"반도체세척과정"의 검색결과 입니다.

기간
- 전체
- 3개월
- 6개월
- 1년
- 2년
- 3년
- 5년
직접입력

적용
연관순
- 연관순
- 최신순
영역
- 전체
- 제목
- 본문
- 태그
페이지 수
- 전체페이지
- 1 페이지 ~ 5 페이지
- 6 페이지 ~ 10 페이지
- 직접입력 페이지 ~ 페이지 적용
확장자
- 전체
- 한글
- PDF
- MS워드
- MS엑셀
- MS파워포인트
- 압축파일
- 기타
할인자료 보기

연관검색어

photolithography 반도체 ITO Scribing afm 반도체 공정 유기실험 ito patterning 반도체 공정 순서

"반도체세척과정" 검색결과 161-180 / 665건

판매자 표지는 다운로드시 포함되지 않습니다.

판매자 표지

기업분석보고서 분석기업 에스케이머티리얼즈

이 지속적으로 늘고 있는 배경으로는 꾸준히 신규시설투자를 진행했다는 점이 큰 영향을 끼친 듯 하다. SK머티리얼즈는 2010년 말부터 2016년 9월경까지 약 6년동안 반도체 세척 ... 다는 점을 고려하면, 기업의 성장 속도가 다소 느려졌다는 것으로도 해석할 수 있다. 그러나, 뒤에서도 다시 서술하겠지만 이는 올해부터 SK머티리얼즈의 고객사들인 반도체 제조사들이 생산 ... 년에는 147억원으로 보고되었다. 반도체 업종이 계속해서 성장하고 있으며 호실적을 보이고 있고 반도체 제조사들이 앞다투어 생산량을 증량하고 있기 때문에, 앞으로 더 많은 인력

리포트 | 11페이지 | 2,000원 | 등록일 2019.03.20

다운로드 장바구니
연료감응형 태양전지-예비

적 에너지인 태양 에너지를 광전효과에 의해 전기 에너지로 변환시키는 장치를 말한다.-태양전지의 종류●무기태양전지무기태양전지는 실리콘, 화합물 반도체와 같은 무기소재로 구성된 태양전지이 ... 다. 반도체의 특성을 가지는 pn 접합형 무기 태양전지는 홀(정공) 전달체 역할을 하는 p형 반도체와 전자 전달체 역할을 하는 n형 반도체를 접합하여 제조한 전지이다.●유기태양전지 ... )는 염료가 흡착된 TiO2 전극에서 일어나는 과정이며, (d)는 Pt상대전극에서 발생하는 과정이다. (a)～(d)의 전 과정을 화학반응식으로 나타내면 식 (e)와 같다.I3-

리포트 | 9페이지 | 3,000원 | 등록일 2016.12.17

다운로드 장바구니
7. ITO patterning(예비)

과 다름없다. 동판화 제작 과정을 보면 동판 위에 파라핀을 바르고(반도체의 감광액) 표면을 불로 그을은 뒤 (반도체의 산화공정) 그 위에 날카로운 송곳 같은 것으로 그림을 그린다. 송곳 ... 을 제거해주는 설비.* Station : 세척설비. 매 공정후에는 항상 웨이퍼를 세척해주어야 한다.* 패턴공정◑ITO Patterning위와 같은 패터닝 공정으로, 위에서의 반도체 ... 이 소자의 발광 특성에 커다란 영향을 미치게 된다. 따라서 ITO pattering전 전처리 공정을 통하여 표면을 개질시켜 주어야 한다.이 과정이 끝나면 photoresist(PR

리포트 | 21페이지 | 2,500원 | 등록일 2016.04.06 | 수정일 2016.04.11

다운로드 장바구니
Pre-그래핀합성

한다.(증류수에 넣고 원심분리기를 이용하여 세척한다. 이 과정을 4~5회 반복한다.)(8) 결과물을 다시 에탄올에 넣고 30분 동안 초음파로 잘 섞고 원심분리기를 이용 하여 세척 ... 를 98℃로 유지한 채 15분 동안 가열한다.(6) 상온으로 식힌 후, 과산화수소 5ml를 넣고 90℃에서 30분 동안 가열한다.(7) 생성된 결과물을 pH7이 될 때까지 세척 ... 한다. (이 과정을 3회 반복한다.)(9) Evaporator를 이용하여 건조시킨다.(10) 증류수 10ml + GO(Graphene Oxide) 5Mg을 24시간 이상 초음파 분산

리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2017.05.09

다운로드 장바구니
판매자 표지

학부생 연구프로그램 보고서

Photovoltaic 물질로 많은 연구가 이루어지고 있다. CIGS 박막 태양전지는 직접천이형 반도체로서 1×105㎝-1의 높은 광흡수계수를 가지고 있다. 또한 열적으로 매우 안정 ... , 증착에 앞서 아세톤, 에탄올, 증류수의 순서로 각각 10분간 초음파세척기를 통해 세척한 후 질소가스를 이용하여 건조시켰다. 증착 시 초기압력과 인가전력을 변수로 두었다. 초기 ... 는 에너지연구기술원(에기연)에서 만들어진 Mo 기판의 저항 값인 0.72Ω에 비해저항 값이 높은 편이기 때문에 Mo 기판의 증착 과정에서 개선이 필요할 것으로 생각된다.표 1 Mo

리포트 | 7페이지 | 3,000원 | 등록일 2019.10.31

다운로드 장바구니
ITO Scribing & Cleaning 예비레포트

의 중요성모든 반도체 공정은 오염물들의 근원이고 이는 소자의 성능과 수율에 직접적인 영향을 미치게 된다. 각 공정 후 Glass 표면의 오염물은 기하급수적으로 늘어나게 되고 이 오염물 ... 에 의해 반도체 소자의 수율은 급격히 감소하게 된다. 반도체 세정 공정은 Glass 표면의 모든 오염물을 완벽히 제거하는 것이 가장 이상적인 목표이기는 하지만 그것은 거의 불가능 ... ) 세정 공정은 모든 공정 전후에 반드시 행해져야 한다. 반도체 소장 공정 중 웨이퍼 표면 위에 오염되는 불순물의 종류는 크게 오염물은 particle, 유기 오염물, 금속 오염물

리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2016.07.15

다운로드 장바구니
A+받은리포트-현대 중국 사회와 유교 문화-유교적 경영(레노버, 하이얼, 구더전자)

교육과 세미나를 개최했다.생산 과정에서 온실가스를 절감하고, 친환경 제품을 만들고, 이에 따르는 서비스를 제공하며, 이런 과정을 협력업체들을 대상으로 권유하는 활동을 펼치기 ... 까지. 이 일련의 과정은 모두 상당한 비용을 요한다. 기업 입장에서는 굳이 이렇게 하지 않아도 제품을 제작할 수 있고, 친환경적 장치를 구축하기 위해 드는 비용을 고려할 때, 오히려 ... 고, 직원은 고객의 소리를 놓치지 않고 회사에 전달했다. 하이얼은 조사 끝에 그 지역 농민들 대다수가 고구마를 지배하고 있으며 세탁기로 고구마를 세척한다는 사실을 알아냈고, 고구마

리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2019.03.09

다운로드 장바구니
판매자 표지

Microlens array photography and reflow report(레포트/보고서) - 설계 및 생산공학2 (2015)

신경 써야하는 부분이 있었다. 첫 번째로 PR 도포에 앞서서 Wafer를 깨끗하게 닦아주는 과정이 필요했다. 불순물의 유형(유기물 또는 무기물)에 따라서 닦아내는 세척액이 다르 ... 기 때문에 완전히 정제된 물과 알코올 성분의 용액을 동시에 사용하여 세척한다. 그래야만 더 정밀한 공정 결과물을 얻을 수 있다. 또 두 번째로는 PR 도포 후 정밀하게 구배 ... 하고 Soft bake 과정을 반드시 거쳐야 하는데, 이것은 용매를 증발시켜서 PR이 보다 잘 고정되도록 만들어야한다. 마지막으로 노광할 때에 시간 조절을 잘 해서 지나치거나 덜 노광

리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2016.04.04

다운로드 장바구니
생명과환경] 태양광발전이 환경을 파괴한다는 여러 주장과 그것이 사실인지 여부에 대해 조사해보시오-생명과환경, 태양광발전 환경파괴

발전은 전자파를 발생시킨다.5) 발전소 주변 온도가 상승한다.6) 태양광 패널이 빛을 반사해 주변 주민과 농작물에 피해를 준다.7) 태양광 패널 세척에 독성 물질을 사용한다.8 ... 의 1 수준이다.5) 일반 지역과 태양광 발전소 주변 온도의 차이가 없다.6) 일반 건축물의 외장유리나 자연 수면 반사율보다 반사광이 적다.7) 태양광 패널 세척에 독성 물질을 사용 ... 으로써, 종류에 따라 바이오에탄올, 바이오디젤로 구분되어 지기도 한다.바이오 에너지는 온실가스를 절감시킬 수 있고 에너지 전환 과정을 통해 생성되는 형태가 다양하다는 점에서 많

방송통신대 | 16페이지 | 5,000원 | 등록일 2019.03.12

다운로드 장바구니
태양전지, 염료감응형태양전지 A+ 받은 레포트, DSSC 분석 레포트, 염료감응형 태양전지

에서는 태양에너지의 흡수 과정과 이 과정에서 형성된 전자-정공 쌍이 분리 및 이송되는 과정이 전지 내부의 전위차에 의해 반도체 내에서 동시에 일어난다. 이에 반해 염료감응형 태양 ... 1. Experimental purposes나노 반도체 구조를 갖는 염료감응형 태양전지(dye-sensitized solar cells, DSSC)는 1991년 스위스 연방공과 ... 은 13.1%로 효율 향상을 위해 다양한 연구가 활발히 진행되고 있다.이에 이번 실험에서는 염료흡착과 상대전극, 광전극 등 즉 염료감응형 태양전지를 직접 만들어보는 과정을 통하여 전극

리포트 | 10페이지 | 4,900원 | 등록일 2016.01.08 | 수정일 2021.01.05

다운로드 장바구니
분광분석-UV분광광도법을 이용한 아세트아미노펜의 정량

제 등 많은 성분이 함께 함유되어 있으며 이들을 일정한 전처리 과정을 거쳐 흡광도를 측정하게 된다. 자외선에 의한 흡광도의 측정으로써 비교적 간단하게 의약품 중의 목적성분의 함량 ... 의 acetaminophen 함량을 계산한다.Pre-labQ.-photodiode array에 대해 조사하시오.포토 다이오드는 빛을 전류로 변환하는 반도체 소자입니다. 전류는 광자 ... 함에 따라 응답 시간이 느립니다. 일반적으로, 전기 태양 에너지를 생성하는데 사용되는 태양 전지는 광역 포토 다이오드이다.포토 다이오드는 일반 반도체 다이오드와 유사하지만 진공UV 또는

리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2018.08.30 | 수정일 2018.09.03

다운로드 장바구니
환경청정공학 반도체 청정생산기술 발표자료

생산 기술 청정 생산 기술 지속 가능한 발전을 위해 제품을 생산하는 전과정 ( life cycle) 에서 자연환경에 부담을 최소화 하는 모든 기술환경청정공 학 반도체 청정 생산 ... 반 도 체 산 업 반 도 체 반도체 전기전도도가 도체와 부도체의 중간정도 되는 물질 EMC 반도체 소자를 외부환경으로부터 보호 DAF 접착제 역할을 하는 필름 CMP 반도체 원판 ... 평탄화를 도와준다 SWC 불순물을 제거해준다환경청정공 학 반 도 체 산 업환경청정공 학 반 도 체 제 조 공 정환경청정공 학 반도체 산업에 의한 피해 반도체 공정 발생 유독물질

리포트 | 28페이지 | 2,000원 | 등록일 2016.03.07

다운로드 장바구니
패터닝 예비보고서

된 단결정봉을 균일한 두께의 얇은 Wafer로 잘라낸다. 절삭작업을 거치는 동안 Wafer의 가장자리 부분은 매우 날카롭고 깨지기 쉽기 때문에 세척과정을 거친 후 정확한 모양 ... .(2) 반도체 제조 공정과 정의 (각각의 단일 공정을 개략적으로)반도체의 제조 공정은 크게 ① Wafer(웨이퍼) 제조 및 회로설계 ② Wafer 가공 ③ 조립 및 검사 ④ 포장 ... 에서 단결정봉으로 변형된다. 고진공 상태에서 1400℃ 이상의 고온에 녹은 다결정 실리콘은 정밀하게 조절되는 조건하에서 큰 직경을 가진 단결정봉으로 성장한다. 성장과정이 끝나

리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2018.05.27

다운로드 장바구니
★공업화학+정리★

적으로 제거하는 공정에칭반도체공정 중 감광되지 않은 부분을 제거하는 공정에칭반도체 제조공정 중 패턴이 형성된 표면에서 원하는 부분을 화학반응 혹은 물리적 과정을 통하여 제거하는 공정 ... 법산의 용도금속 표면 처리제, 공업용 세척제, 부식억제제2단계식 건식법(2단법)에 의한 인산제조법의 특징응축기와 저장탱크를 사용한다.부생 CO를 연료로 사용할 수 있다.응축과 산화 ... 에 사용하는 것 : 암모니아는 증류탑에서 회수Ca(OH) _{2}암모니아 소다법의 주 단점염소의 회수가 어렵다.솔베이법과 염안소다법을 이용한 소다회 제조과정 비교설명솔베이법이 염안소다법

시험자료 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2017.06.11

다운로드 장바구니
PLED, LED 설계 제작 과정

의 수율을 낮출 수 있다. 따라서 glass 자른 후 세척은 반드시 해준다.세척과정은 Fig. 2에 보여진 아세톤(유기물 제거)→질소로 물기제거→메탄올(무기물 제거)→질소로 물기제거 ... 정도 soft bake 한다.Fig. 2. 세척과정Fig. 3. soft bake 과정다. ITO patterningFig. 4. spin coating 증착과정Fig. 5 ... 을 미치는 것들을 몇 개 생각해 보았다.첫 째, glass의 cleaning 과정에서 시간을 지켜가며 깨끗한 액체로 정확하게 세척을 해야만 기판위의 이물질이 대부분 제거돼서 다음단계로의 진행이 수월하다는 생각이 들었다.

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2015.06.13 | 수정일 2022.03.16

다운로드 장바구니
판매자 표지

[재료공학실험]주사전자현미경을 이용한 미세구조 관찰

산화막이나 에피층 등을 성장하기 전의 wafer 세척, 그리고 최소 선폭의 크기가 3 ㎛ 이상인 반도체 소자의 제작 등에 많이 사용된다. 에칭의 과정은 우선 반응할 화학물질이 에칭 ... 을 행하는 장치이다. 주로 금속등의 도체, IC, 산화물등의 반도체, 고분자 재료나 세라믹등의 절연물의 고체, 분말, 박막시료가 표본이 된다. 주로 2차전자가 시료의 형태관찰 ... 구면으로 하면 이 문제를 해결할 수 있지만, 비구면으로 만드는데는 기술적인 어려움과 많은 비용이 들기 때문에 렌즈 설계 과정에서 렌즈의 + 요소와 - 요소를 결합하여 렌즈 요소 상호

리포트 | 9페이지 | 3,500원 | 등록일 2018.01.31 | 수정일 2020.08.05

다운로드 장바구니
[A+]지역사회간호 실습 산업장 case study - 간호진단 4개, 간호과정 2개

CASE STUDY산업장 간호과정실습지실습과목실습 지도교수님실습 기간이름Ⅰ. 간호사정1. 사업장의 개요사업장명설립연도-소재지업종절삭가공 및 유사처리업주요 생산품반도체 장비보건관리 ... 하는 과정에서 혼합유기화합물 증기가 발생하나, 대부분 외주작업으로 진행되고 있어 소량 작업만 실시하여 임시작업으로 판단되어 측정대상에서 제외함.?세척: 일부 제품에 한해 메틸알코올 ... → 출하*가공⇒ 레이저 절단, 알곤 및 아크용접 / 제품정단, 그라인딩을 하는 사상작업(마무리)/ 실크인쇄: 도료사용(10시간 미만) / 세척(10시간 미만)② 주요 유해요인

리포트 | 11페이지 | 3,000원 | 등록일 2018.05.28 | 수정일 2023.01.28

다운로드 장바구니
리소그라피실습

, Si-Wafer, 스핀코터 , 베이킹 장치 Di-water, 노광장치 실습목적 : UV 를 이용한 식각과 그 이전의 반도체 공정과정을 통하여 공정에 대한 이해를 높이고 최종 ... ) 세척을 완료 후 구워서 건조한다배경이론 금속 , 세라믹 , 반도체 표면에서 불필요한 부분을 화학적 , 물리적으로 제거하여 원하는 모양을 얻는 공정 VS 건식 식각 습식 식각 2 ... 식각 된 Wafer 을 분석한다배경이 론 1. 감광액 도포 및 제거 ⅰ . Photoresist Photoresist 는 반도체 제조 시 원판 표면 위에 미세한 회로를 그리기 위하

리포트 | 30페이지 | 3,000원 | 등록일 2017.06.05

다운로드 장바구니
웨이퍼 제조 공정, 반도체 제조 공정, 반도체

기술을 사용하여 실리콘 단결정봉을 웨이퍼로 바꾸게 됩니다. 절삭작업을 거치는 동안 웨이퍼의 가장자리 부분은 매우 날카롭고 깨지기 쉽게되므로 세척과정을 거친 후 정확한 모양과 치수 ... & Inspection)세척부문에서는 경면연마 과정을 거친 웨이퍼의 표면에 있는 오염물을 제거합니다. 이 최신의 공정에서 웨이퍼에 있는 미립자 오염물, 금속, 유기 오염물질을 씻 ... 를 녹여 규소봉(잉곳)을 만든 후 얇게 절단하여 웨이퍼를 만드는 과정입니다.2. 회로설계주어진 공정 조건에 맞추어 제품의 특성을 구체화하여 회로를 설계하는 것을 말합니다.3. 마스크 제작반도체를 개발 및 생산하기 위한 일종의 원판 필름을 만드는 과정입니다.

리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2014.06.09 | 수정일 2019.03.28

다운로드 장바구니
고분자재료실험 예비보고서(ITO)

되지 않는 환경을 구비한 후 공정을 시작하여야 한다.Cleaning & Wet-Station 의 중요성모든 반도체 공정은 오염물들의 근원이고 이는 소자의 성능과 수율에 직접적인 영향 ... 을 미치게 된다. 각 공정 후 Glass 표면의 오염물은 기하급수적으로 늘어나게 되고 이 오염물에 의해 반도체 소자의 수율은 급격히 감소하게 된다. 반도체 세정 공정은 Glass ... 적으로 증가하는 오염물을 최소한의 감소시키는 것이 그 주된 목적이다. 따라서 기판(Glass) 세정 공정은 모든 공정 전후에 반드시 행해져야 한다. 반도체 소장 공정 중 웨이퍼 표면

리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2015.05.11 | 수정일 2022.09.29

다운로드 장바구니

이전10개 4 5 6 7 8910 11 12 13 다음10개

파워링크

신청하기