Evaporation으로 제조된 Al박막의 두께 및 비저항 측정과 미세조직 관찰 실험

소개

Evaporation으로 제조된 Al박막의 두께 및 비저항 측정과 미세조직 관찰 실험

목차

1. 실험관련이론
- 이 실험을 하게 된 목적
- 이 실험의 내용이 사용되는 응용 분야
- 이 실험을 하게 된 이론적인 배경

2. 실험방법
- 실험에 사용된 재료
- 실험에 사용된 재료와 공정 및 측정에 사용된 장비
- 실험방법 및 공정 조건

3. 결과
- 각 조의 sample로부터 박막 두께와 면저항 측정
- 각 조에서 측정한 면저항을 이용하여 비저항 계산

4. 고찰
- 각도에 따른 면저항 데이터 분석
- Al장입량과 박막두께의 관계
- 전류와 비저항과의 관계
- 2조 Tilt 사진과 6조 Tilt 사진 비교 분석
- Fig 3-1에서 측정값이 예측을 벗어난 이유
(의심되는 원인들을 지적하고 그 이유를 설명)

5. 결론 및 제안
- 실험으로부터 얻은 결론
- 보다 나은 실험을 위한 제안

본문내용

1. 실험관련 이론
(1) 이 실험을 하게 된 목적
반도체 재료로서 실리콘의 장점 중 하나는 산화 실리콘(SiO2)을 형성하기 쉽다는 점이다. 산화층은 반도체 소자제조에 있어서 표면보호, 확산 마스킹, 유전체의 역할 등 주요 기능을 하는 절연체이다. 전극재료인 Al을 Evaporation을 이용하여 박막 층을 형성하면 소자는 전도체가 되어 전류가 흐를 수 있다. 이번실험에서는 Evaporation 공정을 통하여 공정조건에 따른 Al박막 두께와 면저항을 측정하고, 측정한 데이터를 이용하여 비저항을 계산하고, 미세조직 사진을 분석한다.

(2) 이 실험의 내용이 사용되는 응용 분야
① 전기전자 특성 이용 (전도체, 절연체, 반도체)
＊반도체, 디스플레이
＊센서, 의료기기
② 자기 및 광학적 성질 이용
＊컴퓨터 및 하드디스크
＊광학 데이터 저장매체 (CD, DVD)
＊광학장치(무반사 코팅, 고반사 코팅)
③ 포장 및 보호용, 색상의 이용
＊가전, 정보통신 제품(핸드폰 등)
④ 경도 및 내마모성
＊절삭공구의 고경도 코팅
＊우주항공, 군사, 발전용 내열/내마모성 코팅
＊스포츠가구, 오디오

(3) 이 실험을 하게 된 이론적인 배경
‘박막(薄膜)’이란 모재 혹은 기질의 표면에 형성시킨 매우 미세한 두께를 가지는 층으로서 일반적으로 두께가 수십Å~수㎛의 범위를 말한다. 이들 박막을 특정한 용도로 응용하기 위해서는 박막의 두께, 조성, 조도 및 기타 물리적·광학적인 특성을 알 필요가 있다. 특히 최근에는 반도체 소자의 집적도를 높이기 위해 기판 위에 형성되는 박막을 더 얇고, 다층화 되는 추세이다. 이러한 고집적 반도체 소자를 개발하기 위해서는 특성에 커다란 영향을 주는 인자인 박막의 두께를 포함한 막의 물성을 정확하게 제어해야 한다.

참고자료

· Physical Vapor Deposition of thin films, Wiley