"자외선 임프린트"의 검색결과 입니다.

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나노패터닝 기술 dip pen nanolithography 캐논 nil 나노임프린트

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"자외선 임프린트" 검색결과 1-7 / 7건

멀티모드 광네트워크용 폴리머기반 대구경 광분배기 (Polymer-based Large Core Optical Splitter for Multimode Optical Networks)

한국광학회 노병섭, 안종배, 이우진, 황성환, 김계원, 김명진, 정은주, 문종하, 김진혁

논문 | 5페이지 | 무료 | 등록일 2025.04.11 | 수정일 2025.05.08

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7세대 노광기(Stepper) 설계 [정밀기계공학 레포트_논문형식]

임프린트 리소그래피(NIL)NIL 기술은 컴팩 디스크(CD)와 같은 마이크로 스케일의 패턴을 갖는 고분자 소재 제품의 대량 생산에 사용되는 엠보싱/몰딩 기술을 리소그래피에 적용 ... 있고 미세한 오염물질의 영향을 받지 않으며 1Step씩의 노광에 의해 Wafer의 대형화, 변형, 휘어짐 등에 대한 대응이 용이하다.3. 핵심 노광기술3.1 EUVL첨단 자외선 ... 시킨 자외선 빔을 사용하여 웨이퍼를 인쇄한다.Figure 2. EUVL의 원리 및 시스템 구성EUVL은 기존의 광리소그래피(optical lithography) 개념을 10∼14nm

리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2014.06.21 | 수정일 2017.05.14

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다양한 리소그래피법을 이용한 나노구조 형성

7 나노 임프린트 ( Nano imprint) - 전통적인 인쇄 기술을 응용 장점 - 선폭 20nm 이하의 나노스케일을 재현성있게 구현 - 대량생산 비교적 용이 - 마스터 원판 ... diagram of photolithography systems. Proximity printing, (b) Projection printing.4 극자외선 lithography(EUV ... : Extreme Ultraviolet) - 포토리소그래피와 동일한 원리로 작동 하지만 렌즈대신 거울을 이용하여 빛을 굴절시킴 - 극자외선을 발생시키는데 필요한 고전력 발생장치 제작

리포트 | 12페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.06.17

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NGL(Next Generation Lithography)에 대한 조사

웨이퍼 위에 코팅된 레지스트를 순간적으로 녹여 임프린트하는 방법이다. 실리콘과 폴리실리콘을 임프린트 한 경우는 10nm이하 선폭 구현이 가능했으며, 임프린트에 소요되는 시간은 250 ... 과 90nm 깊이의 나노구조물을 임프린트 했다고 보고했다.-Step and flash lithography prosess sequence이 공정 기술은 UV 경화소재를 사용 ... 하여 상온 저압으로 나노구조물을 제작할 수 있는 기법으로, 자외선이 투과할 수 있는 재질을 사용한다는 점이 특징이다.SFIL 공정에서는 먼저 전달층이 실리콘 기판위에 코팅된다. 이어 UV

리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.05.15

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나노임프린트 리소그래피

은 쉽지 않다. UV 임프린트 리소그래피 장비는 자외선 광원을 사용하고 압력 또한 인가하기 때문에 구조가 다소 복잡하다. 그리고 임프린트 프로세스 특성상 폴리머 레진을 액체 상태 ... 碩士學位論文나노임프린트 리소그래피의 신뢰성 향상을 위한 임프린트시스템 최적화 방안에 관한 연구A Study on the Optimization of Imprint ... 을 위한 임프린트시스템 최적화 방안에 관한 연구A Study on the Optimization of Imprint Systemfor Nanoimprint Lithography이 論文

리포트 | 118페이지 | 15,000원 | 등록일 2007.01.27 | 수정일 2014.07.16

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[공학]나노패터닝기술의종류와 방법

Ultraviolet)리소그래피와 E-Beam 리소그래피가 그것이다. 이외에도, 나노 임프린트 기술과 UV임프린트 기술이 있다.▷Bottom-Up 방식바텀업 방식은 완전히 반대되는 방식으로 마치 ... 도② Nano Imprint (나노 임프린트)나노 임프린트는 1990년대 중반에 미국의 프린스턴 대학의 stephen chou 교수에 의해 개발되었다. 낮은 생산성을 갖는 전자빔 ... 임프린트의 두가지 방법을 보여준다.그림 나노 임프린트의 대표적 2가지 공정우선, 열 경화 박식(왼쪽) 에서는 실리콘과 같은 기판에 고분자 박막을 스핀 코팅한다. 제작된 스템프(몰드

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.09.18

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[공학]나노임프린터 공정과 연구동향

의 자외선을 조사하여 광경화수지를 경화시키게 된다. 최종적으로 임프린트된 고분자 박막에 RIE(Reactive Ion Etching)공정을 거쳐 나노구조물이 기재에 전사된다. 실제 ... 반도체 디바이스 제작에 있어, 열변형에 의해 다층정렬이 어렵다는 단점을 갖고 있다.그리고, 점도가 큰 레지스트를 임프린트하기 위해서는 고압(10-30 bar 정도)이 필요하기

리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.09.21

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