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스퍼터링 증착 evaporator Cr ITO 증착 Sputter 전기화학 ito glass
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"스퍼터링 박막형성" 검색결과 321-340 / 449건

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    [공학]플라즈마
    의 관심은 가스 방전 레이저와 램프 개발에 있었다. 1960년대 말부터 PECVD에 의한 SiN 박막형성과 산소 플라스마를 이용한 Photoresist (PR) 에싱 가능성 그리고 ... 가 플PECVD 장치가 발표된 후, 1980년에 들어서는 필수적인 반도체 공정설비로 자리를 굳혔다.이렇게 도입된 PECVD 기술은 SiN과 SiO2 박막형성뿐만 아니라 최근에는 천이 ... 금속이나 천이금속 실리사이드형성에서도 널리 사용되고 있다.PECVD에 의한 박막형성 메커니즘은 1) 플라스마에서 이온과 라디칼 형성 2) 라디칼 흡착 3) 표면에 붙은 원자의 재
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    | 리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.03.18
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    태양전지에 대하여
    들을 복합한 것이 있으나, 보통 사용되고 있는 것은 실리콘이다.실리콘 태양전지는 확산법에 의해 p-n접합을 형성하지만, 조사(照射)된 광양자(光量子)의 대부분이 접합부 부근에 이르 ... 쌍이 생성되는데, 이들 전자-정공이 pn 접합부에 형성된 전기장에 의해 전자는 n층으로, 정공은 p층으로 모이게 됨에 따라 pn간에 기전력(광기전력 : Photovoltage ... 의 고효율을 기록하고 있다.* CuInSe2태양전지(CIS Cells)다결정 박막CuInSe2전지는 p-n이종접합 구조를 기본으로하며 약 1eV의 밴드갭을 가지고 있고 보통 0.5V
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    | 리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.11.09
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    [진공과학] 진공증착
    을 이용해 실리콘(SiO⁴) 등의 박막을 형성시키는 공정을 말한다.반도체기판상에 박막을 형성시키는 방법인 CVD는 기판표면의 배선.전극 등에 다른 종류의 가스와 고체 또는 가스와 액체 ... 에서 분해, 산화 등의 화학반응에 의해 박막을 형성하는 기술이며, 이러한 화학반응을 일으키기 위해서는 에너지가 필요한데, 가해주는 에너지원에 따라 다음과 같이 분류된다.Thermal ... C다.Plasma CVD : RF Glow Discharge에서 전기 에너지에 의해 반응을 촉진시켜 박막형성을 행하는데, 이 과정에서는 열을 필요로 하지 않으므로 저온화가 가능
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    | 리포트 | 11페이지 | 4,000원 | 등록일 2004.11.14 | 수정일 2015.09.25
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    SEM에 관한 예비/결과보고서
    후 시편을 빠져나가지 못하는 전자가 회로를 형성하여 접지로 흐르지 못하면, 남은 에너지가 시편에 흡수되어 시편을 가열시키고 화학적으로나 물리적인 변화를 초래한다. 이를 방사선 손상 ... 을 효과적으로 형성하도록 고안되어 있다. 텅스텐과 같은 금속을 높은 온도로 가열시키면, 표면의 원자에 구속되어 있던 전자들이 원자핵의 속박에서 벗어나 진공중으로 이탈된다. 양극은 주로 ... 휘는 성질을 이용하여 전자를 한곳으로 모으는 역할을 한다. 광축에 원대칭을 이루는 자장에 의해 광축을 따라서 진행하는 가속된 전자가 나사형 괘적을 이루면서 초점을 형성한다. 자기
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    | 리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.08.31
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    박막의증착
    에 크게 부각되고 있다. 박막형성 기술의 대표적 방법으로 CVD(Chemical Vapour Deposition), PVD(Physical Vapour Deposition)법 이 있 ... 으며 CVD법에 의한 박막 형성은 PVD법에 비하여 고속입자의 기여가 적기 때문에 기판 표면의 손상이 적은 잇점 이 있으므로 주목되고 있으며, 국제적으로 기술 개발을 서두르고 있 ... 는 증착표면에서 heterogeneous한 반응을 일으키고 이로 인해 박막이 형성되게 된다. 이어서 기상의 부산물들은 reaction chamber를 빠져나간다.박막은 여러가지 방법
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    | 리포트 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.12.26
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    [공학]Thermal Evaporation법을 이용한 발광박막의 제조-알루미늄(Alq3)
    의 경우는 용매에 고분자를 녹여 코팅 또는 프린팅 기술을 이용하여 형성을 하고 있다.2. 박막제조공정(Thin film process)의 개요Thin film process ... 하기 때문에 박막형성에 있어서 핵생성이나 성장이론과의 대응을 하기 쉽다.(4) 박막을 만들 때, 열적, 전기적 번잡함이 작기 때문에 박막형성시의 막의 물성연구 (insitu ... 은 고온에서는 증발원의 재료와 박막재료가 어느 조합에 대해서 반응이나 확산을 일으켜 화합물이나 합금을 형성하는 문제이다. 왜냐하면 합금이 되면 융점이 떨어지고 증발원은 끊어지기 쉽
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    | 리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.01.03
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  • 자료 표지
    플라즈마 중합, 플라즈마 처리, 표면 개질,
    등의 기능성 박막을 형성할 수 있다. 뿐만 아니라, 반도체 분야에서는 에칭과 스퍼터링에 의한 식각 공정에서 널리 사용되기도 한다.플라즈마 공정의 장점으로는 다음과 같다.- 건식 ... - 균일한 박막을 형성한다.본 연구에서는 표면 개질과 필름 증착을 위한 방법으로 아크릴산을 고분자 표면 위에 플라즈마 중합하여 필름을 형성함으로써 표면의 성질을 개질하고자 하 ... 에 량체를 투입함으로써 기판 위에 필름을 형성하여 외부로 확산되는 PVC 내의 첨가제의 손실을 방지하거나8, 각종 소재들이나 metal halide와 같은 소재들의 부식 방지용 보호
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    | 리포트 | 63페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.08.05
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    노광공정 및 식각공정
    을 함. 화학 기상 증착법 또는 스퍼터링 을 이용해 전도성 폴리실리콘 층을 형성하며, 이 영역은 트랜지스터의 게이트가 됨.전통적인 리소그래피 - 트랜지스터6. 산화 (Oxidation ... 된 Pattern대로 박막을 선택적 제거함으로써 실제의 박막 Pattern을 구현하는 방법 Pattern이 형성된 부분의 박막은 남게 되고 PR이 없는 부분의 박막은 제거된다식각 ... 이 형성된다.전통적인 리소그래피 - 트랜지스터3. 식각과 박피(Etching Strip) 식각 아래 그림과 같이 감광저항층이 없는 산화층을 제거한다. 박피 감광저항층을 웨이퍼 상
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    | 리포트 | 29페이지 | 2,500원 | 등록일 2007.05.09
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  • 자료 표지
    [박막] RF 마그네트론 스퍼터링을 이용한 ZnO박막에 관한 연구
    -digital transducer)를 기판과 ZnO 박막 사이에 형성하여 SAW 필터를 제조 하였으며, HP 8753C network analyzer를 이용하여 주파수 응답, 임펄스 특성 ... 에 스퍼터링된 입자들이 기판에 도달하기 전에 충돌할 확률이 더 커졌기 때문이다.RF 전력 및 기판온도가 ZnO 박막의 결정화에 미치는 영향을 알아보기 위하여 40 mTorr의 알 ... funtion of rf power. function of af presure.압전박막을 SAW 필터로의 응용시에는 우수한 c축 배향성 뿐만 아니라 소자내에 형성되는 전기장을 왜곡
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    | 리포트 | 17페이지 | 3,500원 | 등록일 2004.12.05
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    태양전지
    을 형성시킨다.⑩ 전극 열처리 후 태양전지를 완성한다.Ⅳ. CIS 박막 태양전지의 기본구조CIS 박막 태양전지는 박막형 화합물 태양전지중에서 현재 가장우수하다고 평가받고 있 ... 전지의 분류에 따른 종류 및 특성1. 단결정 실리콘 태양전지2. 다결정태양전지3. 비정질 태양전지4. 박막형 태양전지5. 화합물 태양전지의 특성6. 유기분자형 태양전지7. 염료감응 ... 형 태양전지Ⅲ. 실리콘 태양전지의 제작 공정Ⅳ. CIS 박막 태양전지의 기본구조Ⅴ. 태양전지의 중요성1. 기술적 중요성2. 경제적 중요성3. 사회문화적 중요성Ⅵ. 태양전지의 국내외
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    | 리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.04.27
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    플라즈마의 성질과 응용
    이 주로 쓰여져 왔으나 80년대초에 소련에서 메탄가스 플라즈마로부터 저압에서 다이아몬드를 박막 형태로 얻어질 수 있다는게 밝혀져 이를 이용한 반도체 소자, 공구코팅, 광학부품 코팅 ... 은 Ti의 반응성 이온 플레이팅이나 스퍼터링, PECVD 방법등을 통해 건식법으로 만들 수 있다. 또한 고분자의 표면을 질소나 산소 플라즈마 등으로 처리하면 고분자의 표면에 치수 ... 성이나 소수성을 줄 수 있거나 제전성, 염색성, 심색성 등을 향상시킬 수 있으며, 금속재료를 질소나 메탄가스 플라즈마와 접촉을 시키며 바이아스를 가하면 표면에 질화나 침탄층이 형성
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    | 리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.12.10
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    포토리소그라피(photolithograpy)공정의 기본과 금속배선공정인 무전해, 전해도금의 기초 및 원리
    Fabrication)Ⅱ. 금속 배선 기술1. Sputtering1.1 Sputtering의 개요- 스퍼터링은 전자 박막재료 증착 과정 중 하나인 Physical Vapor ... 으며, 속도가 빠르고 두꺼운 후막 구조물 형성이 용이하다. 고전적으로 도금 기술 은 부식 방지를 위한 금속 마무리 등이나 디스크의 유동성 박막 헤드 등의 응용 분 야에 사용되어 왔 ... 의 박막을 장벽 또는 전도체와 실리콘 기판 사이의 절연체로 사용한다. 또한 불순물 침투나 접합이 필요한 곳 어디나 이런 장벽 물질에 구멍이나 창을 뚫게 된다.패턴 창을 가지는 마스크
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    | 리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.17
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    [기술]제진합금, 비정질 합금
    ]공증착, 스퍼터링(Sputtering)법 등이 대표적인 것이다.진공 증착법은 진공 용기 속에서 금속을 가열하여 기체 상태로 만들고, 기판표면에 수증기를 부착시켜 박막을 만드는 것 ... 이다. 스퍼터링법은 Ar과 같은 불활성 가스를 방전하여 플라즈마(Plasma)로 만들고, 모합금에 충돌시켜 튀어나온 원자를 기판 위에 부착하여 박막을 만드는 것으로, 희토류 금속 ... (Coating)법무전해 코팅법수 mm 후막기상에서부터 급랭진공 증착법이온 도금법스퍼터링(Sputtering)법화학 증착법(CVD)법10～10Å극박막10~10Å극박막10~10Å극박막수 mm
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    | 리포트 | 22페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.03.28
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  • 자료 표지
    cvd 와 pvd의 특징과 비교
    (Physical Vapor Deposition)과 화학기상증착(Chamical Vapor Deposition)등의 다양한 방법으로 성장되며, 일단 형성된 박막은 어떤 형태로든 최종 ... 성분의 Uniformity- 박막된 기판과의 adhesion 우수- 재현성 우수- 고순도 유지- 미세 패턴의 형성이 가능할 것(step coverage)3,CVD를 이용한 증착 ... 반응 용기 안에 원하는 종류의 재료를 설치하게 되는 Target 등으로 이루어 진다.1. PVD 기술에 의한 박막 형성법가) 진공 증착법저압하에서 열선으로 만들어진 도가니 안
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    | 리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.10.14
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    MCM multichip module
    처 a ceramic substrateMCM-D (Deposited )캐리어 기판(실리콘, 세라믹, 금속)위에 구리(Cu)박막의 배선층 이라든지 폴리아미드 절연층 등을 형성 ... 하는 박막기술로 박막을 형성하고 그 위에 회로와 Via를 가공하여 회로층을 형성시키며 순차적으로 같은 공정을 번복하며 층수를 높여 나가는 MCM 패키징 기술이다. 이 기술은 메인 프레임 ... /150100직경/250300직경/1000비아 크기/피치(㎛)25/7580/250100/250선폭/피치(㎛)4 - 62010층 개수스퍼터링, 도금 포토리소그래피Green sheet
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    | 리포트 | 40페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.09.27
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    [공학]반도체 박막 재료의 표면 처리 및 PR 제거
    로 증착공정 둘째로 마스크의 패턴형성 그리고 셋째로 식각공정으로 나눠진다. 이러한 공정 가운데서 중요한 공정은 박막의 식각공정으로서 마스크 패턴을 가지고 증착된 박막을 식각하는 것 ... 이다. 본 실험에서는 마스크에 의하여 형성된 패턴을 증착된 박막위로 전달하는 식각공정에 대하여 이해하고 그에 따른 박막의 표면과 두께의 변화 등에 대하여 고찰하고자 한다.■ 실험 ... ) 공정 다음의 단계이다. 노광을 통해서 형성된 포토 레지스트 패턴을 마스크로 하고 마스크 아래 부분과 외부에 노출된 부분의 화학 반응을 다르게 해 웨이퍼 표면의 박막에 가스
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    | 리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.12.15
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    [레포트] PDP & 유기 EL
    의 화상을 표현하는 것이 가능하다.③장수명AC형의 경우는 유전막 위에 내스퍼터링 특성이 좋은 MgO와 같은 보호막을 이용하여 수명을 연장시키며, 원리적으로는 10만 시간 이상 ... 은 절연파괴강도, 광반사율이 높으면 유리함­ 격벽 (Barrier Rib)방전셀마다 일정한 방전공간 확보, RGB 형광체가 섞이지 않도록 격리 전면적에 균일한 높이로 형성해야 함 맨 ... ) 기술을 적용한 17인치 능동형 OLED 개발에 성공하였다.OLED는 응답속도가 TFT-LCD(초박막액정표시장치)에 비해 1000배 정도 빠르다. TFT-LCD 모니터를 얘기할때 응답
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    | 리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.07.12
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  • 자료 표지
    단결정 제조법, p-n접합 제조법
    을 갖고 있는 금속 박막의 형성 공정을 말한다. 금속박막은 일반적으로 증기화나 스퍼터링과 같은 물리적인 증기 증착 기술에 의해 증착된다.도서MICROELECTRONIC ... 표면의 박막에 가스나 혹은 산과 알칼리 같은 화학 물질을 통해 필요 없는 부분을 제거하고 미세한 회로 패턴을 형성 시켜 주기 위해 가공하는 단계의 공정이다.8 ... (열산화)P-N접합 제조법화학반응을 가속시키기 위해 웨이퍼를 가열하는 과정 중 SiO2 를 형성시키는 공정이다. 건식 O2 나 H2O 와 같이 산소를 포함하는 가스는 대기압에서 관속
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    | 리포트 | 22페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.20
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    [재료공학] 박막 제조법
    들은 기판(substrate)에 축적되어 박막을 형성하게 된다.스퍼터링이 일어나면 타겟에서 2차 전자, 중성의 반사 입자, 음 또는 양이온, 타겟 원자를 포함하는 입자들과 X선 ... 3 박막 제조 방법1) 물리적 증착법물리적 진공증착법이란 고진공 조건에서 화학반응이 일어나지 않는 상태로 단일 금속의 증기상을 피처리물 표면에 코팅시키는 것을 의미하였으나, 최근 ... 에는 진공에서 증발시키는 방법과 이온 스퍼터링에 의해 원자상태로 방출시키는 방법이 있다. 그런데 이온 도금은 이들 두 방법 중 어떤 방법으로 표적재료(증발재료)를 증기상으로 만들
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    | 리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.03.27
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  • 자료 표지
    [열처리] 열처리 온도에 따른 비저항 변화 및 silicide 형성
    1. 실험제목열처리온도에 따른 비저항 변화 및 silicide형성 관찰2. 서론이번 실험도 저번과 마찬가지로 열처리에 따른 박막의 비저항 거동을 파악하는 살험으로 전번의 CVD ... 가 아닌 PVD로 실험을 하였다. pure한 Ag보다 접착력이 우수하고 silicide에 박막을 형성하기 위하여 Si기판에 Ag에 Pd를 첨가한 alloy를 사용하였다. 이로 인한 ... 시키고 있으며, PVD를 일반적으로 진공코팅이라 부른다.고체 재료를 증기상으로 만드는 방법에는 진공에서 증발시키는 방법과 이온 스퍼터링에 의해 원자상태로 방출시키는 방법이 있다. 그런데
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    | 리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.12.15
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2025년 11월 11일 화요일
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