"광 리소그래피"의 검색결과 입니다.

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리소그래피 포토리소그래피 장비기술 화공생명공학과 photolithography TMAH 수원대 나노 나노재료공학 반도체 공정실험 반도체 소재

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"광 리소그래피" 검색결과 141-160 / 217건

나노임프린트 리소그래피

碩士學位論文나노임프린트 리소그래피의 신뢰성 향상을 위한 임프린트시스템 최적화 방안에 관한 연구A Study on the Optimization of Imprint ... Systemfor Nanoimprint Lithography高麗大學校大學院電氣工學科朴亨錫2006年 6月成萬永敎授指導碩士學位論文나노임프린트 리소그래피의 신뢰성 향상 ... beca패터닝이 가능하다[4]. 또한 포토리소그래피에 사용되는 고가의 광학기기가 필요 없기 때문에 장비가 저가라는 점, 그리고 고해상도와 높은 공정처리량(throughput)의 우수

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 118페이지 | 15,000원 | 등록일 2007.01.27 | 수정일 2014.07.16

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광결정에 대하여

Yablonovite 구조.(b) 적층 구조의 리소그래피를 이용한 Wood pile 구조.[그림3] 1, 2, 3 차원 광결정 모형Botton-up 방식의 광결정의 제조3D 광결정 구조 ... 광결정이란?광결정과 원리물질의 광학적인 성질을 이용할 수 있는 구조를 가지고 있거나 구조를 갖도록 만들어낸 물질을 광결정(Photonic Crystal, PC)이라고 한다. 그 ... 가 파란색 파장의 빛을 반사하는 것이다. 색소가 없이 색깔을 내는 것을 구조색(Structural Color)이라고 부른다. 자연에서는 몰포나비 외에도 많은 광구조를 가지고 있

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| 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.12.14

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photolithography

을 응용한 것이어서 포토리소그래피라고도 한다. 감광성 수지를 도포한 기판에 포토마스크(원판)를 통해 자외선을 조사하면 포토마스크에 새겨진 IC의 패턴이 포토레지스트에 전사된다. 1m ... PR- Negative photoresist chemistryNegative Photo Resist는 노광에 의해 가교, 광이량화 등의 반응으로 분자량이 크게 증가하면서 용해

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| 리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.06.28

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포항 방사 가속기

등에서는 X선 리소그래피 (lithography)라고 불리우는 기술개발에 많은 투자를 하고 있다. 따라서 오직 이 방면의 연구 개발을 위해 건설된 소형 방사광가속기(Compact ... Synchrotron)가 이미 여러개생겼다. 유감스럽게도 국내에서는 기업체들이 X선 리소그래피에 아직 관심을 보이지 않고 있으나 외국에서는 방사광의 중요한 이용 분야 중 하나로 ... 의 원형 궤도에 접선방향으로 전자기파가 발생됩니디. 이 전자기파가 바로 방사광입니다.집속 및 교정용전자석저장링에 저장되어 있는 전자들은 모두 마이너스 전하를 띠고 있으므로 전자

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| 리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.02.02

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반도체 나노와이어 특성 및 원리

SiNW를 정렬 시킨 후, 전자빔 또는 광 리소그래피 방법으로 소스, 드레인 게이트 전극을 형성시킴으로써 소자를 제조한다.박막 트랜지스터나 나노 와이어에서 쇼트키접합을 설치한 접합 형 ... 한 평판 디스플레이 제품의 투명 전극으로 광범위하게 채용되고 있으 향후 소비량이 확대 될 전망이다. 그러나, 인듐은 아연광의 부산물로 정제되기 때문에 자원적으로 희소성이 높은 금속이

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| 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.11.14

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포토 예비

0. 일시2011. 04. 19.1. 제목Pattern Formation by Photochemistry2. 목적광반응(photoreaction)에 의한 patterning ... 에 패턴을 그려 집적회로를 만드는 기술. 사진 기술을 응용한 것이어서 포토리소그래피라고도 한다. 감광성 수지를 도포한 기판에 포토마스크(원판)를 통해 자외선을 조사하면 포토마스크 ... photoresist chemistryNegative Photo Resist는 노광에 의해 가교, 광이량화 등의 반응으로 분자량이 크게 증가하면서 용해성이 떨어지고 열적 특성, 내화학

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| 리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.04.19

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신소재개론 기말

Lithography- 빛을 이용한 전통적인 리소그래피- ‘50nm 장벽’을 극복하기 위한 리소그래피- 종류 : EUV, X-ray, E-beam lithography- 장점 ... (트위스트), 거기에 전압을 가하면 액정분자가 전계방향으로 배열을 바꾸는 원리=> 이 액정셀을 편향축을 직행시킨 편향판으로 끼우면 전압 OFF시에는 입사광이 통과하고, 전압 ON시 ... 에는 입사광을 차단하여 명암의 콘트라스트를 얻을 수 있는데, 이 효과를 표시장치에 응용함.STN-LCD의 동작원리=> TN과 같고 다만 비틀림각을 더 주었다는 것이 특징(90도→240도

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| 리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.10.29

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laser Interferometer를 사용한 계측실험

1. 레이저 간섭계의 종류에 대해 조사하고 각 차이점을 기술하라.레이저 간섭계는 빛의 간섭현상을 이용한 측정기로서, 광원으로는 여러 단색광을 사용한다. 일반적으로 계측대상을 통과 ... 으로부터 나온 빛은 투과율과 반사율이 비슷한 선속분할기 BS에서 수직으로 나누어진다. 두 빛 중에 고정된 거울에서 반사된 후 BS를 통과해 나오는 빛(기준광)과 움직일 수 있 ... 이 완전히 일치하게 되므로 관측지점에서의 두 빛의 위상은 모든 점에서 똑같아 지리라 기대할 수 있다. 하지만 BS에서 두 빛이 반사될 때 기준광은 내부반사를 하고 탐사광은 외부반사를 하

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| 리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.12.18

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박막 재료의 표면처리 및 식각 실험 예비보고서

하는 것 산소플라스마체계에서의 레지스트를 산화(태우는)시킴에 의하여 레지스트를 부풀리거나 들어 올리는 화학적 작용에 의해 이루어진다. 방금 설명된 자외선이 기초가 된 리소그래피과정 ... 하는 리소그래피체계는 발전되어 왔고 다가올 미래에 정상궤도에 들어설 것 같다.(가) 반도체의 정의고체물질은 그 도전율에 따라 도체, 반도체, 절연체로 크게 구분 할 수 있다. 도전율이 약 ... ) 광조사에 의해 도전율이 증가한다.4) 미량의 불순물을 첨가하면 도전율은 거의 비례하여 증가한다.5) 금속 등과 접촉시키면 정류작용이 있다.6) 홀 효과가 크다.(나) 반도체

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| 리포트 | 12페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.03.20

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[공학]나노패터닝기술의종류와 방법

위한 것이 EUV리소그래피이다. 지금까지의 광의 굴절을 이용한 렌즈대신에 반사경으로 광학계를 구성한다. 이는 50nm이하의 가공치수를 가능케 하는 기술로서 기대 된다. 현재 미국 ... -Down 방식현재 반도체를 만드는대 쓰이는 기술인 포토 리소그래피 기술은 대표적인 탑다운 방식이다. 탑다운 방식이란, 큰 물체를 점점 잘개 쪼개나가는 방식을 말하는데, 현재 ... 의 리소그래피 기술은 거의 한계에 다가서있다고 생각되어지고 있어서 새로운 방식의 패터닝방식이 요구되고 있다. 이러한 노력들에 NGL (Next Generation Lithography

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| 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.09.18

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ITO glass cutting, glass 세정 및 건조공정

하여 사용할 수 있는, 반사 리본으로 이루어진 1차원 공간 광 변조 배열방법이다. 이 장치는 이미 그래픽 아트 산업분야에서 컴퓨터-판 옵셋 리소그래피를 위해 Agfa와 Dai Nippon ... 된다. 음성 PR은 자외선에 민감하게 반응하여 고분자화 된다. 센시타이저는 PR이 반응하는 파장 범위를 늘이거나 줄이는데 사용된다.2) 용제(Solvent)용제는 광반응 고분자 ... Diazides와 함께 폴리머를 공정하면 폴리머가 빛에 민감해진다. 빛에 노출되면, Resin이 불용성에서 용해성으로 바뀌는데 이를 광분해(Photosolubilization)반응이

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| 리포트 | 15페이지 | 2,500원 | 등록일 2007.11.01

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반도체 기술혁신경영 미래기술

과 디스플레이용 광리소그래피 공정을 융합해 마이크로미터(1㎛=100만분의 1m) 크기의 패턴을 만든 후, 분자조립현상을 이용해 수십 나노미터(1㎚=10억분의 1m) 크기의 패턴으로 밀도를 백 ... 공정에까지 적용 할 수 있는 D램 기술의 확보하게 되었다.?광자유체 반도체광컴퓨터와 전자종이의 재료가 되는 광자유체 신기술이 국내에서 개발되었다. 자연상태에서 오팔 보석, 공작새 ... 된 3차원 구조체다. 특정 파장의 빛만 완전히 반사시키는 특성이 있다. 광자유체 신기술은 굴절률을 1.4~2.8까지 조절하는 입자를 제조할 수 있다. 광자 컴퓨터, 광정보를 처리

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| 리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.07.28

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[재료공학]리소그래피

개발도 착수했다. 초자외선 리소그래피 기술은 광리소그래피의 일종으로, 사진 촬영 기법과 거의 동일하다고 한다. 개발하는 장비는 회로의 이미지를 실리콘 웨이퍼 위에 인쇄하는데도 사용 ... ?리소그래피(X-ray Lithography)집적회로를 만들 때 중요한 부분에 사진기술이 사용된다. 실리콘칩 표면에 만들고자 하는 부품의 패턴을 빛으로 촬영하고 그것이 감광 ... 된 수지를 칩 표면에 고정한 후 화학처리나 확산처리를 하는데, 이를 총칭해 리소그래피(lithography)라 한다. 따라서 얼마만큼 미세한 패턴을 만드는가가 이 기술의 키포인트인데

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| 리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.06

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플라즈마 생성과 응용

(Lithography) 공정에서 사용되며 양질의 탄소 나노 튜브 성장 공정에서도 사용될수 있다. 강력한 EUV를 내는 광소스는 리소그래피에 사용되며 전자빔, 이온빔과 같은 전하 ... 에서 사용되는 저온 플라즈마의 종류-. 응용분야 중성입자 빔의 응용분야로는 차세대 반도체 공정에서 나노 스케일 반도체 식각 장비, 나노 스케일 증착 공정 및 나노 스케일 리소그래피

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| 리포트 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.09.29

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[기계공학]노광기

의 광리소그래피(optical lithography) 개념을 10∼14nm 파장까지 연장하는 기술로 현재의 설계 및 요소기술(component technology)를 이용 ... 과 비슷하다. 유리기판(인화지)과 마스크(필름)를 겹친 위에서 빛을 쪼이는 장비가 노광기다.2. 리소그래피노광 기술이라고도 하며, 포토마스크 기판에 그려진 반도체 회로 패턴을 웨이퍼 상 ... 어, 총 공정 비용의 약 35% 이상, 총 공정 시간의 약 60%이상을 리소그래피공정이 차지하고 있다. 또한 전체 반도체 장비 시장 규모의 약 15% 이상, 전공정 장비의 약 20

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| 리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.05.26

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나노 패터닝 기술

의 패턴 형성에 나노임프린트 기술을 적용하고 있고 앞으로 비메 모리 반도체 등으로 영역을 확대할 예정이다. 뿐만 아니라 초미세 패턴 광소자 개발을 목표로 나노임프린트 기술을 연구 ... 화했으며 가격도 외산 제품의 절반 이하에 불과한 것이 특 징이다.△ 한편 반도체 공정에서 고분자막으로 코팅한 기판 표면을 스탬프로 찍어 물리적으로 패 턴을 형성하는 나노 임프린트 리소그래피 ... 나노기술 자 체 역시 엄청난 시장 확대가 있을 것으로 예상된다.Ultraviolet nanoimprint----------------------■ 가열방식의 나노임프린트 리소그래피

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| 리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.03.07

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Soft lithography

은 정밀화학에 이르기까지 광범위하게 쓰이고 있다. 그러나 최근 1990년대 이후로 마이크로미터 크기의 현상을 이용한 다양한 소자에 대한 연구가 광범위하게 집중적으로 연구됨에 따라 ... 에도 널리 쓰일 수 있다.여러 종류의 소프트 리소그래피에서 공통적으로 쓰이는 탄성 중합체 몰드는 일반적으로 PDMS로 만들어진다. PDMS는 투명한 고무의 형태로 대면적을 제조가 가능 ... 시킨 후 경화제와 10:1의 비율로 잘 섞인 액상의 PDMS를 붓고 기포를 제거한 후 열을 가하여 경화시키는 간단한 방법으로 소프트 리소그래피를 위한 PDMS 몰드를 얻을 수 있

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| 리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.10.16

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유비쿼터스 설명

틱 변형이 되지 않는다. 이는 마이크로머신 기술의 원리이다. 일단 IC와 결합되면, 움직이는 구조체(진동판 및 캔틸레버)가 만들어낸 전자 신호가 인식하여, 광범위한 애플리케이션 ... 을 위한 센서 개발 능력을 관리한다. 많은 마이크로머신 처리 단계는 기본적인 IC 공정인 포토리소그래피, 재료 증착, 반응이온 및 화학적 에칭에서 비롯되었다.그러나 CMOS 로드맵

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| 리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.10.06

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전자잉크(전자종이)의 연구 및 기술

까지는 현재 요구되고 있는 가볍고 얇으면서도 저소비 전력과 동영상 구현, 반사광, 야외시각 확보, 휴대성과 같은 사항들을 모두 충족시킬 정도의 기술 개발은 이뤄지지 못한 상태이 ... onic 상태의 쌍안전성을 이용하여 구동하는 cholesteric LCD 기술을 연구 개발하고 있다. cholesteric LC mode는 주변광을 광원으로 사용하는 반사형 LCD ... LGD도 인쇄법을 통한 컬러필터 제조공정을 개발한 것으로 알려졌다. 하지만 리소그래피 공정을 인쇄공정으로 대체하는데 필요한 잉크소재와 프린터 개발 및 본격적인 상업화 지원이 필요

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| 리포트 | 21페이지 | 4,000원 | 등록일 2012.08.05

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나노 반도체

SiNW를 정렬 시킨 후, 전자빔 또는 광 리소그래피 방법으로 소스, 드레인 게이트 전극을 형성시킴으로써 소자를 제조한다.박막 트랜지스터나 나노 와이어에서 쇼트키접합을 설치 ... 반도체 나노와이어 전자 소자의 광전기적 특성 및 응용1. 나노전자소자대표적인 IT-NT 융합기술 로서 새로운 전자소자의 제조방법에 관한 원천기술과 신소재를 기반으로 신개념 소자 ... 접합할 수 있다.4. 나노 광 디바이스나노와이어 디바이스의 기본적인 구조는 n-형 산화아연으로 만들어진 나노 와이어가 도핑 농도가 큰 p-형 실리콘으로 만들어진 기판과 상부 금속

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| 리포트 | 3페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.08.19

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