"photo-reactive"의 검색결과 입니다.

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반도체공정실습 photolithography dfr필름 Az500MIF 이종접합 bjt CVD PVD ceramic ITO tft fet 차이

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"photo-reactive" 검색결과 1-20 / 66건

광반응성 천연고분자의 생체재료로써의 응용 (Application as Biomaterial of Photo-Reactive Natural Polymer)

한국키틴키토산학회 손태일, 허윤, 김광일, 정규환, 나하나

논문 | 5페이지 | 무료 | 등록일 2025.07.07 | 수정일 2025.07.10

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광반응성 다당류의 제조 및 의료용 소재로의 응용 (Preparation of Photo-reactive Polysaccharide Derivative for Application of Medical Materials)

한국키틴키토산학회 김재원, 손태일, 김은혜, 한가득, 노승현, 구현철, 윤주영, 나재운

논문 | 7페이지 | 무료 | 등록일 2025.04.21 | 수정일 2025.05.13

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광경화성 액정과 비반응성 네마틱 액정 혼합 필름의 분자 배향 및 광학 특성 (Molecular Orientation and Optical Properties of Liquid Crystal Mixture Films of Photo-Reactive Mesogens and Non-Reactive Nematic Liquid Crystals)

한국고분자학회 이몽룡, 송기국, 신미영, 김성현

논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.03.27

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실험계획법중 Box-Behnken(박스-벤켄)법을 이용한 반응성 염료의 광촉매 산화조건 특성 해석 및 최적화 (Analysis of Characteristics and Optimization of photo-degradation condition of Reactive Orange 16 using a Box-Behnken Method)

대한환경공학회 조일형, 조경덕, 장순웅, 윤영한, 이내현, 안상우

논문 | 9페이지 | 무료 | 등록일 2025.05.10 | 수정일 2025.05.18

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광반응성 작용기를 주사슬에 갖는 폴리아미드의 합성과 특성 분석 및 액정분자의 배향 특성 (Synthesis and Characterization of Polyamide Having Photoreactive Group in the Backbone and its Liquid Crystal Aligning Property)

한국고분자학회 정은영, 이승우, 이태진

논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.03.13 | 수정일 2025.03.28

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PDMS를 이용한 Micro pyramid 제작

-photo-정인성, “[반도체 전공정 4편] 그려진 패턴을 파내는 식각 공정”, sk hynix newsroom, 2022.11.25,https://news.skhynix.co.kr ... 1.실험 제목-PDMS를 이용한 Micro pyramid 제작실험 목적-Si(100) wafer의 anisotropic한 성질을 이용하여 마스터를 제작한다.-마스터로 PDMS ... 하는 패턴을 만들어 내는 작업이다.-Exposure 과정은 빛을 이용해 웨이퍼에 회로를 그려넣는 노광을 말한다.-Develop 과정에서 빛을 쬐어 변성된 PR을 제거해줌으로써 원

리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2023.08.03 | 수정일 2023.11.08

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계산화학 조사 보고서

(PES), 다양한 spectroscopic pro- perties (IR, Raman, NMR, photo-electron spectra, UV, VIS 5), Reactivity ... 원자와 분자의 수학적 모델을 제시한다.-계산화학 분야 : 전자 구조의 결정, 위상 최적화(geometry optimization), 진동수 계산, 전이 구조, 단백질 계산, 전자 ... . 계산l calculation이라 하고, 이론적으로만 계산하는 방법을 ab-initio calculation이라 한다. 두 번째 영역인 분자집단의 성질을 계산하는 방법에는 분자를 구

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2021.06.04

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반도체 공정 관련 내용 정리 리포트

와 wafer상의 pattern 일치작업Post Exposure Bake : 노광 공정 이후 PR은 빛의 간섭에 의해 굴곡 생김 -> 현상하기전에 Photo Active Compound ... + Abrasive(기계적 연마) + Chemical(화학 반응물 형성)CMP -> PHOTO -> ETCH or IIP -> Ashing + PR Strip물질 : Metal ... PPESputteringThin film (PVD) : Sputtering Direct(Ti) vs Reactive(TiN) => 면저항값 측정 비교Direct -> target

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.03.12

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마이봄샘 기능장애에 대한 학술대회 발표자료

positive TMH: 210 / 220 um Slit photos OU;LL)ABS punctal plug OU) Restasis bid 추가 , FML - Lotemax bid ... 변경2017.11.16 ( 염증치료 후 2M) 증상 : 더 낫다 , BUT : OU) 4 sec TMH: 220 / 270 um Slit photos - negative2017 ... molecules Suppressing MMPs Reactive oxidative species (ROS) Clin Ophthalmol 2017;11:1167-73590 nm filter

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 64페이지 | 3,500원 | 등록일 2019.06.30

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[2019 A+ 인하대 공업화학실험] 패터닝 결과보고서 공화실 결보

고 etching 속도와 selectivity를 구하는 실험이다. 따라서 그 전까지 과정이 완료된 wafer을 이용한다.RIE (reactive-ion etching)안에 있는 두 판 ... 은 매우 많다. 그중 특히 Photo lithography 분야에서 많이 일하고 있다.따라서 우리는 반도체 공정에 대한 전반적인 과정을 익히고, 각 과정들을 진행하는 이유와 어떻게 ... 진행하는지에 대하여 이해할 필요가 있다. 특히 이번실험에서는 많이 일하고 있는 Photo lithography에 대해서 직접 경험해본다. 패터닝된 산화막을 관찰하고, etching

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 17페이지 | 3,500원 | 등록일 2020.04.13 | 수정일 2020.04.18

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패터닝 예비보고서

layer using ? Reactive Ion Etching(RIE)- Observe the color change of the etched SiO2, measure the ... 1. TitlePatterning and treatment of SiO2 thin films2. Summary- Pattern the silicon dioxide (SiO2 ... ) layer using PR(Photoresist).- Determine the optimal etch parameters and etching gas, then etch SiO2

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| 리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2018.05.27

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[고분자공학실험]ITO Pattering 공정

을 습득한다.나. Photo lithorgraphy에 사용하는 각 공정의 원리와 공정 시 주의점을 습득한다.2. 실험 이론 및 원리∴ ITO 패터닝 공정은 크게 Lift off ... 과 Lithography 공정으로 나눌수 있다.가. Lift off 공정Lift-off공정이란 반도체 공정중 Etching(식각) 공정중에 일반적인 etching을 사용하지 않고 패터닝 ... 된 필름만이 남게 되는 것이다. 이 방식은 기판위에 PR 패터닝한 후 또 다른 박막을 그 위에 코팅한다. 그리고 PR을 쉽게 제거 즉 lift-off시키면 기판위에는 PR 패턴과는 정

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2017.11.12 | 수정일 2020.08.05

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이종접합 트렌지스터 공정 설계(BJT(Bipolar Junction transistor) Process flow)

을 Lithography3. IC 제작을 위한 공정 순서도(Process Flow Chart)를 작성하라.N-type WaferAs Ion Implantaionand oxidation ... polishing(CMP)↓↓Boron 2-Step diffusionand oxidationPattern metal Mask↓↓Emitter MaskFinish process4 ... . 소자제작 과정에서의 중요 단면도와 상면도를 그려보고, 각 단계에서 공정기술들을 설명하라.1) 8inch (200mm) N-Type wafer를 준비한다.: 공정 전에 불순물 및

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| 리포트 | 13페이지 | 5,000원 | 등록일 2018.05.28

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2019 패터닝 예비보고서 (74.5/80)

실험 목적패터닝의 과정을 이해하고 식각 전후의 박막과 PR의 두께변화를 측정한다.실험 이론플라즈마 (Plasma) 란?플라즈마플라즈마는 일반적으로 같은 수의 (+), ( ... 를 중점적으로)식각의 정의Photo 공정에서 패턴을 웨이퍼 표면상에 옮긴 후 원하는 부분을 남겨둔 채 필요 없는 부분을 화학적 또는 물리적으로 제거하는 공정으로 다시 말해 반도체 회로 ... 에 생성시키는 반응성 이온 식각 (Reactive Ion Etching) 이 대표적이다.습식 식각습식 식각은 용매를 이용한 식각의 총칭으로, 용액 중에 웨이퍼를 침적하는 딥방식, 용매

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| 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.04.14

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Bioremediation of Contaminants Continued

form Unaltered persist for a long time Affect non-target species human Accumulate to harmful ... , adsorption, precipitation Co-metabolism: MO’s metabolite chemical without with out benefic (carbon energy ... passage of light Less photo synthetic activity Animals Waste water from industries change physical

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| 리포트 | 30페이지 | 무료 | 등록일 2018.03.16

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패터닝 예비보고서(학부 실험)

layer using ? Reactive Ion Etching(RIE)- Observe the color change of the etched SiO2, measure the ... 1. TitlePatterning and treatment of SiO2 thin films2. Summary- Pattern the silicon dioxide (SiO2 ... ) layer using PR(Photoresist).- Determine the optimal etch parameters and etching gas, then etch SiO2

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2018.06.17

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카이스트 분자공학실험 The optical properties of organic photoeletric materials 결과 보고서

effective than long wavelength. It represent annealed film is better than non-annealed film.2) Photo c ... is conducted by UV-Vis spectrophotometer and photo counter meter respectively. In UV-Vis s ... ID : 20112040Name : Soohyun Park1. Experment procedureA. Preperation of organic thin-film① Prepare

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| 리포트 | 5페이지 | 2,000원 | 등록일 2015.10.10

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연세대 창의설계 보고서

(ART) 방법을 사용하여 3D 채널 구조를 제작한다. 먼저, Si substrate에 유전체 물질층을 증착해주고 포토리소그래피(Photo-lithography) 공정이나 반응 이온 ... 효과 통제력을 강화하기 위해 트랜지스터 구조는 삼차원으로 진화하고 있다.12011146089 이윤규Si 반도체를 대체하는 물질로 III-V 반도체 channel에 대해 핵심 공정 ... 개발 및 소자 집적화에 관해 많은 연구가 진행 되고 있다. III-V 반도체는 주기율표의 3족과 5족의 원소가 합하여 화합물반도체를 이루는 형태이다. GaAs, InAs, InP

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| 시험자료 | 2페이지 | 1,500원 | 등록일 2016.06.29

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반도체 제조공정 이론 정리

하는 과정으로, Wet Cleaning 이 대부분이며 SC-1, SC-2, SPM, DHF 등의 화학약품을 사용한다. 최근에는 레이저를 이용한 건식 세정과 초임계유체를 이용하기 ... 도 한다.3. SC-1 공정NH4OH : H2O2 : H2O = 1:1:5 의 비율로 만든 혼합물(APM = SC-1)로, Wafer 표면의 Particle과 유기물 제거에 효과적인 ... 방법이다.H2O2과 표면을 산화시켜 표면 Roughness 를 감소시키고 NH4OH4가 Si표면을 빠른 속도로 Anisotropic Etching 시킨다. SC-1 공정이 유기물

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| 시험자료 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2016.06.24 | 수정일 2022.10.17

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[발광디스플레이실험] Photolithography

.Figure 1.3 Clear-Field and Dark-field masks실험방법:본 실험에서는 위의 박막 제조 공정 중 일부를 직접 해보며, Photo exposure(노광 ... 발광디스플레이 실험 Photolithography실험 목적 : Photolithography 공법에 대해 익히고, Photolithography시 etching time과 PR ... .2) Evaporation : evaporation의 방법으로는 thermal evaporation과 e-beam evaporation, 그리고 이 둘을 조합하는 방법이 있

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 8페이지 | 10,000원 | 등록일 2013.06.14

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