"반도체세척과정"의 검색결과 입니다.

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photolithography ito patterning afm 반도체 ITO Scribing 반도체 공정 반도체공정 실험 리소그래피

"반도체세척과정" 검색결과 261-280 / 665건

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LED 구조의 제작 및 평가 실험

족 화합물 반도체 중에서 현재 다양한 분야에서 널리 응용되고 있는 Cadmium sulfide (CdS) 박막을 용액성장법을 이용하여 형성하고, 이를 이용한 간단한 발광 소자 ... 를 직접 제작하여 봄으로써 반도체 소자의 원리와 특성에 대하여 이해한다.2.이론적 배경1)LED 역사1907년에 발광현상이 발견된 이후, 1923년에 반도체에 전압을 가했을 때, 생기 ... 는 발광 현상을 관측하게 되면서 발전을 거듭하여 왔다. 1950년대에 이르러 Ⅲ-Ⅴ적 화합물 반도체를 이용한 기초 연구가 본격적으로 이루어졌다. 1952년에 Si와 Ge의 이종 접합

리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.12.17

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Cu film의 전기적 특성 분석 실험

Cu film의 전기적 특성 분석 실험1. 실 험 목 적전자제품 (반도체, display)에 전기배선 재료로 사용되는 Al(알루미늄)이 있다. 하지만 최근의 경향이 고집적화, 대 ... 2필름 조각 5개를 만든다.(절단시에는 펜등 날카로운 것으로 조그마한 흠집을 내고 양쪽을 잡고 꺽어 주어 절단)2. 만들어 놓은 sio2필름 조각들을 절단등의 과정에서 오염 ... 되었을 경우를 고려해 아세톤과 D.I(증류수)로 두단계에 걸쳐 세척한다.3. 세척한 sio2필름들을 스포터(PVD)에 넣고 스포터링을 할 구리를 장비에 장착한 후 장비의 뚜껑을 닫고 스

리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2014.04.03

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반도체제조공정

을 절삭 기술을 사용하여 실리콘 단결정봉을 웨이퍼로 바꾸게 된다 . 절삭작업을 거치는 동안 웨이퍼의 가장자리 부분은 매우 날카롭고 깨지기 쉽게 되므로 세척과정을 거친 후 정확 ... . [2]2.1.4. 세척과 검사세척부문에서는 경면연마 과정을 거친 웨이퍼의 표면에 있는 오염물을 제거한다. 이 최신의 공정에서 웨이퍼에 있는 미립자 오염물, 금속, 유기 오염물질을 씻 ... 있는 레이저 검사 장치로 검사를 받는다.대표적인 요염원이 두 가지로 분류되므로 두 오염원을 각각 제거하기 위한 세척 과정 또한 막 오염을 제거하기 위한 화학적 세척과 미립자를 제거

리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.11.09 | 수정일 2014.09.20

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삼성 불산 누출사고,사례보고서

인가? 42. 불산누출 과정에서 삼성의 법적,윤리적 문제 53. 사건은 어떻게 처리되고 있 ... (PPT) 별첨Ⅰ. 사례요약- 2013년 1월 27일 경기도 화성시 삼성전자 반도체 공장에서 맹독성 화학물질인 ... 에서 또다시 일어난 사고인데다 사고가 일어나는 과정에서 윤리적인 문제가 있었고 대응과정이 허술하였다.1. 삼성전자 불산누출 과정상의 문제점1)사고 후 10시간 만의 늑장대응과 현행법

리포트 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.04.08

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화학/물리화학/태양전지

물리화학실험1. 실험일시 : 2010. 4. 30. 금 6,7,8,9교시2. 실험제목 : 나노 태양전지3. 실험원리 :○ 본 실험에서는 반도체 접합을 이용하는 태양전지와는 또 ... 반도체 필름을 재료로 하는 이 태양전지는 광전기화학전지(photoelectrochemical cell)로서, 비교적 최근에 그 가능성이 제시되어 전지의 실용화를 위한 기술적 개발 ... 분자, 그리고 TiO2필름의 동공에 포함된 전해질 용액이 투명한 전도성 유리판 사이에 샌드위치 된 구조를 가지고 있다○이 전지는 염료 분자에 의한 반도체의 감광화를 이용하는 것

리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.04.21

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CdS : Cu/CdS 동종접합박막 구조를 이용한 light emitting diode(LED) 구조의 제작 및 특성평가

CdS : Cu/CdS 동종접합박막 구조를 이용한 light emitting diode(LED) 구조의 제작 및 특성평가1. 실험목적Ⅱ-Ⅵ 족 화합물 반도체는 가시광선 영역 ... 화되는데 문제점으로 제기되고 있다.이번 실험에서는 Ⅱ-Ⅵ 족 화합물 반도체 중에서 현재 다양한 분야에 응용되고 있는 CdS(Cadmium sulfide) 박막을 용액성장법을 이용 ... 하여 형성하고, 이를 이용한 간단한 발광소자를 직접 제작하여 봄으로써 반도체 소자의 원리와 특성에 대하여 이해한다.2. 이론적 배경1)LED의 개념LED(Light-Emitting

리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.04.12

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지역사회간호학 건강관리 케이스(산업간호)

에서 이소프로필 올코올을 세척용으로 사용하고 있으나 , 작업이 비교적 넓은 작업공간에서 간헐적으로 이루어지는 조건.PM1팀 2Part소음MLS공정에서 일부 장비를 시험하는 과정에서 소음 ... ,114국가산업단지소계40.91,44694,3611단지10.21969~197384632,364전기전가 기계, 섬유2단지2.31977~19819516,836통신장비 반도체3단지5 ... 을 심시하며 그 과정에서 납 흄이 발생되고, 작업이 비교적 넓은 작업공간에서 간헐적으로 이루어지는 조건.PM1팀 2Part주석(금속)펜슬형 인두기를 사용해 납땜작업을 심시하며 그 과정

리포트 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2015.04.16

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반도체공정-유전체증착

반도체 제조공정웨이퍼 제조 및 회로설계 - 웨이퍼 제조 모래로부터 고순도 단결정 실리콘 웨이퍼를 만들어 내는 과정 - 회로설계 웨이퍼상에 구현될 전자회로를 설계하는 과정① 단결정 ... 반도체 공정 – 유전체 증착목 차 1. 반도체제조공정 - 박막증착 2 . 박막증착방법 - 물리증착 (PVD) - 화학증착 (CVD) 3 . 박막증착과 박막의 특성 - 유전체증착 ... 를 구성해 나가 는 전과정 , 죽여서 FAB 이라고 한다 .웨이퍼 가공 (Fabrication) ⑥산화공정 고온 (800~1200℃) 에서 산소나 수증기를 실리콘 웨이퍼 표면과 화학

리포트 | 26페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.05.19

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스퍼터링

, 진공 스퍼터링 장치, 초음파 세척기, 저항기, 시편세척도구 (비이커, 집게, 아세톤, 에탄올, 증류수 등), 페트리 디시, 진공테이프 등4. 실험 과정①글라스세척용 세제를 이용 ... 스퍼터링 (sputtering)-결과 보고서-목차1.실험목적2.기초이론 및 원리3.준비 기구 및 장치4.실험과정5.실험결과6.토의 및 고찰7.인용 및 참고문헌1. 실험 목적 ... 스퍼터링은 박막 태양전지 외에도 반도체, LCD, 유기EL등의 평판 디스플레이, CD, HD, MD 등의 각종 기록매체, 휴대폰, 정밀, optic lens, 장식 내마모 내식성 기능막

리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.11.16

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환경생물학 수강중에 오존(ozone)에 대한 레포트

해 버린다. CFC는 반도체와 전자부품 제조외에 카메라 렌즈 등 각종 정밀 부품을 만들 때도 필요 불가결한 세척제로 쓰인다. 이 같은 세척제 또는 세정제로써의 역할은 현재로선 지구 ... . 이 과정에서 CFC에 들어있던 염소 분자의 핵이 분리돼 나와 오존 분자들을 공격하기 시작한다. 염소 분자의 핵은 오존 분자를 다시 쪼개고, 쪼개진 오존 분자들은 새로운 오존 ... 의 물질을 갖고 날아간다. 이것은 곧 각종 불순물을 없애주는 특성을 갖는 것을 의미한다. CFC는 모든 불순물을 제거함과 동시에 반도체 표면에 아무런 흔적을 남기지 않고 증발

리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.04.06

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연잎효과를 이용한 나노기술사례

목차 1. 서론 1-1 Townwatching 을 통한 문제 발견 1-2 원리를 새롭게 적용할 사례들 1- 3 최종 결정 안 제시 2. 문제해결 과정 2-1 수도배관의 특성 ... 하게 유지 됨주제 선정 과정 결과 평가항목설정 평가항목 간의 가중치 설정 설정한 가중치를 이용하여 타운워칭 항목들에 대한 2 안 비교법 시행 2 안 비교법을 통하여 연잎효과를 최종 ... 을 보완 할 수 있다 . 청결 이 중시되는 식기류 등에 이용하여 요리 , 세척이 용이하도록 할 수 있다 .연잎 효과를 적용한 사례 스마트 폰 나노 코팅 기술을 통한 방수 효과 우천시

리포트 | 31페이지 | 3,000원 | 등록일 2014.06.08 | 수정일 2015.12.06

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하이닉스

의 칩 - 9kg 화학물질 필요 그렇다면, 어느공정에서 어떤물질 ? (반도체 공정 주요 유독물질과 유해성)세척 연마사진, 식각이온주입,확산증착,세정유독물질불화 수소아세테이드 ... ㈜하이닉스기업소개 경쟁사분석 3. 산업분석 – 5Force model,이해관계자 4. 제품분석 5. 반도체의 LCA 6. 전략분석 – STP, 4P분석 7. 추천전략1. 기업소개 ... 기업 선정상호명 : ㈜하이닉스반도체 설립일 : 1983년 2월(구 현대전자산업주식회사) 업종 :반도체소자 제조 및 판매업 총자산 :16조 3,035억 원 자본 :5조 9,193억

리포트 | 77페이지 | 5,000원 | 등록일 2012.04.02

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thin file공정

를 형성하는 일련의 과정을 말한다.Thin film deposition이라 함은 증착하고자 하는 물질(metal, dielectric, insulator, polymer 등)을 수십 ... ~수천 두께로 특정 기판 상에 올리는 일련의 과정을 지칭하며 이러한 방법으로는 Thermal evaporation, E-beam evaporation, Sputtering, CVD ... 식각 기술을 이용하여 deposition되어 있는 film을 미세 회로 형상으로 구현하는 일련의 과정을 뜻한다. 이 외에 부가적인 공정으로는 plating(도금), dicing

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.12.04

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고상 이종 계면에서 계면반응 생성물의 성장거동 분석 예비보고서

을 분석하기 위한 시편준비 과정 및 분석 기법의 습득2. 실험 예비 문제1) 다음 용어를 간략하게 설명하시오.(a) electronic packaging- 전자패키지 ... - CSP는 칩 크기와 동일하거나 약간 큰 반도체를 총칭하는 것으로 주로 휴대전화와 개인정보단말기, 노트북 등에 사용되며 급속하게 보급되고 있는 초박형·경량·초소형 반도체이다.(c ... 에 따라 세척과 무세척을 선택하여 사용할 수 있는 Rosin계 flux와 부식성이 있어 세척공정이 필요한 수용성계 flux가 있다. flux는 여러 가지의 성질을 갖는데 먼저 솔더

리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.09.28

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DSSC최종결과보고서

결과3. 고 찰참고 문헌1. 실습 과정① 실습에 필요한 재료 및 기구를 준비한다.(FTO Glass, 드릴 머신, 세정제, 초음파 세척기, 오븐, 로, Solar Simulator ... DSSC(Cell 제작)- 결과 보고서 -과 목재료공학실습Ⅱ분 반1 분반담당교수김상호 교수님학 과신소재공학과학 번2005171032이 름임 언 호목 차1. 실습 과정2. 실습 ... )② Counter E가 될 Glass에 드릴을 이용하여 구멍을 두 개 뚫는다.③ 세척제와 칫솔을 이용하여 FTO Glass를 약 10분간 세척한다.세척된 FTO Glass를 아세톤, 에탄올

리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.12.25

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냉동장치에 필요한 냉매에 대한 레포트

볼 수 있는 냉장고나 에어컨의 작동매체로 사용하고 있을 뿐만 아니라 반도체 제조와 같은 정밀제조공정의 세척제로도 다량 사용하고 있으며 프레온의 냉매특성이 대단히 우수하기 때문 ... 압축기로 흡입되어 위의 과정을 반복하여 연속적으로 냉동효과를 나타냄으로써 냉동사이클을 이루게 된다.냉동장치는 냉매에 의하여 작용하는 압력에 따라 압축기와 팽창밸브를 경계로 하 ... , 응축기, 수액기로 구성되어 있으며, 냉매가 응축기에서 응축되는 높은 압력으로 유지 되고 있다.열역학적 과정(Thermodynamic processes)* 냉동사이클은 냉매

리포트 | 6페이지 | 10,000원 | 등록일 2014.01.01 | 수정일 2023.05.01

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OCI 면접자료 (인성면접 대비 및 기출문제, 기업분석)

다. - 환류비를 늘리고, 컬럼의 상태를 점검하겠습니다. 또한 제품 탱크에는 이물질이 없는지 확인하고, 이물질이 있다면 세척작업을 실시하겠습니다.캐비테이션열전달 및 분리공정 ... 습니다.먼저 화공기사 자격증을 공부하면서 전공지식을 발전시켰고, 이 과정에서 공정에서 발생할 수 있는 기술적 문제의 원인과 해결방법을 배웠습니다.또한 아민 스위트닝 공정을 실제로 설계해보 ... 과 노하우를 바탕으로, 폴리실리콘 같은 신규 사업에서 보다 빠르게 선도적 위치를 확보해 왔습니다. 당사는 태양광과 반도체 산업에 필요한 순도 10N 과 11N 수준의 폴리실리콘을 상업

자기소개서 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2017.05.09

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나노기술(NT)의 의의, 나노기술(NT)의 분야, 나노기술(NT)의 전략적 육성, 나노기술(NT)의 수준과 경쟁력,가능성, 나노기술(NT) 응용, 나노기술(NT)과 나노바이오기술

적인 데이터를 확인하기 힘든 단점이 있다. 뿐만 아니라 실험에 이용하기 위한 세포 배양 과정 세포 고정(fixation), 용해(lysis), 세척(washing) 및 염색(s ... 는 있으나 전세계적으로 개발 초기단계이므로 우리의 역량을 집중한다면 선진국과 경쟁이 가능한 분야○ 학제간 연구영역에 속하는 태동기술로서 세계수준의 반도체 생산기술력과 소재분야 ... 의 양성을 위해 學際的 전공과정을 지원- Post-doc, 中堅科學者를 해외 유수대학?기관에 파견(향후 10년간 각 50명)4. 효율적인 연구기반 구축1) 나노기술 핵심연구장비를 산?학

리포트 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2013.03.29

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하이닉스

Ⅰ. 기업소개 : 하이닉스기업개요그림 SEQ 그림 \* ARABIC 1○ D램과 낸드플래시와 같은 메모리 반도체 제품을 기반으로 성장○ 핵심 사업 분야에서 확고한 경쟁우위를 확보 ... , 시장 변화에 따른 마케팅과 R&D 중심의 미래 역량을 확충해 나가고 있다.○ 세계 최대 반도체 시장인 중국을 비롯한 여러 시장에서 선도적인 기업○ 재무구조 개선 및 체계적 위험 ... - 국제적인 종합 반도체 전문기업으로서의 첨단적인 기술성과 함께 미래지향적인 기업 의지를 반영.- COLOR : Orange Color: 젊은 기업, 신선한 기업. 고객에게 더욱

리포트 | 52페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.04.09

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포토리소그라피,phothlithography

PHOTOLITHOGRAPHY목 차PHOTOLITHOGRAPHY 란? PHOTORESIST의 정의 PHOTOLITHOGRAPHY 제작과정PHOTOLITHOGRAPHY 란 ... 이나 Micron 이하의 미세형상 구현이 요구되는 재료이다. 반도체, LCD, 인쇄 분야, 인쇄 회로기판분야 및 정밀 가공 금속 제품이나 유리 제품의 제 조 등 산업 전반에 널리 이용 ... 된다. 반도체 또는 LCD 제조공정에서의 Photo Resist는 빛에너지에 의해 분해 또는 가교 등이 일어나 그 용해 특성이 변화하는 물질 Photo Resist 위에 원하

리포트 | 21페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.11.29

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