1. 수평 전극 스위칭(In-Plane Switching : IPS) 방식TN 모드의 경우 구조가 간단하고 파장에 따른 광학 특성 변화가 작은 장점이 있지만 보는 각도에 따라서 대비비가 크게 달라져 시야각 특성이 좋지 않은 문제점을 안고 있다. 그림 1에서 보듯이 TN 모드에서는 기판표면에서의 초기 배향 방향을 기준으로 전기장에 의해 액정이 움직여 특정한 방향으로 일어서는 형태이므로 보는 각도에 따라 굴절률 이방성의 크기가 다르고 그 변화향이 크기 때문에 대비비가 비대칭적이며 시야각도 좁다.그림 1. 액정 분자 배열에 따른 시야각 특성 : (a) TN 모드, (b) IPS 모드이러한 TN 모드의 좁은 시야각 문제를 해결하기 위하여 여러 기술이 개발되던 중 1995년 말 Hitachi 사에서 IPS 모드를 채용하여 LCD의 시야각을 크게 향상하였다. 그림 1(b)에 나타난 IPS 방식에서는 액정의 방향자를 기판 평면상에서 회전시켜 어두운 상태와 밝은 상태 모두를 구현함으로써 보는 각도에 따른 액정의 굴절률 이방성의 차이가 TN 모드에 비해 작아지게 하여 기판으로부터 수직하게 방향자가 변형될 때의 시야각 문제를 해결하였다. 또한 전극 구조를 chevron 구조로 설계하여 수직 단면 내에 액정의 회전 방향이 반대가 되는 두 가지의 약정 층이 존재함으로써 LCD를 통과하는 빛의 위상차가 보상되어 넓은 시야각을 구현할 수 있게 된다.2. VA(Vertical Alignment)대부분의 LCD모드에서는 액정을 수평 배향하게 되는데 주로 기판의 표면에 고분자 배향막을 코팅하고 이를 러빙하는 방법들이 사용되어 왔다. 이러한 러빙 공정을 거칠 경우 표면의 미세한 표면 구조와 불순물이 생기게 되어 LCD 화면의 불균일이 발생할 수 있다. 이와는 달리 약정을 수직 배향하는 경우 러빙 공정이 필요하지 않거나 러빙을 하더라도 초기 액정 배향이 균일하며 대비비가 높은 LCD를 구현할 수 있다. 이러한 장점을 가진 VA모드가 개발된 이후 이를 바탕으로 한 광시야각을 위한 다양한 방식의 d voltage) 이상의 전압이 인가되면 러빙되지 않은 기판의 경우 일정한 방향으로 분자가 재배열되지 않아 대비비가 나빠지게 되며 재현성도 떨어진다. 그리고 기판을 러빙한 경우에는 분자가 러빙방향으로만 기울어져 시야각 특성이 나빠진다.이러한 문제점을 개선하기 위해서는 그림 2와 같이 액정의 방향자가 여러 방향으로 향해야 한다. 이를 위해 1997년 Fujitsu사 에서는 milti-domain VA(MVA)모드를 채용하여 매우 넓은 시야각을 갖는 LCD 패널을 개발하였다. MVA기술은 그림 6에 나타난 바와 같이 액정 시편 안쪽에 돌기(protrusion)을 형성하여 액정 분자와 이들 돌기 사이의 상호 작용을 이용하여 milti-domain을 구현하는 기술이다. 또한 삼성전자에서는 그림 4와 같이 하판의 화소 전극과 상판의 공통 전극에 일전한 모양의 slit 패턴을 형성하여 액정 시편에 전압이 인가될 때 패턴된 전극의 가장자리에서 발생되는 fringe electric field를 이용하여 액정 분자를 여러 방향으로 배열시키는 patterned VA(PCA)모드를 개발하였다. 이외에도 Sharp사 에서는 그림 5에 나타난 것과 같이 상판에 전극을 원뿔형태로 패터닝하여 액정 시편에 전압이 인가될 때 액정 분자들이 모든 방향으로 눕게 하여 어느 방향에서 보던지 같은 시야각 특성을 얻을 수 있도록 한 advanced super view(ASV)모드를 개발하였다.그림 2. VA9Verical Alignment) 모드의 Domain 효과에 의한 시야각 보상그림 3. MVA(Multi-domain Vertical Alignment) 모드의 동작 원리그림 4. PVA(Patterned Vertical Alignment) 모드의 동작 원리그림 5. ASV(Advanced Super View) 모드의 동작 원리그림 6. 돌기가 형성된 패널의 개략도3. OCB(Optically Compensated Birefringence)대부분의 액정 모드에서는 빛이 기판에 수직하게 입사한 면에 기울어진 방향으로 입사된 빛에 대한 시야각은 동일한 두께의 수평 배향된 시편의 경우보다 넓어진다.그림 7. OCB(Optically Compensated Birefringence) 모드또한 휨 변형을 이루는 시편에 biaxial 필름을 부착하여 시야각을 증대시키는 방법은 빠른 응답속도와 시편 구조에 의한 자체보상으로 넓은 시야각 특성을 나타낼 수 있다. Fuji사의 WideView 필름을 이용하여 더 넓은 시야각 특성을 나타내는 방법도 알려져 있으나 액정이 초기에 휨 변형을 가지도록 배향해야 하고, 추가로 사용되는 biaxial 필름의 가격이 비싸다는 단점이 있다.4. ASM(Axial Symmetric Micro-Cell)ASM은 그림 8에 나타난 바와 같이 액정과 고분자를 혼합한 후 상분리 현상을 이용하여 액정과 고분자를 혼합한 후 상분리 현상을 이용하여 액정 자체의 배향력으로 축성 대칭인 화소를 형성하는 방법이다. 러빙 공정없이 축 방향에 대해 대칭인 화소를 형성할 수 있으며 disclination이 없기 때문에 그림 9와 같이 넓은 시야각 특성과 높은 대비비를 가진다. 또한 음의 유전 이방성을 가지는 액정을 이용하여 우수한 시야각 특성을 얻은 결과도 있다. ASM 방법은 위치를 조절할 수 있는 resin-spacer를 이용하여 시편 간격을 유지하므로 대면적에서 고른 시편 간격을 유지할 수 있는 장점을 갖는다. 그러나 고분자 수지 재료의 적합성 및 신뢰성, 고분자 벽 형성 시의 복잡한 공정과 수율(throughput) 저하 등의 단점이 있다.그림 8. ASM(Axial Symmetric Micro-cell) 방식의 모식도그림 9. ASM 모드와 TN 모드의 시야각 특성 비교 : (a) TN 모드, (b) ASM 모드5. VA 모드의 구동 원리VA 모드는 수직 배향 모드로서, 유전율 이방성이 음인 액정을 기판 표면에 수직하게 배향시킨 후, 상부 기관과 하부 기판 사이에 전압을 인가하여 액정 방향자를 재 배열하는 방식이다. 즉 두 기판 사이에 전압이 큰 액정을 의미한다. 따라서 유전율 이방성이 음인 액정은 전계와 수직한 방향으로 눕게 된다.그림 10. VA 모드의 구동 원리그림 10을 참고하면, VA 모드에서 액정의 구동 원리가 나타나 있다. 상부 기판과 하부 기판에 편광판을 부착하며, 이 때 액정은 수직으로 배향되고, 하부 기판을 통과한 빛은 위상 지연(phase retardation) 없이 액정을 통과하여 어두운 상태가 구현된다. 그러나 전압을 인가하면, 액정 방향자가 기판에 평행한 상태로 재배열되고, 위상 지연으로 상태가 변한 빛이 상부 편광판을 통과하게 되므로 밝은 상태가 구현된다.(1) VA 모드의 장점Twisted Nematic(TN) 모드, Super Twisted Nematic(STN) 모드, IPS 모드등의 액정 모드는 초기에 액정을 기판에 수평하게 배향시키는데, 이 때 주로 배향막의 표면을 러빙하는 공정이 추가된다. 러빙(rubbing)이란 상부 기판과 하부 기판의 전극에 폴리 아미드 등으로 이루어진 배향막을 형성하고, 배향막에 미세한 흠을 만드는 공정을 말한다. 그렇지만, 액정이 수직 배향되는 VA 모드에서는 러빙 공정이 필요하지 않는 장점이 있다.특히 LCD 기판의 크기가 대형화됨에 따라 배향막 표면을 균일하게 러빙하는 것이 어려워지고 있는데, VA 모드에서는 이러한 러빙 공정이 필요하지 않아 공정이 단순화되는 장점이 있다.한편 VA 모드는 전압을 인가하지 않았을 때, 액정이 기판에 수직이 되로록 배열되어 어두운 상태를 구현하는데, 액정을 세워서 빛을 완전히 차단할 수가 있으므로 순도가 높은 흑색을 구현할 수 있다. 따라서 콘트라스트 비가 높은 제품을 만들 수 있다. 콘트라스트 비(contrast ratio, CR)는 white상태의 휘도/black 상태의 휘도로 정의되며, black상태의 휘도가 낮아질수록 CR값이 커진다.(2) VA 모드의 단점그림 11. VA 모드의 도메인 효과에 의한 시야각 보상그림 11은 단일 도메인(domain) VA 모드와 두 개의 도매인 VA 모드의 시 액정 분자가 한 방향으로만 기울어 지기 때문에 왼쪽에서 LCD 화면을 보는 경우 액정의 등 부분을 보게 되지만, 오른쪽에서 LCD 화면을 보는 경우 액정의 머리 부분을 보게 된다. 따라서 왼쪽에서 보는 사용자와 오른쪽에서 보는 사용자가 서로 다른 화면을 보게 되는 문제점이 있다. 이를 해결하기 위하여, PVA, MVA 등 multi-domain을 구현하는 기술이 개발되었다.6. PVA 모드PVA 모드는 상부 기판과 하부 기판의 전극에 절개 패턴을 형성한 구조이다. PVA 모드는 삼성전자에서 주로 사용되고 있다.그림 12. PVA 모드의 구동 원리그림 12는 PVA 모드의 구동 원리를 나타낸 그림이다. 그림 12를 참조하면, 상부 기판의 공통전극과 하부 기판의 화소 전극에 절개 패턴이 형성되어 있다. 그 결과 상부 기판과 하부 기판사이에 형성되는 전계의 방향이 왜곡된다. 액정 방향자는 여러 방향으로 왜곡된 전계(일반적으로 fringe field라고 부름)에 따라 눕게 되므로, 광시야각이 구현된다.그림 13. PVA 모드의 절개 패턴 종류그림 13은 상부 기판과 하부 기판의 전극에 형성된 절개 패턴 모양을 나타낸다. 상부 기판고 하부 기판 사이의 절개 패턴은 필요에 따라 다양하게 설계할 수 있으며, 이 때 상부 기판과 하부 기판 사이의 절개 패턴은 엇갈리게 형성되어야 한다. 절개 패턴의 수에 따라 액정 도메인의 수를 다양하게 할 수 있다.7. S-PVA 모드S-PVA 모드는 4 도메인 구조를 8도메인으로 확장해 액정 분자를 다중 제어함으로써 시야각을 획기적으로 향상시키는 기술이다.S-PVA 모드에서는 하나의 화소를 서브 화소와 메인 화소로 나눈다. 서브 화소와 메인 화소는 서로 분리되어 있으며, 전기적으로 절연되어 있다. 서브 화소에는 높은 전압이 인가되어 상대적으로 어두운 계조가 표시된다. 따라서 두 가지 서로 다른 경사각을 갖는 액정 분자들이 하나의 화소 내에 분포하게 된다. 이 때 전체 밝기는 서브 화소와 메인 화소 밝기의 평균에 의해 정해진다. 하나의 화있다.
Report- Experimental Module 6 -결정크기와 격자변형의 측정1. X-Ray Diffraction Pattern of Cold-worked CopperMaterial : Cold-worked CopperRadiation : Cu= 0.154056 nmPeak #hkla(nm)143.310.13621.0003.00031110.36151250.400.18131.3313.99342000.36181374.190.36382.6718.01382200.361212. X-Ray Diffraction Pattern of Copper (EXPERIMENTAL MODULE 1)Material : CopperRadiation : Cu= 0.154056 nmPeak #hkla(nm)143.160.13531.0003.00031110.36271250.300.18061.3354.00542000.36251373.990.36212.6768.02882200.362063. 어닐링된 Cu 시편의 측정값Material: Annealed copperRadiation : Cu Kαλ=0.154056 nmPeak #2θ(°)hklFWHM (°)FWHM (rad) = Bi143.161110.260250.302000.330373.992200.4381[°] =[rad]이므로Peak#1, Bi (rad)==Peak#2, Bi (rad)==Peak#3, Bi (rad)==4. 냉간 가공된 Cu 시편의 측정값Material: Cold-worked CuRadiation : Cu Kαλ=0.154056 nmPeak #2θ(°)sinθhklB0(°)B0 (rad)Br=Br?cosθ143.310.36901110.465250.400.42582000.541374.190.60312200.6761[°] =[rad]이므로Peak#1, B0 (rad)==, Bi (rad)=Br==, Brcosθ=Peak#2, B0 (rad)==, Bi (rad)=Br==, Brcosθ=Peak#3, B0 (rad)==, Bi (rad)=Br==, Brcosθ=* 결과Br?cosθ =+η?sinθ에서, sinθ=0일 때 Br?cosθ=이고k=1, λ=0.154056nm 이므로결정 크기 L==28nm응력 η은 기울기 이므로이 됩니다.연습문제(1) 100, 80, 60, 40nm의 직경을 갖는 MgO 시편의 X-ray 회절 패턴이 기록된다고 가정하라.θ=40°, λ=0.154nm 라 가정할 때 오직 작은 결정크기에만 의한 폭 B(2θ각도로)를계산하여라.결정 크기에 의한 X-ray 회절 peak의 폭은 Bcrystal =로 구할 수 있습니다.① 100nm의 직경을 갖는 MgO 시편이고 1[rad] =[°]이므로B100nm=② 80nm의 직경을 갖는 MgO 시편이고 1[rad] =[°]이므로B80nm=③ 60nm의 직경을 갖는 MgO 시편이고 1[rad] =[°]이므로B60nm=④ 40nm의 직경을 갖는 MgO 시편이고 1[rad] =[°]이므로B40nm=(2) 60nm 직경의 입자에 대해 θ=20°, 40°, 60° 에서의 폭 B를 구하여라.결정 크기에 의한 X-ray 회절 peak의 폭은 Bcrystal =로 구할 수 있으므로① θ=20° 일 때이고 1[rad] =[°]이므로B20°=② θ=40° 일 때이고 1[rad] =[°]이므로B40°=③ θ=60° 일 때이고 1[rad] =[°]이므로B60°=
활성화 상태(Activated state) 반응하는 원자나 분자들이 근접하여서 반응물보다 더 높은 위치에너지를 갖는 특별한 배열(반응물과 생성물 사이의 중간물)을 형성할 때 변환이나 반응기간 동안 일시적으로 발생하는 상태. 활성화 상태와 반응물 사이의 위치에너지 장벽이 활성화 에너지이다활성화 에너지(Activation energy) 반응물의 형성에 대한 위치에너지 장벽이다. 다시 말해 반응하는 원자나 분자가 활성화 상태에 도달하여 반응물을 형성할 수 있는 최소한의 에너지.비정질 고체(Amorphous) 결정구조가 장범위 규칙성을 나타내지 않는 고체이다. 그것은 단지 원자의 가장 가까운 이웃들이 화학적 결합 요구조건에 의해 잘 정의된다는 의미에서 단지 단범위 규칙성을 가지고 있다.음이온(Anion) 하나 이상의 전자를 얻음으로 인해 음전하를 띈 원자이다. 일반적으로 비금속성 원소의 원자들은 쉽게 전자를 얻어서 음이온이 될 수 있다. 음이온은 이온전도에서 양극(양의 단자)에 이끌리게 된다. 전형적인 음이온으로 할로겐 이온 F?, C?l, Br?, I?이온이 있다.원자질량 혹은 상대적 원자질량 또는 원자무게(Mat) 원자질량 단위로서 성분의 모든 자연적으로 발생하는 동위원소들의 평균원자질량이다. 원자질량은 주기율표에 나타나 있다. 6.022x1023(원자의 아보가드로수)개의 원자들을 가지는 성분들의 총량이 g단위로 원자질량과 동일하다.원자질량 단위(Atomic mass unit, amu) 질량수 12(6개의 양자와 6개의 중성자)를 가지는 중성 탄소원자의 질량이 1/12과 같은 편리한 원자 측정이다. amu=1.66054x1027kg 알려져 있고, 이것은 10-3/NA와 동일하며, 여기에서 NA는 아보가드로의 수이다.원자 용적률(Atomic packing factor, APF) 결정 내에서 원자들이 실제로 차지하는 부피의 비율이다.아보가드로의 수(NA) 탄소-12의 12g 속에 있는 원자의 수로서 6.022x1023이다. 원자의 질량은 탄소-12 원자의 1/12로 대해 확산 유동의 크기로 정의된다.전위(Dislocation) 결정 내에서 많은 원자거리에까지 영향을 미치는 선결함이다.도상전위(Edge dislocation) 결정 내에서 원자들의 추가적인 짧은 면이 이웃하는 원자들에게까지 이르지 못할 때 생기는 선결함이다. 이러한 짧은 면의 가장자리는 결합이 불규칙한 원자들의 선으로 구성된다. 결함있는 선을 도상(칼날)전위라고 한다.탄성율 혹은 영율(Y) 고체가 탄성적으로 얼마나 쉽게 변형될 수 있는지 그 정도를 가늠하는 양이다. Y가 클수록 고체를 탄성적으로 변형하기는 더욱 어렵다. 길이 ℓ의 고체가 장력 σ(단위 넓이당 힘)을 받고 있을 때 δℓ만큼 탄성적으로 팽창한다. 여기에서 δℓ/ℓ은 변위 ε이다. 응력과 변위관계는 σ=Yε이고, Y는 단위 탄성 변위당 필요한 응력이다.전기적 쌍극자 모멘트(Electric dipole moment) 양의 전하 +Q가 음의 전하 -Q 와 떨어졌을 때 존재하는 벡터이다. 비록 순 전하는 0이지만, p=Qx로 주어지는 전기적 쌍극자 모멘트 p가 있으며 여기서 x 는 -Q +Q까지의 거리이다. 두 전하가 서로에게 쿨롱힘을 미치는 것처럼 두 쌍극자는 서로에 대해 힘을 미친다. 이 힘은 쌍극자의 방향에 의존한다.전자 친화력(Electron affinity) 중성원자에 전자를 첨가해서 음이온(anion)을 생성하는데 필요한 에너지를 말한다. Cl-를 만들기 위해 Cl에 전자를 첨가할 때 에너지는 실제로 안정화된다.전기 음성도(Electronegativity) 원자가 전자를 끌어서 음이온을 형성할 수 있는 정도의 상대적 측정치이다. 불소는 가장 쉽게 전자를 받아서 음이온(F-)이 되기 때문에 전기 음성도가 가장 높다. 전형적으로 할로겐(F, Cl, Br, I)은 전기적 음성 원소이다. 가령 HCl의 경우 Cl이 H보다 전기적 음성이어서 H의 양자보다 더 쉽게 전자를 끌어당긴다. 그러므로 Cl 원자는 순음전하를 얻게 되고 수소양자는 음전하에 노출된다. 이런 방법으로 분자들은 두 전하에 기인한 영구합물 화학적 특성(가령 조성)과 물리적 특성(가령 밀도, 열용량)이 전체적으로 일정한 두가지 이상의 종류의 혼합물이다. 동질 혼합체는 용액이다.침입형 자리(Interstitial site) 결정 내에서 원자들(혹은 이온이나 분자들) 사이의 점유되지 않는 공간이다.이온화 에너지(Ionization energy) 중심원자로부터 전자를 제거하는데 필요한 에너지이다. 보통 핵에서 최소한의 해리에노지를 가지는 최외각전자가 원자를 이온화시키기 위해 제거된다.이질동형(Isomorphous) 모든 곳에서 동일한 구조이다.(iso는 동일함, morphologysms는 구조).등방성 물질(Isotropic substance) 모든 방향에서 같은 특성을 가진 물질이다.격자(Lattice) 공간에서 식별할 수 있는 주기성을 가진 점들의 규칙적인 배열이다. 삼차원 공간에서 14개의 독특한 격자가 가능하다. 원자 혹은 분자가 각각의 격자점에 위치할 때 그 결과로 생기는 규칙적인 결정구조이다.격자변수(Lattice parameters) (a) 단위 셀의 변의 길이와 (b) 변 사이의 각도이다.금속결합(Metallic bonding) 결정 내에서 양의 금속이온과 유동하는 가전자들 사이의 인력에 의한 결정 내에서 금속 원자들의 결합이다. 가전자들은 이온들 사이의 공간을 스며든다.밀러지수(Miller indices, hkl) 결정 내에서 편리하게 평행한 면들을 확인할 수 있는 지수이다.두 물질의 혼화성(Miscibility) 두 물질이 액체와 같은 동상일 때 두 물질의 상호 용해성의 측정치이다.물질의 몰(Mole) 원자(혹은 분자) NA개가 가지는 물질의 양이다. 여기서 NA는 아보가드로의 수(6.023x1023)이다. 물질 1몰은 g단위로 원자(혹은 분자)량과 같은 질량을 가진다. 가령6.023x1023개의 원자를 가지는 구리 1몰은 63.55g의 질량을 가진다.시스템의 상(Phase) 모든 곳에서 같은 조성, 구조, 특성을 가지는 화학적 시스템의 동질 부분이다. 주어진 화학시스템에서 하나. 가전자는 핵과 멀리 떨어져 있기 때문에 원자-원자 상호작용에 관여하는 첫 번째 전자들이다.합금(Alloy) 한 가지 원소 이상을 포함하는 금속. 황동 은 구리와 아연의 함금황동(Brass) 구리가 많이 첨가된 구리-아연 합금.청동(Bronze) 구리가 많이 첨가된 구리-주석 합금.유동 이동도(Drift mobility) 가해진 전계당 유동속도이다. 만약 μd가 유동 이동도라면 정의되는 식은 vd=μdE이고, 여기서 vd는 유동속도, E는 전계이다.유동속도(Drift velocity) 인가된 전계(전자들에 대해 F=-eE)의 방향으로 도체 내의 모든 도체 전자에 대한 평균 전자속도이다. 인가된 전계가 없으면 전자에 대한 평균 전자속도이다. 인가된 전계가 없으면 모든 전자들은 임의의 방향으로 움직이기 때문에 모든 전자들에 대한 특정 방향 평균속도는 ‘0’이다. 전계 Ex가 걸려 있을 때 전계의 반대 방향으로 전자당 순속도 vdx가 존재하고, vdx는 vdx=μdEx로서 Ex에 의존하는데 이때 μd는 유동 이동도이다.전기전도도(Electrical conductivity, σ) 인가된 전계나 전압의 증감에 따른 물질 내 전하들의 흐름의 용이성을 정량화한 물질의 특성이다. 전도도는 전기 저항률 ρ에 역수이다. 전압의 증감에 따라 전하가 흐르게 되므로 σ는 단위전압 증감당 단위 면적을 통과하여 흐르는 전하의 비를 뜻한다. J=σE.푸리에 법칙(Fourier's law) 열전도도에 기인하여 시료를 통과하는 열 흐름의 비율 Q?로 온도의 미소 변화량 dT/dx와 통과 단면적 A에 비례한다. 즉 Q?=-κA(dT/dx)로 여기서 κ는 열전도도이다.일렉트로마이그레이션(Electromigration) 높은 전류밀도에서 전도전자에 의해 계속되는 충돌에 의한 주요금속원자들의 전류밀도에 의해 유도된 확산이동이다. 금속원자들은 전자흐름의 방향으로 이동한다.Black의 방정식(Black's equation) 일렉트로마이그레이션 고장에 따른 금속막 연결배선의 고장 나는데 걸리는 평균시간는 전류가 도체에 미치는 자기력의 크기와 방향을 나타내는 벡터장의 크기이다. 자기력은 본질적으로 정전기력 qE를 제외한 로렌츠 힘이다.자기 투자율(Magnetic permeabillity, μ) 단순히 투자율은 외부에서 주어진 전류 세기만큼 자기장을 발생시키는 매질의 효과를 특징짓게 하는 물질의 특성이다. 투자율은 자유공간(진공)의 투자울 혹은 절대 투자율(μ0)와 매질의 상대투자율(μr)의 곱이다. 즉 μ=μ0μr이다.자기 측정기(Magnetometer) 자기장의 크기를 측정하는 기계이다. 어떤 기계는 자기장의 방향도 측정할 수 있다.Matthiessen 법칙 이것을 이용하여 열적진동, 불순물, 결정결함 산란에 기인한 개개의 저항률의 합으로서 물질의 전체 저항률을 알 수 있다. 열적진동에 기인한 산란을 ρT로 나타내고 불순물과 결정결함 산란에 기인한 저항률은 잔류저항률 ρR이라고 하는 하나의 것으로 취급하면 ρ=ρT+ρR이다.평균자유시간(Mean free time) 전도전자가 산란하는 데 걸리는 평균시간이다. 만약 ti가 i라고 이름 붙여진 전자들에 대해 충돌간(산란간)의 자유시간이라면 모든 전자들을 평균해서 τ=ti이다. 유동 이동도는 μd=eτ/mc에 의해 평균자유시간과 관련되었다. 평균자유시간의 역수는 전자가 단위시간당 산란 할 수 있는 확률이다. 다시 말해 산란간의 주파수 이다.평균자유경로(Mean free path) 산란 과정에서 전자에 의해 횡단되는 평균거리이다. 만약 τ가 산란 중의 평균자유시간이라면 u는 전자의 평균속도이고, 평균자유거리는 l=uτ이다.Nordheim의 법칙 용질 X와 용매(1-X)의 농도에 비례하는 불순물 ρ1에 기인하는 고용체(이질 동형 합금)의 저항률을 나타낸다.상(Phase) 재료과학에서 일정한 물리적, 화학적 특성을 가지는 물질 시스템의 동질부분이다.완화시간(Relaxation) 산란간의 평균자유시간과 같은 말이다.잔류저항률(Residual resistivity, ρR) 열적진동과는 달리 가령 불순물, 결정립계, 전위,
1. 우리는 ‘사커’ ‘베이스볼’이라고 하지 않고, ‘축구’ ‘야구’라고 불러야 한다고 주장한다. 혹자는 ‘축구’가 한자에서 온 말이므로, 이를 제대로 알기 위해서는 한자 교육을 강화해야 한다고 주장하기도 한다. 그러나 ‘chuk-gu'라는 말은 중국인도, 일본인도, 미국인도 알아들을 수 없는 말이므로 ’일본이 ‘sa-ka'라고 하는 것처럼 우리도 오히려 ’사커‘라고 한다면 외국인과의 의사소통에 훨씬 유리하고 우리국민들도 기억 부담량을 줄일 수 있어서 바람직하다고 하는 사람도 있다. 이 두 주장에 근거해서 한국어의 미래 언어정책에 대해서 발표해 보자.- 한자 교육을 강화해야 한다는 주장위 두 주장에서 알 수 있듯이 현재 우리나라의 언어정책에도 세계화의 추세를 감안하는 모습을 알 수 있는데 이에 대한 올바른 정책을 펴기 위해서는 위의 주장 모두에 귀를 기울일 필요가 있습니다. 한글의 독창성과는 별개로 한자 없이 관습적인 뜻이 아닌 진정한 의미를 알 수 없기에 한자의 교육도 중요하고 또한 현재 시대 흐름에서 영미권의 언어를 무시할 수 없기에 외국인들도 쉽게 알아들을 수 있는 언어로의 수정도 필요합니다. 그러나 한자의 교육의 필요성은 막연히 비교하기에는 약간의 무리가 있기는 하나 가까운 나라 일본에서 알 수 있습니다. 일본은 언어는 심심찮게 한자를 표기하고 일본에 발음으로 표현하는 것을 볼 수 있는데 한때 일본에서 한자를 제외하고 순수 히라가나, 가타카나만으로 수정하자는 주장이 제기 되었으나 현실에 적응하기에는 너무 오랜 시간 의미전달에 문제가 생기는 등의 공황이 예상되었기에 지금까지 계속적으로 한자가 함께 사용되고 있습니다. 이렇기에 우리나라 역시 한자를 없애기는 힘들 것 같기에 한자의 교육을 보다 신경써야 하지만 ‘축구’를 ‘사커’로 표기해야 한다는 등의 주장은 필요이상의 과민반응에서 나온 결과가 아닌가 합니다. 만약 위의 예처럼 한글을 표기한다면 이제껏 한자의 문화속에 살아온 우리가 언어적 공황에 빠질 확률이 크며 혹 공황에서 벗어난다 하더라도 한글의 의미가 자칫 무색해 질수도 있다고 생각합니다. 그러므로 한자 교육을 강화해야 할 것이라 생각합니다.- 의사소통이 쉬운 말로 바꿔야 한다는 주장표준어는 서울사람들이 두루 쓰는 보통말 입니다. 이처럼 대부분 사람들이 "사커"라고 하면 알아들을 수 있는 위치에 있습니다. 대부분 사람들이 “사커”나 “베이스볼”같은 단어를 알아듣지 못하고 이해하지 못한다면 바꿀 이유는 없습니다. 언어적 표현 자체가 쉬울 뿐만이 아니라 이해하는데 문제가 없다면 비효율 적인 두 가지 언어를 사용할 이유는 없습니다. 효율적으로 한 가지 방법을 사용한다고 하여 기존의 단어를 없애는 것이 아닙니다. 이는 도태 되는 것입니다. 영어 표기를 한다고 사대주의나 문화 매국주의를 하는 것이 아니라 오히려 고집과 아집으로 적응하지 못하면 이것이 국수주의인 것입니다. 하지만 모든 언어의 변화를 적용하여서는 안 될 것입니다. 모든 사람이 당연하다고 느껴질 때 비로소 행하여 져야 한다는 것입니다. 우리가 어색하는 말까지 억지로 변화시킬 필요는 없습니다. 언어의 변화는 문화의 변화로 이어질 수 있습니다. 해외 문화를 자연스럽게 받아들이면서 발전시킬 수 있는 기회로 될 것입니다. 언어의 변화는 자연스러운 것입니다. 예전에도 그래 왔듯이 현재에도 변하고 있습니다. 그러므로 의사소통이 쉬운 언어로 바꿔 불러야 한다고 생각합니다.2. 외국인과의 대화에서 “당신 나라에서는 중국어와 일본어 중 어떤 말을 씁니까?”라는 질문을 받았다면, 어떻게 답할 것인지 발표해 보자.- 지리상 중국과 일본의 사이에 있는 반도 국가이기에 충분히 그러한 생각을 가지고 있을 수 있으며 또한 한국이라는 존재가 사실 세계에서 그리 많이 알려 질 정도의 영향력을 가지고 있지 않았기에 이러한 질문을 받았다고 생각 할 수도 있을 것입니다. 그렇기에 이는 언어의 우수성을 떠나 국가 이미지 또는 영향력에 관계된 것이기에 한글에 대해 얘기해주기보다는 먼저 우리나라의 뛰어난 기술력과 세계에 내놓아도 손색없을 각종 문화에 대해 설명해주면서 우리나라의 존재에 대해 알리는 것이 우선이라고 생각합니다. 그렇게 설명해 준 다음 한글의 존재성과 그 가치 등 언어에 관해 답을 할 것 입니다. 한글은 한자를 기초로 한 일본어와는 달리 독창적으로 만들어졌으며 모든 한국 사람이 읽고 사용할 정도로 배우기 쉽고 사용하기 쉽게 만들어져 있다는 것을 알려 줄 것입니다.3.우리 문화를 세계에 알리고 한국인임을 자랑스럽게 여기기 위해서는 한글로 된 정보나 한국 관련 정보를 수많은 외국어로 번역하는 작업에 힘을 기울이는 것이 유리할까, 아니면, 외국인에게 한국어를 보급하는 데 힘쓰는 것이 더 효과적일까, 몇 가지 근거를 들어서 각자의 생각을 발표해 보자.- 번역하는 작업에 힘을 기울여야 한다는 주장우선 결론적으로는 우리나라의 문화나 뛰어난 점들을 외국인에게 알리기 위해 관련정보를 제작하려면 한글을 외국어로 번역하여 보급하는 것이 더 효과적일 것이라고 생각합니다.비록 우리문화를 세계에 알리고 한국인임을 자랑스럽게 여기기 위한다지만 아직 한글에 대해 모르고 있는 외국인들이 많다는 것을 알고 있다면 굳이 시작부터 강수를 두는 것은 옳지 않다고 생각합니다. 언어 역시 한 국가의 문화라는 점을 감안한다면 어느 나라이든 대부분 외국의 문화에 대해 이질감을 가지게 되며 그렇기 때문에 자국의 문화를 외국에 알리는 것에는 순서가 있다고 생각합니다. 그에 대한 단적인 예로 최근 아시아 각처에서 불고 있는 한류열풍이 있습니다. 최근 동아시아에서 젊은층이 열광하고 모방하려고 하는 국내의 가수들이 처음부터 한류열풍을 일으킨 것이 아닌 그 이전부터 지속적으로 조금씩 국내의 드라마와 각종 오락프로그램들이 일본, 중국 등의 나라에서 소규모 프로그램으로 전파를 타게 되면서 조금씩 그들이 국내의 문화에 관심을 가지게 되었고 이에 점점 한국이란 문화에 대한 거부감이 줄어들게 되었을 것이며 이러한 기본 토대위에 지속적인 국내 연예인들의 전략적인 해외 진출이 지금의 한류열풍이란 말을 만든 것입니다. 이렇듯 모든 문화의 전파에는 단계가 있듯이 우리나라를 많이 알려야 하고 보여 주어야하기 때문에 아직 한국에 대한 외국인들의 인식도 부족한 토양에 한글이라는 씨를 뿌린다는 것은 조금 이른 감이 있다고 생각합니다.
5조 성인식*우리 식(式)문화의 전통과 미래(테마 : 성인식)5조 성인식*주제 : 전통 성인식과 현재 성인식을 토대로 한 미래에 지향해야 할 성인식의 모습전통 성인식의 뜻과 유래 전통 성인식의 의의와 절차 전통 성인식이 사라진 배경 변화된 현재 성인식의 모습 앞으로 지향해야 할 성인식의 모습* 소주제5조 성인식*1. 전통 성인식의 뜻과 유래(1) 전통 성인식의 뜻- 남자는 관례 여자는 계례- 모자를 비로소 쓴다는 의식- 성인으로서 사람 대접을 받는데 필수의 통과의례- 청소년 교육의 중요한 과정으로서 자격부여 의식5조 성인식*(2) 전통 성인식의 유래- 우리나라에서 처음 유교식 성인식인 관례가 행해진 것은 기록상으로 고려의 4대 광종 16년의 일입니다. 이때 광종 이 '왕자에게 원복의 의를 행했다'는 기록이 있습니다. - 우리나라 사람으로, 관례를 행함으로써 가지게 되는 자를 가지는 예는 그보다 앞서부터 발견됩니다. 기록상 우리나라에서 가장 먼저 자를 쓴 이는 원효의 아들 이고, 경주 설씨의 시조인 홍유후 설총으로 그의 자가 총지 입니다. 그는 8세기 경덕왕 때 사람입니다. - 조선조에 들어와서는 주자 가례가 정착되면서 천민 사회를 제외하고는 모든 사람이 관례를 행하게 되었습니다.5조 성인식*2. 전통 성인식의 의의와 절차(1) 전통 성인식의 의의- 조선 사회에서 관례를 행하지 않고서는 의관을 정제하지 못하고 성인 대접을 받지 못했습니다.- 관례를 올리고 의관을 정제한 자에게는 책임도 뒤따르지만 원칙적인 사회적 지위가 보장되었습니다.- 신분 계급 사회이던 조선조에서 중인이나 평민까지도 형편이 닿으면 모두 관례를 치렀습니다.5조 성인식*(2) 전통 성인식의 절차준비 단계택일(擇一) 고우사당(告干詞堂) 계빈(戒賓) 숙빈(宿賓) 진설(陳設) 진관복(陳冠服) 서립(序立) 영빈객(迎賓客)5조 성인식*시행단계시가례(始加礼) 재가례(再加礼) 삼가례(三加礼) 초례(醮禮) 자관자례(字冠者礼)종결단계출취차(出就次) 현우사당(見于祠堂) 현우존장(見于尊長) 예빈(礼賓) 현우향선생(見于鄕先生)5조 성인식*3. 전통 성인식이 사라진 배경- 구한말 갑오경장을 전후해 개화사상 유입- 1895년에 단발령이 내려 관례 폐하게 됨- 호적법이 제정된 이후 조혼이 법으로 허용되지 않음- 개화사상과 교육이 보급됨에 따라 조혼의 풍습은 사라짐5조 성인식*4. 변화된 현재 성인식의 모습'성년의 날'이라고 해서 만 20세가 된 성년에게 지나치게 형식적인 행사에 그침간혹 퇴폐적인 문화가 양산되어 민족적 전통뿐 아니라 성인식의 정신마저 퇴색5조 성인식*5. 미래 지향해야 할 성인식의 모습민족적 전통에서의 성인식은 나라의 기틀을 튼튼히 하는 일만큼 …중요한 의식- 개화사상 등에 의한 사회적 변화로 민족적 전통이 소멸청소년으로 하여금 사회인으로 나가는 성인으로서의 자긍심과 책임을 자각하게 하여 무엇인가 가슴에 새겨 주는 것이 좋을 것 같습니다.{nameOfApplication=Show}
결정의 크기와 격자변형의 측정
우리 식문화의 전통과 미래(성인식)
