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MEMS 개론 기말과제2025.01.161. MEMS 공정 MEMS 공정에는 패턴 정의, 첨가 공정(성층, 증착), 제거 공정(식각) 등이 있다. Bulk micromachining은 실리콘 기판 자체를 가공하여 원하는 구조체를 만드는 것이고, Surface micromachining은 실리콘 기판을 손상시키지 않고 표면의 얇은 막으로 구조체를 만드는 것이다. 이러한 MEMS 공정을 통해 작은 스케일의 특징을 파악할 수 있다. 2. Soft baking과 Hard baking Soft baking은 감광액 내 용매를 약 5% 제거하여 감광액의 밀도를 높이고 웨이퍼와의 접...2025.01.16
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나노반도체 IGZO TFT 제작 공정 실험2025.11.151. Gate via Patterning IGZO TFT 제작의 첫 번째 단계로, 게이트 전극으로 사용할 Si를 측정에서 접촉할 수 있도록 만드는 공정입니다. 웨이퍼 세척 후 포토리소그래피를 통해 원하는 패턴을 형성합니다. 기판의 유기물과 불순물을 제거하고, 산소플라즈마로 표면 반응성을 향상시킨 후, 포지티브 포토레지스트를 코팅하고 마스크를 이용한 노광 공정을 거칩니다. 2. Wafer Cleaning 반도체 기판 표면의 유기물, 불순물, 금속이온 등을 제거하는 전처리 공정입니다. 아세톤과 이소프로필알코올을 이용한 초음파 세척으로 ...2025.11.15
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포토리소그래피와 식각 공정을 이용한 미세 패턴 형성2025.11.171. 포토리소그래피(Photolithography) 웨이퍼에 감광제(Photoresist)를 코팅하고 UV 빛을 조사하여 패턴을 형성하는 공정입니다. 본 실험에서는 양성 감광제 AZ1512를 사용하여 클리닝, PR 도핑, 소프트 베이킹, UV 노광, 현상, 하드 베이킹 단계를 거쳤습니다. 양성 감광제는 빛을 받은 부분의 폴리머 분자간 결합이 약해져 현상액에 의해 제거되므로 노광된 부분이 마스크와 동일한 패턴으로 형성됩니다. 해상도는 Rayleigh 관계식에 의해 결정되며, 파장이 짧고 개구수(NA)가 클수록 미세한 패턴을 만들 수 ...2025.11.17
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CMOS 정리2025.11.131. CMOS 기술 CMOS(Complementary Metal-Oxide-Semiconductor)는 반도체 집적회로 제조 기술로, 상보형 금속산화막 반도체를 의미합니다. 낮은 전력 소비, 높은 집적도, 우수한 노이즈 특성을 특징으로 하며, 현대 마이크로프로세서, 메모리, 이미지 센서 등 다양한 전자기기에 광범위하게 적용되고 있는 핵심 반도체 기술입니다. 2. 반도체 공정 반도체 공정은 실리콘 웨이퍼 위에 회로를 형성하는 일련의 제조 과정입니다. CMOS 공정은 NMOS와 PMOS 트랜지스터를 동시에 제작하여 상보형 구조를 만들며...2025.11.13
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공정과 공정설계과정에 대하여 설명하시오2025.01.201. 공정의 개념과 정의 공정은 재화나 서비스를 생산하기 위해 원자재를 가공하거나 조립하는 일련의 활동을 의미하며, 이와 같은 활동이 효율적으로 이루어지도록 설계하는 과정이 바로 공정설계입니다. 공정은 물리적 변화, 화학적 변화, 조립 및 조합 등의 다양한 형태로 나타날 수 있으며, 제조업뿐만 아니라 서비스업에서도 중요한 의미를 가집니다. 2. 공정설계의 주요 단계 공정설계는 1) 요구 분석, 2) 공정의 구체적인 설계, 3) 설계된 공정을 실제로 구현하는 단계로 이루어집니다. 이 과정에서 최적의 생산 흐름을 구축하기 위한 다양한 ...2025.01.20
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(A+ 자료) HY 경영대학 MBA ESG ESG 개론_SK하이닉스 ESG 사례 분석 리포트2025.01.121. ESG 개론 ESG 개론 중간고사 대체 리포트-SK하이닉스 ESG 사례 분석-선정이유SK그룹은 국내 ESG 경영의 선도적인 역할을 하고 있음. 그 중 SK하이닉스는 SK그룹의 주력 사업체이자 국내 법인 중 매출액과 임직원 수 규모가 상위 5순위 안에 드는 기업으로 사회적 영향력이 상당하다고 판단. 따라서 SK하이닉스의 ESG경영 의지와 사회적 영향력이 작지 않다 판단하여 본 과제의 사례 기업으로 선정함. 2. SK하이닉스 기업 개요 SK 하이닉스 기업 개요 (2021 기준)사업개시 연월 : 1983년 2월 (전신 현대전자)제품...2025.01.12