키징을 진행합니다. 8대 핵심 공정은 산화, 포토, 식각, 박막증착, 금속배선, 전기적 테스트, 패키징 등입니다. 각 공정에서는 다양한 기술이 활용되며...2025.01.18 · 공학/기술
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Photolithography 예비보고서 3페이지
예비보고서실험제목 Photolithography이론 및 배경1) Lithography 정의와 Photolithography 공정 과정 Photolithography 공정과정Lithography(리소그래피)란, 웨이퍼라고 하는 반도체 기판에 미세하고 복잡한 전자회로 패턴이 담긴 마스크 상을 빛을 이용해 그려 회로를 그리는 기술이다. 여기서 패턴을 형성하는 방법은 흑백 사진을 만들 때 필름에 형성된 상을 인화지에 인화하는데, 그것과 유사하다고 하여 Photo Lithography(포토 리소그래피)라고도 한다.Photolithograph...2020.12.16· 3페이지 -
숭실대 Photo-lithography 예비보고서 2페이지
Photo-lithography-예비보고서-숭실대학교 유기신소재파이버공학과과목명신소재공학실험2(나)조반조원지도교수담당조교학번제출일이름1. 실험 제목 : Photo-lithography2. 배경 및 이론1. Photo-lithography의 의미 및 원리포토리소그래피는 박막 또는 기판에 부품을 패턴화하기 위해 미세 가공에 사용되는 프로세스 이다. 다시 말하면, 복잡한 회로 패턴을 제조하는 방법을 뜻한다. 빛을 이용한 포토마스크에서 기판의 감광성을 이용하여 화학 포토레지스트로 패턴을 찍어 내는 것이다. 포토 마스크를 이용하여 포토레지스...2022.10.05· 2페이지 -
반도체, 리소그래피 간단요약 2페이지
리소그래피(Lithography)란?흔히 포토-리소그래피(photo-lithography) 공정을 줄여서 포토(photo) 공정이라고 한다. 감광 수지를 이용하기 때문에 감광 공정이라고 부르기도 하나, 엄밀히 말해 감광액을 사용하는 단계 역시 포토리소그래피의 일부이기 때문에 일반적으로는 포토 공정이라고 부르는 편이다. 포토리소그래피의 단어를 '포토'와 '리소그래피'로 나눠서 그 의미를 파악하면 이 공정이 어떠한 작업을 의미하는지 보다 쉽게 알 수 있다.우선 포토(photo)는 빛이나 사진을 의미하는 단어다. 빛(光)을 의미하는 ph...2021.01.11· 2페이지 -
PDMS를 이용한 미세접촉 인쇄 예비 보고서, 예비 레포트 A+ 11페이지
학번이름실험 제목PDMS를 이용한 미세접촉 인쇄실험 주차9주차(5월 3일)실험 목적PDMS 고무를 이용하여 자기조립 단분자막의 미세접촉(microcontact)전사 실험을 수행한다.실험 이론1. 미세접촉 인쇄(microcontact printing)[1]미세접촉 인쇄는 소프트 리소그래피의 한 종류로, PDMS 스탬프 또는 우레탄 고무 마이크로 스탬프의 릴리프 패턴을 사용하여 표면에 잉크의 자기조립 단층(SAM) 패턴을 형성한다. 이번 실험에서는 유기금속 반응을통해 가교되는 PDMS를 도장으로 사용하는 미세접촉 인쇄를 진행한다.동전의...2023.02.10· 11페이지 -
반도체 공학 과제 (반도체 기본 공정 기술) 20페이지
반도체 기본 공정 기술00대학교학번1. 웨이퍼웨이퍼란 반도체 직접 회로를 만드는 주요재료로 실리콘(Si), 갈륨 아세나이드(GaAs) 등을 성장시켜 얻은 단결정 기둥(Ingot)를 적당한 지름으로 얇게 썬 원판모양의 판 을 말한다. 대부분의 웨이퍼는 실리콘으로 만든다. 실리콘은 안정적으로 얻을 수 있는 재료이고 환경적으로 우수하다는 장점이 있다. 실리콘은 원가가 저렴하고 특성이 우수하며 열에도 강하다, 하지만 고출력이 필요한 전력 반도체는 실리콘만으로는 출력이 부족하거나 반도체의 크기가 너무 커질 수 있어 탄화규소 또는 질화갈륨과 ...2021.07.02· 20페이지
