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대면적 OLED 기술

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최초등록일 2018.10.13 최종저작일 2018.10
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대면적 OLED 기술
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    목차

    1. 대면적 OLED 기술
    1-1. 대면적 OLED 기술 현황 및 전망
    1) 서 론
    2) 대면적 화소형성 기술의 정의
    3) Fine Metal Mask (FMM) 법
    4) 대면적 레이저 인쇄법
    5) 대면적 용액기반 RGB 인쇄법
    6) White OLED + Color Filter 형성기술
    7) 결 론

    본문내용

    1-1. 대면적 OLED 기술 현황 및 전망

    1) 서 론
    최근 OLED 디스플레이는 LCD에 비해 자발광, 저소비전력, 뛰어난 시인성 등의 우수한 특성을 인정받아 차세대 디스플레이로 각광을 받고 있으며 그리고 고효율, 친환경, 우수한 디자인성을 바탕으로 조명시장에서도 큰 주목을 받고 있다. 현재 디스플레이 분야는 수동형 구동방식(passive matrix)을 적용한 패널기술에서 발전하여, 삼성 SDI와 LG 디스플레이가 2인치, 2.2인치 능동형 구동방식 AM(active matrix) OLED를 양산하고 일본의 Sony가 11인치 AMOLED TV를 판매하면서 세계적으로 OLED 산업을 부각시키고 있다. 그리고 올해에는 미국에서 열린 SID에서 삼성 SDI가 31인치 AMOLED TV를 제작하여 LCD와 경쟁할 수 있는 가능성을 보여주고 있다.
    앞으로 OLED가 LCD와의 경쟁에서 이기기 위해서는, 소자의 특성도 중요하지만, 소형패널의 양산에 안주하지 않고, 중형 및 대형까지 양산할 수 있는 대면적 OLED 양산기술 개발이 무엇보다도 중요하다. 현재까지의 LCD 산업을 보면, 90년초 1세대 기판(300 × 350 mm)에서 LCD패널 양산을 성공한 이후 현재에는 52인치 6장을 한번에 만들 수 있는 8세대 기판(2500 × 2200 mm2)까지 성장하였다. 기판크기의 증가는 생산량을 늘릴 수 있고, 제품을 단가를 낮출 수 있기 때문에 시장에 빠르게 확산할 수 있는 기반을 조성하였다. 기판크기의 증가는 단순히 기판 크기만 증가한 것이 아니라, 기판 크기에 맞는 LCD 소재, 공정 및 장비 기술의 개발 및 발전이 선행되었기 때문에 가능한 일이었다. 이와 같이 OLED 디스플레이도 기판대형화를 위한 여러 가지 기술이 선행되어 개발이 이루어져야 한다. 현재 대형화의 가장 어려운 기술은 OLED용 TFT(Thin Film Transistor) 기술의 개발과 대면적 OLED 화소형성 기술의 개발 부분이다.

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