"리소그래피 공정"의 검색결과 입니다.

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포토리소그래피 asml 반도체화학 반도체 포토공정 microlithography

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"리소그래피 공정" 검색결과 361-380 / 496건

동우화인캠 자기소개서

을 기본적으로 이해하는 시간이었습니다. 웨이퍼 검사, 산화공정, 에칭, 금속화, 포토리소그래피, PR strip, C-V측정 과정의 순서로 실습하였습니다. 이 여러 과정 중, 제일 ... 직접 반도체 공정 장비를 다루며 그 과정을 이해하게 됐고 팀워크의 중요성도 배울 수 있었습니다. 실험 주제를 정하고 실험 과정을 설계하기 위해서는 배경 지식이 필요했습니다. 학부생이 ... 원의 연수과정에 참여하게 되었습니다. 다양한 교육과정 중, 가장 집중했던 과정은 서울대 반도체 공동연구소에서 FAB에 들어가 반도체 공정실습을 하여 CMOS를 제작한 것이

자기소개서 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2013.06.10

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분야별유비쿼터스

생산이나 센서의 집적화에는 많은 한계가 예상된다.이를 타개할 수 있는 방법은 리소그래피와 식각 기술을 이용한 톱다운(top-down) 방식의 실리콘 반도체 제작 공정을 사용하는 것 ... 이며 이는 기존의 CMOS 공정을 그대로 활용할 수 있어 대량생산을 통한 실용화에 매우 유리하다. 톱다운 방식을 이용한 나노선 FET 바이오센서는 Hewlett-Packard ... 의 Williams 연구팀에서 초기 연구가 이루어졌는데, 전자빔 리소그래피를 이용하여 나노미터 스케일의 선폭을 가지는 채널을 구성하여 pM 수준의 DNA, 단백질 등의 검출을 수행

리포트 | 28페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.10.04

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리소그래피

의 역할, 글자를 판 도화지가 mask의 역할을 합니다. 그게 미세한 회로 단위로 작아졌다 보면 된다.(2)소프트 리소그래피 : 기존의 photo(광학) 공정이 고가인데다가 ... 를 이용하여 30nm부터 100μm 사이의 패턴 또는 구조물을 생성하는 공정이다.나노 각인 리소그래피(NIL, NanoImprint Lithography), 마이크로 접촉 인쇄 ... of defect)③고 분해능 맞춰 찍기의 어려움5. 광학 리소그래피 공정(1)웨이퍼제작 : 초 순수 실리콘 (EGS, electron grade silicon) 생산=> 실리콘

리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.07.19

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새로운 재료 제거 가공 방법 아이디어

)하는 것. 대규모 집적 회로(LSI) 등 반도체 소자를 제조하는 공정에서 반도체 단결정 웨이퍼에 박막 형성, 포토리소그래피(photolithography), 에칭, 이온 주입 등 ... 의 기술이 가해지는 요소 프로세스 중의 한 공정이다. 웨이퍼 표면에 부착된 전극 재료를 포토리소그래피로 형성된 패턴에 따라 식각하는 공정으로, 종전에는 화학 약품을 사용하는 웨트 에칭 ... 의 이방성 식각이 가능하다③응용분야* 반도체 제조 공정에서 Al, Si, SiO2, Si3N4, TiN, Mo, Cr막의 식각* NESA막의 식각* Ar gas를 이용한 표면

리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.03.30

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Bioelectrochemistry

하는 일련의 과정을 뜻한다. 이 외에 부가적인 공정으로는 plating(도금), dicing, drilling, trimming 등이 있으나 궁극적으로 이러한 부가 공정은 thin ... film process를 의미하지는 않는다.2. 박막제조공정(Thin film process)Thin film process는 오랜 기간 기술의 발전과 더불어 개별 공정 또한 ... 상당히 다양화 되었다. 여기에서는 수 많은 thin film process에 대해 모두 논의할 수 없어 thin film HIC의 공정을 중심으로 소개하도록 한다.박막의 형성

리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.05.21

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생산기술의 변화

성장 등이 대표적인 상향식 공정들입니다. 리소그래피(전자빔, 이온빔, x-ray, UV 등), 박막 적층 및 성장, polymer molding, 기계적 방법(절삭가공, 연삭, 래핑 ... )은 개개 원자수준의 정확한 제어를 통하여 양자역학적으로 합성해가는 기술을 의미합니다. 소프트 리소그래피(마이크로콘택트 프린트, 나노임프린트 등), 자기조립, 로봇조립, 템플리트 ... , 폴리싱) 및 전기화학적 방법 등이 대표적인 하향식 공정들입니다.Top down같은 방식은 현재 반도체 공장에서 기계를 통해 찍어내는 방식을 생각하시면 이해가 편하고 Bottom

리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.04.06

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박막 재료의 표면처리 및 식각 실험 예비보고서

공업화학실험1. 실험제목박막 재료의 표면처리 및 식각 실험2. 실험목적여러 가지 전기 및 전자기기에 사용되는 반도체 소자의 제조공정은 박막재료의 세가지 공정으로 나뉘어 지 ... 는데 첫째로 증착공정 둘째로 마스크의 패턴형성 그리고 셋째로 식각공정으로 나뉘어 진다. 이러한 공정 가운데서 중요한 공정은 박막의 식각공정으로서 마스크 패턴을 가지고 증착된 박막을 식각 ... 하는 것이다. 본 실험에서는 마스크에 의하여 형성된 패턴을 증착된 박막위로 전달하는 식각공정에 대하여 이해하고 그에 따른 박막의 표면과 두께의 변화등에 대하여 고찰하고자 한다.3

리포트 | 12페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.03.20

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Lithography, Sputter, VSM, PHR, MR 의 실험 이론 및 방법 및 결과 및 고찰

자기공학설계1) Lithography1. 실험 이론1-1 정의- Photomask의 pattern을 웨이퍼의 표면에 transfer 시키는 공정1-2 공정 및 공정의 간략한 설명 ... - Photolithography는 일반적으로 위의 그림과 같은 공정을 따르며 아래 글에서 그 순서를 정리하였다.① 웨이퍼 세척은 웨이퍼의 표면에 붙어있는 유기물이나 이온, 금속 ... 에서 10~30분간 굽는다.⑤ 그 후, 미리 만들어진 마스크를 웨이퍼 위에 올려놓고 alignment 한다.⑥ 앞의 공정을 거친 웨이퍼는 exposure 과정을 거치게 되는데, 마스크

리포트 | 31페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.12.18

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태양전지 및 관련특허

리소그래피 공정(2)식각 공정2.태양광 정류장 제조공정 (특허관련)3.추가적인 조사Ⅳ. 태양광 정류장의 장점Ⅴ. 결론※Supplement1. Reference(참고자료)Ⅰ. 서론버스 ... . LED(1)LED 재료의 종류(2)LED 발광원리(3)LED 의 색(4)LED 특징(5)LED 조명 시스템 기술Ⅲ. 태양광 정류장 제조공정1.과거에 썼었던 공정법(1)포토 ... 에 바른 후, 원하는 마스크 패턴을 올려놓고 빛을 가해 사진을 찍는 것과 같은 방법으로 회로를 형성하는 것.< Photolithography 공정 기술 >1

리포트 | 20페이지 | 3,500원 | 등록일 2011.11.27

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바이오칩 기술개발동향

○ 바이오칩은 사용하는 생체분자에 따라 DNA칩, 단백질칩, 세포칩, 케미칼칩 등으로 분류할 수 있다. 이중 DNA칩과 단백질칩의 경우 기존에는 광리소그래피를 기반으로 제작 ... Affymetrix사는 컴퓨터칩을 만드는 데 사용되는 광리소그래피(photolithography) 라는 기술을 사용하여 수십만개의 다른 뉴클레오티드(nucleotide)를 하나의 유리판 ... 기술은 생물학이나 랩온어칩(lab-on-a-chip)에 적용되는 마이크로/나노 유체 소자의 제작에 중요한 기술이다. 대부분의 유체소자들은 실리카 기반의 반도체공정을 이용하여 제작

리포트 | 9페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.06.24

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재공실 실험3 예보 - Landau-Lifshitz-Gilbert(LLG) 식을 이용한 자기거동분석

정도 외부자기장을 인가하였다. 형상자기이방성 효과를 고려하여 광 리소그래피 과정으로 얻은 미세 활성영역 패턴 사이즈는 2 × 5 ㎛²로 정하였다. 2단자법으로 길이방향의 센싱전류 ... 를 이용한 메모리 소자의 정보 저장 속도는 증가하게 되고 자기저항 자체가 직접적으로 전기적인 디지털 신호를 나타내기 때문에 소자를 제작할 때 복잡한 공정이 필요 없어 저렴하게 생산

리포트 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.10.29

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MOS diode 설계

의 band diagram▶ 일반적인 MOS diode의 공정과정Ⅱ. 본론▶Metal의종류 선택과 선택 이유▶Doping 농도의 계산과정Ⅲ. 결론▶결론 및 논의Ⅰ.서론MOSFET ... inverson layer를 형성한다 (1~10nm)·위의 내용을 다음과 같이 정리할수있다▶ 일반적인 MOS diode의 공정과정1. cleaningp-type (100) wafer ... 으로 증착합니다. 저항을 줄이기 위해 P나 B를 도핑하기도한다.6. 게이트 lithography폴리실리콘이 전면에 덮여있으므로 게이트 전극부분만 패터닝한다. 과정은 앞의 리소그래피와 같

리포트 | 9페이지 | 3,000원 | 등록일 2010.08.09

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LGD

었지만 40시간의 교육과정은 저에게 정말 알찬 시간이었습니다.LCD에 대해 배울 때, ITO 투명전극과 포토리소그래피가 기억에 남았습니다. 포토리소그래피공정이 사용되지만, LG ... 하려 한다고 알게 되었습니다. 반도체융합기술원 Fab에서 포토리소그래피공정의 식각과 에칭 등을 해보았습니다. ITO 패턴 에칭을 하는 실습을 했는데 PR과 mask, sputtering ... 디스플레이 교육을 받았습니다. 학교 정규 수업 과정에서 디스플레이 공정 공학 등 수업을 들었지만, 이론적인 내용에 국한되어 있었습니다. 이론으로는 배웠지만 부족하다는 아쉬움과 눈

자기소개서 | 2페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.03.14

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유기 태양전지 (Organic Solar Cell)

인쇄의 경우 잉크를 여러 개의 공급 롤러가 코팅 롤러에 공급하며, 리소그래피 공정에서는 많은 잉크주입 롤러와 댐핑 롤러가 있다. 그림 2.8 에 각 공정별로 그 형태를 간단히 도시 ... 태양전지의 역사11.3 유기 태양전지 형태 및 분류2제 2 장 본 론2.1 유기 태양전지 원리32.2 유기 태양전지 제조공정 52.3 유기 태양전지 효율성 및 문제점152.4 ... , 캐스팅 같이 작은 기판을 사용하는 개별적 공정에 한정되어 있으나, 제지, 플라스틱, 섬유소재 생산에 쓰이는 연속 롤 형식의 대량생산 방법으로 전환이 필요하다. 이를 roll-to

리포트 | 27페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.11.01 | 수정일 2016.05.11

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신의손) 합격 한글 이력서

~ 2013.08 한국 기계연구원 나노역학 연구실(1달) ? 나노 임프린트 리소그래피 공정 실험 실습? 프로브카드용 프로브 설계제작 특성평가2010.01. 2011.01 호주 워킹 ... 지원분야 : 공정 제조 , 공정 R&D최종학력 :연락처 :휴대폰 :이메일 :주소 :Resume학력사항2007.3 ~ 2014.8 ○○대 전자정보공학과 졸업 평점 ; ○○ / 4 ... 계연구원 나노역학연구실▶ 주요 업무 및 교육 내용- 나노 임프린트 리소그래피 실험 참여- 프로브카드용 프로브 설계 제작 및 특성 평가- 프로브카드에 대한 특허 자료숙지

이력서 | 17페이지 | 무료 | 등록일 2014.08.20 | 수정일 2016.01.10

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기술개발사업과 나노핵심기반기술, 디자인기반기술, 기술개발사업과 산업디자인기술, 민군겸용기술, 기술개발사업과 환경기술, 환경기술실증화사업, 기술개발사업과 우주개발사업, 평가관리

의 전산모사 기술, 나노 생체모방 재료기술※ 후보기술 : 원자층 나노 식각공정기술, Sol-Gel 공정기술, 미래형 나노 리소그래피 기술, 나노 바이오센서 기술, 나노재료의 표면/계면 ... 구조 제어기술, EUV?X선 광 리소그라피 공정 기술, 스핀정보를 이용한 신호 증폭 및 메모리 소자 기술3. 나노기초연구지원사업1) 사업목적 및 성격○ 나노분야에 있어 미래기술

리포트 | 14페이지 | 6,500원 | 등록일 2013.04.12

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직접회로 작성 및 인쇄도포 방법 영문자료 번역

직접회로 만드는 공정자료 영문자료 번역그림 45. Rohm와 Haas 자료에 대한 프로세스 옵션을 제공한다. 오른쪽 경로는 레지스트가 남아있고 교차 연결되어 노볼락 수지베이스 ... 61 이 자료와 그들의 방사화학분석은 G - 값을 리소그래피 민감한 부분 대표 예제 컴파일 작업 제공된다.3.5.2 폴리 (올레핀의 설폰화합물)폴리 (올레핀의 설폰화합물)은 일반적으로트.

리포트 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2013.06.15

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나노임프린트 리소그래피

beca패터닝이 가능하다[4]. 또한 포토리소그래피에 사용되는 고가의 광학기기가 필요 없기 때문에 장비가 저가라는 점, 그리고 고해상도와 높은 공정처리량(throughput)의 우수 ... 성을 지니고 있어서 생산성측면과 효율에서 많은 이점을 가지고 있다[5-7]. NIL는 일반적인 반도체 리소그래피공정에서 소자 제작을 위한 패터닝 기술로 활용될 수 있고 아울러 3D 패 ... ,12].NIL은 공정방식에 따라 두 가지 타입으로 나눌 수 있는데, 하나는 핫 엠보싱 리소그래피(hot embossing lithography)라 불리는 고온(~215℃)과 고압

리포트 | 118페이지 | 15,000원 | 등록일 2007.01.27 | 수정일 2014.07.16

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플라즈마 생성과 응용

에서 사용되는 저온 플라즈마의 종류-. 응용분야 중성입자 빔의 응용분야로는 차세대 반도체 공정에서 나노 스케일 반도체 식각 장비, 나노 스케일 증착 공정 및 나노 스케일 리소그래피 ... (Lithography) 공정에서 사용되며 양질의 탄소 나노 튜브 성장 공정에서도 사용될수 있다. 강력한 EUV를 내는 광소스는 리소그래피에 사용되며 전자빔, 이온빔과 같은 전하 ... 고도 높은 밀도의 플라즈마를 생성할 수 있다.플라즈마의 응용공업적으로 이용이 활발한 플라즈마는 저온 글로우 방전 플라즈마로서 반도체 공정에서 플라즈마 식각(plasma etch

리포트 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.09.29

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유기전자학(Organic Electronics)이란 무엇인가

-backplane이다. 이것은 기존의 TFT-LCD에서 사용하는 a-Si TFT의 CVD와 리소그래피 공정을 OTFT의 인쇄공정으로 대체하여 공정비용의 절감과 함께 초대형 디스플레이 ... (polyvinylephnole)와 같은 고분자를 주로 사용하고 있고, 성막 방법으로는 스핀코팅, 인쇄공정 등을 사용한다. 유기반도체는 유기분자의 p-전자가 상호 강하게 중첩되도록 배열 ... 의 제조를 가능케 한다. 또한 OTFT-backplane의 제조공정은 플라스틱 기판에 적합하므로 차세대 디스플레이로 주목받고 있는 플렉서블 디스플레이에 적용할 수 있다. OTFT

리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.12.11

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