*세* 스토어

*세*

개인

팔로워0 팔로우

소개

등록된 소개글이 없습니다.

전문분야 등록된 전문분야가 없습니다.

판매자 정보

학교정보

입력된 정보가 없습니다.

직장정보

입력된 정보가 없습니다.

자격증

입력된 정보가 없습니다.

판매지수

판매중 자료수

1개
전체 판매량

4개
최근 3개월 판매량

0개
자료후기 점수

-
자료문의 응답률

-

전체자료 1개

MEMS관련 기술 논문 분석

Nano Imprint Lithography를 이용한 새로운 application 관련 논문 Review황재연 외 2명 (2008), “Investigation of duplicated cicada wing structure by nano imprint lithography“, 한국표면공학회.자연물에 존재하는 다양한 표면구조 중에서 매미의 날개에 존재하는 표면구조는 난반사 효과와 자가 세정 효과를 동시에 가지고 있는 것으로 알려져 있다. 이러한 현상은은 매미 날개의 표면구조가 종횡비가 큰 나노미터급 돌기의 규칙적인 배열로 이루어져 있기 때문이다. 이를 통해, 유사한 형태의 표면구조를 다른 표면에 형성할 경우 비슷한 효과를 나타낼 것을 예상하였다.이 연구에서는 Nano Imprint Lithography 장비를 이용하여 PVC(Polyvinyl Chloride) 시트를 유리전이온도까지 가열한 뒤 매미 날개를 그 위에 올려놓고 압력을 가함으로써 매미날개의 표면구조가 역상의 형태로 PVC 시트의 표면에 전사되도록 하였다. 그 후 매미 날개를 차아염소산나트륨 수용액에 용해시켜 PVC 시트만을 남겼다. 그 뒤 표면구조가 형성된 PVC 시트의 자가 세정 능력을 향상시키기 위해 SiO2 박막을 증착한 뒤 소수성기의 자가조립 단분자막을 형성하였다. 이렇게 제작된 표면구조의 성능 평가를 위해 PVC 시트의 UV-가시광선 투과도와 증류수의 접촉각을 측정하였다.결론적으로, PVC 시트 위에 매미 날개의 K역상 표면구조를 형성함으로써 난반사 효과와 자가 세정 효과를 얻을 수 있었다. 이를 평가하는 방법으로 UV-가시광선 투과도와 증류수의 접촉각을 측정하여 표면구조가 없을 때보다 투과도 및 접촉각이 증가함을 확인하였다.이기중, 신용범, 조나래 (2014). 희생층과 UV 나노임프린트 리소그래피를 이용한 lift off 공정. 한국정밀공학회.UV 나노임프린트는 한번 경화된 UV 경화성 레진 패턴은 화학약품(유기용매)에 제거가 잘 안 되는 단점을 가지고 있다. 따라서 빠른 임프린트 공정속도로 패터닝이 가능한 장점을 가지고 있어도 메탈 lift-off 공정에 사용을 하지 않고 있다.FFig1. Schematic of the nanoimprint lithography process.(a) PFPE film mold replicated from Simaster. (b) spin-coating of functional transfer material(resin1: sacrificial layer,resin2:imprint layer). (c) molding & UV curing. (d) de-molding. (e) Cr tilted E-beam evaporation on the resist pattern. (f) isotropic plasmaetching, (g) Ti/Au E?beam evaporation (h) liftoff processing in acetoneFig.1 은 희생층을 이용한 나노임프린트 공정도이다. 유기용매에 잘 제거되는 희생물질을 먼저 복제할 기판에 도포한 후 Chem Optics사의 UV 경화성 임프린트 레진(NIPSC28LV400)을 희생층 물질 위에 도포를 한다. 그 후 복제된 PFPE(perfluoropolyether) 필름 몰드를 사용하여 가압 3bar, UV 180sec 조사 및 나노임프린트를 진행하여, depth~150nm, 300nm 의 주기를갖는 hole 패턴과 line 패턴을 만들고, E-beam증착기를 이용하여 패턴의 잔류층 제거시 패턴보호 역할을 해 주는 메탈을 경사각도 70°에서Cr 을 30nm 경사증착을 한 후, O2 plasma etching(300ml/min, 300watt, 15min )을 통해 패턴 잔류층 제거 및 패턴 격면을 등방성 형태로 만든다. 끝으로 Ti (1nm)/Au (20nm)를 증착한 후 유기용매인 acetone 을 사용 해 lift off 를 하였다.Fig2 는 Ti(1nm)/Au(20nm)를 증착 한 후, lift off 를 마친 전자현미경 사진이다. 150nm 의 크기를 갖는 dot Au metal 과 150nm 폭의 line Aumetal 패턴을 유기용매로 lift-off 하여 패턴을 구현 하였다.이처럼 희생층과 UV 나노임프린트 공정을 이용하면 유기용메에도 메탈을 쉽고 빠르게 lift-off 할 수 있다.김진승, 조중연, 이헌 (2012). 나노임프린트 리소그래피를 이용한 나노 패턴 사파이어 기판 제작과 이를 이용한 청색 LED의 효율 향상 연구. 한국표면공학회.기존의 청색 발광 다이오드의 성능 향상을 위하여 도입된 공정인 패턴 된 사파이어 기판(PS, paterned sapphire substrate) 제작 공정은 포토리소그래피 및 식각 공정이 요구된다.

공학/기술| 2018.11.22| 2페이지| 1,000원| 조회(192)

mems, 논문분석, 논문리뷰

미리보기

닫기