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XPS 실험

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최초 등록일
2011.05.06
최종 저작일
2010.03
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XPS기기에 대한 설명

목차

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본문내용

X-ray Photoelectron Spectrometer (XPS)
1. 실험목적
X-ray Photoelectron Spectrometer (XPS)의 원리 및 응용분야에 대하여 이해하고 XPS를 이용한 반도체 소재, 박막, 금속, 화합물, 유리, 촉매, 고분자 및 나노 소재 등의 표면 및 계면 특성분석에 대한 실험 실습을 통한 표면분석기법을 이해하고자 한다.
2. 서론
최근 신물질이 개발되면서 표면분석에 대한 관심이 고조되고 있는 이유로는 물질의 표면이 외부와 항상 접하고 있으므로 화학적, 물리적인 반응이 내부보다 먼저 일어나는 곳이기 때문이다. 표면분석이란 금속같이 단단한 물질의 경우 표면에서부터 20Å 유기물이나 고분자물질의 경우 100Å 정도의 깊이까지 표면과 계면의 구성원소 및 화학적 결합상태, 에너지 준위 등을 알아내는 기술로서 모든 첨단재료의 연구에 중요한 역할을 하는 분석방법이다.
표면분석 방법 중 가장 널리 사용되는 방법은 X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS), Auger electron Spectroscopy (AES) 및 Secondary Ion Mass Spectroscopy (SIMS)이다. 이 세가지 분석 방법 중에서 AES와 SIMS의 경우는 절연체 물질에 대해서는 분석이 어려우며 XPS만이 가능하다. 따라서 본 논문에서는 표면분석 방법 중에서 표면의 화학결합상태와 원소분석이 가능한 XPS를 이용하여 차단기의 화재 부위별로 분석을 하였으며 아래에 원리와 응용에 대해서 기술하였다. 전자분광 화학 분석법(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis : ESCA)은 20여년전까지만 해도 화학분야보다는 물리학이나 금속재료과학의 연구에 많이 활용되었다.

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