"박막 공정"의 검색결과 입니다.

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"박막 공정" 검색결과 241-260 / 3,383건

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[자기소개서] SK 하이닉스 수시채용(2018) 연구개발

1개(HFCVD)를 동시에 가동하여 이른 시일 내에 만들어낸 경험이 있습니다.제가 연구하고 있었던 c-BN 박막은 게면접합성을 위하여 Si 기판 위에 나노결정질의 다이아몬드 ... 이 넘어가는 조건들이라 저희 HFCVD 장비 1개로는 박사님 시편을 제작하면 c-BN 박막을 위한 buffer layer 용 다이아몬드 박막은 제작할 수 없는 상황이었습니다. 저는 필요 ... 한 시편들을 단기간 내에 동시에 양산하자는 목표를 세우고, 다른 팀의 HFCVD 장비를 빈 시간에 사용할 수 있는지 동의를 구하여 각각의 공정 조건들을 정리하여 증착 계획을 짜

자기소개서 | 8페이지 | 3,000원 | 등록일 2022.02.27 | 수정일 2022.03.01

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반도체 정리

으로, 금속 박막을 증착하고 패터닝하여 전극 또는 배선으로 사용하는 공정이다전 단계 공정은(Front End Of Line, EFOL) 웨이퍼 투입부터 트랜지스터가 만들어지는 공정 단계 ... 은 온도(1414도)의 녹는점과 고순도의 불순물 정제 기술의 발달로, 상대적으로 저가이면서 고품질의 웨이퍼를 생산할 수 있다.실리콘 산화막은 공정 과정에서 발생하는 불순물로부터 실리콘 ... 게 변동되지 않는 인자이다. 두 번째 항은 게이트 산화막 성장 시 발생될 수 있는 유동성 이온 전하 등의 각종 원치 않는 전하로 인한 인자로서 현재의 반도체 공정에서는 그 양

리포트 | 18페이지 | 2,500원 | 등록일 2020.11.06

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전기공학머신러닝 실험 9. 집적회로 소자 공정 실험(마이크로히터 설계) 예비보고서

전기공학머신러닝예비레포트담당교수:학과:학번:이름:목차실험 명2실험 개요2이론 조사2실험 기기4예비보고서4실험 순서5참고 문헌6실험명실험 9. 집적회로 소자 공정 실험(마이크로히터 ... Figure \* ARABIC 1. 그림 14-point probe는 반도체에서 절연체 위에 형성된 금속 박막의 resistivity을 측정하는데 가장 널리 사용되는 방법으로 특별한 c ... factor는 다음과 같은 값으로 알려져 있다. Correction factor는 sample size와 박막의 두께, 측정 시 temperature까지 3가지 계수를 이용하여 산출

리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2025.02.09

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반도체 실무면접 대비_반도체 공정 기초

Thin Film(Deposition)박막 증착시 TEOS분자나 SiH4분자를 사용하는 이유?SiO2와 SiN 박막 특성 비교Sputtering의 원리Dry Etching 설비 ... Bosch PorcessIsolation 방법에 대해 LOCOS 공정과 STI공정의 차이점Mask Alignment 중요성HMDSImmersion Lithography의 원리, 활용

자기소개서 | 72페이지 | 3,000원 | 등록일 2022.12.16

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고려대학교 일반대학원 반도체공학과 연구계획서

연구계획서저는 고려대학교 대학원 반도체공학과 연구실에 진학을 한 다음에 SrBi₂Ta₂O9 강유전체 박막의 전류-전압 특성 연구, 금속배선 칩 집적공정을 포함하는 질화물 반도체 ... 발광층에 의한 여기자의 분산특성 조사 연구, 소금 유도 상 분리 및 주변 공비 증발 공정을 통해 제조된 펙틴 나노다공성 구조 연구 등을 하고 싶습니다.저는 또한 3차원 신호 별 ... 연구, 이중 Viterbi 복호기를 가지는 반율 공간-주파수 부호화된 직교 주파수분할다중화 연구, 용액공정을 통한 강유전체 기반 저전압 구동 전계효과 트랜지스터에 관한 연구 등을 하

자기소개서 | 1페이지 | 3,800원 | 등록일 2025.03.29

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2024년도 하반기 삼성전자 반도체 공정기술 PT 면접 예상 주제 5선과 답변 (시리즈 I)

은 화학 기상 증착 공정으로, 기체 상태의 화합물을 반응시켜 고체 박막을 형성하는 기술입니다. 이 공정은 반도체 제조에서 중요한 역할을 합니다.1.2. CVD 공정의 중요성CVD 공정 ... [제1문항] CVD 공정: Chemical Vapor Deposition의 정의, 응용, 장점 및 단점에 대하여 PT하시오. 1. 서론1.1. CVD 공정의 정의CVD 공정 ... Ultraviolet)을 이용한 리소그래피 기술로, 반도체 제조 공정에서 미세한 패턴을 형성하는 데 사용됩니다.1.2. EUV 리소그래피의 중요성EUV 리소그래피는 반도체 소자

자기소개서 | 10페이지 | 4,000원 | 등록일 2024.10.08

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이화여자대학교 일반대학원 융합전자반도체공학부 학업계획서

서 반도체 쪽 공부를 하고 싶다고 생각했기 때문입니다. 2.전공분야에 대한 연구계획 저는 이화여자대학교 대학원 융합전자반도체공학부에 진학한 다음에 평면표시기용 전온공정 다결정실리콘 ... 박막트랜지스터의 제조 및 특성 연구, 열전도율이 높은 수직 정렬 Zn2SnO4-Fe3O4 코어-쉘 마이크로스피어 기반 열 인터페이스 소재 연구, 피부 인터페이스 햅틱 시스템에 적용 ... 에 따른 전하 이동 특성 비교 연구, 강유전성 전계 효과 트랜지스터 시냅스 장치 하프늄-실리케이트 중간층 연구, 비정질 산화물 반도체 IZO, IZO:Sn 박막의 열전 특성에 관한

자기소개서 | 1페이지 | 3,800원 | 등록일 2024.06.29

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주성엔지니어링 기업분석

디스플레이 공정과 유사한 하드웨어사업부문 LED 공정장비 에피박막성장 구현 장치VP=f(E,R,I,S) E : Entrepreneur R : Resource I : Industry S ... 사업부문 반도체 공정장비 특정 공정 세계 시장 점유율 1 위사업부문 디스플레이 공정장비 - 경쟁사 대비 20% 높은 생산성 - 세계 일류 상품 선정사업부문 태양전지 공정장비 ... ERIS 모델E R IS(Resource ) 반도체 , LCD, 태양광박막장치 장비 분야의 축적 기술 태양전지 · 반도체 장비 세계 최고핵심 1,500 건 특허 보유 주성 ERIS

리포트 | 21페이지 | 1,500원 | 등록일 2021.06.21

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자기소개서_SK하이닉스 공정기술 직무

차원 박막인 MoS2 제작을 위해 Sputtering 공정을 진행하였습니다.[품질 향상을 위한 다양한 접근]창의적 설계 및 과제의 일환으로 7개월간 발광 유기물 소자를 제작 ... Evaporation 공정에서 급격히 높은 속도로 박막을 증착하여 소자가 처분된 적이 있습니다. 이를 통해 작은 방심이 큰 영향을 미칠 수 있다는 경각심을 가지게 되었고 엔지니어가 되기 위해 매 순간 신중하게 임하는 계기가 되었습니다. ... 있게 합니다. 대학교 3학년, FABRICATION 실험을 통해 문제 개선뿐만 아니라 공정 효율까지 향상하는 데 성공하였습니다. 이러한 경험으로 ‘당연함’에 얽매이지 않고 기본

자기소개서 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.09.10 | 수정일 2025.08.18

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연세대학교 일반대학원 광과학공학과 학업계획서

, 표면과학, 신소재공학과 수업인 재료물리학까지 수강을 했던 바가 있습니다. 렌즈 코팅과 관련해서는 다층 박막 간섭 구조를 이용한 초저반사 코팅 설계 연구 등의 프로젝트에 참가를 한 ... 에 가까운 나노구조(메타표면)를 이용해 넓은 대역·넓은 입사각에서 뛰어난 저반사 성능을 구현하는 연구, 복잡 3D 형상과 초박막 정밀 제어 연구 등을 많이 하고 계시기 때문에 석사 ... 표면 정밀 연마 공정 개선 연구, 친수성/소수성 기능을 동시에 갖는 반사저감 표면 연구, 알루미늄 산화막(Al₂O₃) 및 실리콘 산화막(SiO₂) 기반 다층 코팅 연구, 저온 증착

자기소개서 | 2페이지 | 3,800원 | 등록일 2025.09.18

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전기공학머신러닝 실험 10-1. 직접회로 소자 공정 미세 분석법(1) 예비보고서

전기공학머신러닝예비레포트담당교수:학과:학번:이름:목차실험 명2실험 개요2이론 조사2실험 기기5예비보고서5참고 문헌6실험명실험 10-1. 직접회로 소자 공정 미세 분석법(1)실험 ... 개요직접회로의 공정 및 재료분석법에 있어서 대표적인 미세 분석법 (microstructure analysis)에 대한 원리를 이해하고자 한다. 대표적인 미세분석법인 XRD분석 및 ... 의 미세 구조 및 두께 등의 육안으로 파악할 수 있는 분석법을 익히며, 이를 통해 실제 직접회로 소자 공정 및 분석에 있어서의 마이크로/나노 스케일의 분석에 대한 이해 및 응용을 가능

리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2025.02.09

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한국에너지공단 합격 자기소개서

해 주시기 바랍니다.[1000자 이내][수행업무]한솔케미칼 박막재료사업팀 생산관리직무를 수행하면서 다양한 업무들을 경험하였습니다. 가장 기본이 되는 업무였던 생산계획수립과 함께 ... 생산 트러블 감소 및 제품 수율 향상을 위한 양산플랜트관리, 신규 증설 플랜트 가동 허가를 위한 공정안전보고서 및 장외영향평가보고서 작성, 원단위관리 및 생산계획 추정, 제품 충 ... 플랜트 공정설계 프로젝트를 부여받으면서 공정컨셉선정, 도면작업, 방폭고려, 설비 및 장치 선정 등 화학공정 설계와 관련한 모든 작업들에 참여해본 경험도 있습니다.[안전업무 및 환경업무

자기소개서 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2024.11.23

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동진쎄미켐 연구개발 자기소개서

로, 학부 4학년 때 진행한 고분자 박막 코팅재 개발 프로젝트를 들 수 있습니다. 이 프로젝트는 박막의 내열성과 물리적 안정성을 개선하여 고온 환경에서도 안정적으로 작동할 수 있 ... 는 소재를 개발하는 것이 목표였습니다. 초기 실험 단계에서는 박막이 특정 온도에서 쉽게 변형되는 문제가 발생하였습니다. 원인을 파악하기 위해 기존의 논문과 자료를 철저히 분석 ... 를 제어할 수 있었습니다. 그 결과, 박막의 내열성을 20% 이상 향상시키는 데 성공하였으며, 이 연구 결과는 학부 연구발표회에서 우수 연구로 선정되었습니다.이 과정에서 저는 단순히

자기소개서 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2025.01.26

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폐태양광패널 재활용기술과 시장 및 정책동향

한다. e chain)이 된 것으로 간주하고 있다.박막 태양광 모듈은 결정질 Si모듈과 달리, 일반적인 전기전자제품 재활용기술과 흡사한 공정으로 진행된다. 태양광 모듈은 유리의 무게비율 ... 약 98%로 대부분을 차지하고 있어, 2%밖에 안되는 고가의 반도체 소재를 선택적 침출시킨 후 재석출시키는 공정적용이 용이하다. [그림 4]에서와 같이 박막 모듈제품을 먼저 2회 ... 가 있고, 마이크로웨이브 기술은 불균일한 온도분포로 인해 셀이 파손되는 문제 등이 있다.[그림 3] FRELP 프로젝트 공정도회수한 셀은 다단계의 화학적 처리를 통하여 최종 고순도

리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2020.12.07

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에프에스티 기업 분석 자료

(Chiller)매출비중 : 57%반도체, 디스플레이 공정에서 필요로 하는 Chamber 내의 Process 온도 / Wafer의 주변온도 일정하게 유지하는 장치? 국내 경쟁사 ... 는 박막사용목적1. 반도체 제품 수율 향상2. 포토마스크 사용 수명, 세정 주기 연장3. 오염 및 오염원으로부터 격리국내에서 당사만이 유일하게 제조→ 현재 내수시장 점유율 : 약 80 ... %향후 긍정적인 기조1. 국내 반도체 업체들의 비메모리 부문 투자 확대 / 증설2. 최근 대만, 미국, 일본 등 비메모리 반도체 선진국으로부터 공급의뢰3. 공정의 미세화 기조

리포트 | 7페이지 | 3,500원 | 등록일 2022.06.14

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서울대학교 일반대학원 재료공학부 연구계획서

재료응용물성, 디스플레이소재및공정, 고분자전자재료, 반도체공정, 복합재료, 광소재및소자, 전자재료공정, 전자기학, 전자재료, 고분자재료합성, 고분자재료분석, 박막공학, 재료기계물 ... 1. 석사 박사 진학시 희망 연구분야 및 계획저는 서울대학교 재료공학부 OOO 교수님의 OOOOOO OOOO 연구실에 들어가서 Biomimetic 공정에 의해 티타늄 기판에 형성 ... Glass 전자 재료 문자의 구조 및 특성 분석 연구, SBT(SrBi2Ta2O9) 박막에서 Bi2O3 버퍼층의 다양한 기판 온도 효과 연구, 다양한 post-annealing에 따른

자기소개서 | 2페이지 | 3,800원 | 등록일 2023.04.02

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반도체 8대 공정 제조기술 및 프로세스에 대한 자료

의 8 대 공정도 순서 Wafer 제조 공정 Oxidation 산화공정 Photo Lithography 공정 Etching 식각 공정 Deposition 박막 / 증착 공정 ... 반도체 8 대 공정 제조 기술 및 프로세스 Index 1 반도체 8 대 제조 공정 2 웨이퍼 동도금 국내 업체 3 참고 문헌 CH1. 반도체 8 대 제조 공정 - 반도체 제조 ... Metalliztion 금속배선공정 EDS (Electrical Die Sorting) Packaging 패키징 Si 로부터 웨이퍼 형성 산화막으로 웨이퍼 보호 PR 을 이용한 회로 생성

리포트 | 33페이지 | 1,000원 | 등록일 2021.12.09 | 수정일 2021.12.13

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Thermal Process, 열공정, 반도체 공정 정리 레포트

을 가진 단일 웨이퍼 냉벽 처리실에서 수행되는 열 CVD 공정이다. 단일 웨이퍼 시스템이기 때문에 박막 증착을 1 ~ 2분 이내에 완료할 수 있을 정도로 증착 속도가 높아야 시간 ... 공정에서 증착된 박막의 두께도 감소하는데, 일반적으로 100에서 2000 Å으로 감소한다. 증착 속도가 100 ~ 1000 Å/min인 경우 단일 웨이퍼 RTCVD 처리는 FEoL ... 박막 증착에 더 매력적으로 된다.RTCVD 처리는 얕은 트렌치 격리 공정에서 트렌치 충전에 사용되는 CVD 산화물과 같은 폴리 실리콘, 실리콘 질화물 및 이산화규소를 증착하는 데

리포트 | 25페이지 | 2,500원 | 등록일 2021.02.09

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KTL 한국산업기술시험원(환경) 합격자기소개서

본인의 역할, 주요성과등 서술 (3000자)[수행업무]한솔케미칼 재직당시, 박막재료팀이라는 신규부서에서 생산관리 분야로 근무했기 때문에 생산 분야 외적으로 품질/분석, 환경 ... , 안전 등 다양한 분야의 업무를 수행해볼 기회가 많았습니다. 가장 주된 업무였던 생산계획수립 및 양산플랜트관리를 시작으로 신규 증설 플랜트 가동 허가를 위한 공정안전보고서 및 장외영향 ... 한 경험이 있습니다. 박막재료 제품의 생산 특성상 주로 유기계의 가스상/입자상 대기오염물질들이 많이 발생하였기 때문에 이를 제어하기 위한 heat-wet scrubber, wet s

자기소개서 | 5페이지 | 3,000원 | 등록일 2024.11.23

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집적회로 소자 공정, 반도체 소자 제작 공정 실험 결과보고서

전자회로응용 및 물성실험결과보고서전기공학과 2017732038실험 회차: 9실험 명: 집적회로 소자 공정, 반도체 소자 제작 공정 실험실험 9 집적회로 소자 공정, 반도체 소자 ... 제작 공정 실험I. 개요면 저항(sheet resistance)의 개념을 이해하고 4 point probe를 통해 면 저항의 측정 및 이를 이용한 저항의 설계에 대해 이해 ... 하고자 한다.반도체 소자 제작을 위한 용액 공정, 기상 증착(Vapor deposition), 노광 공정(photolithography) 등의 공정기법들을 살펴본다

리포트 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.09.25 | 수정일 2021.09.28

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