ZrVFe 다공체 표면오염층의 UVO3 크리닝 공정 (Cleaning of surface contamination layer of porous ZrVFe with UVO3 process)

서지정보

· 발행기관 : 한국산학기술학회
· 수록지 정보 : 한국산학기술학회논문지 / 23권 / 1호 / 740 ~ 746페이지
· 저자명 : 김광배, 김호준, 진새라, 임예솔, 이현준, 김성훈, 노윤영, 송오성

초록

고순도 H2 정제용 ZrVFe 합금을 대기 중에 상온으로 보관시 발생하는 표면부의 오염을 제거하기 위한 전처리 공정으로, UVO3 크리닝 공정을 제안하였다. 보관 60일까지 시간에 따른 표면부 오염에 의한 물성 변화를 optical microscopy, micro-Raman, XRD 방법으로 확인하고, UVO3 크리닝 공정 전후 물성을 비교하였다. 상온 보관 시간에 따라 준비된 시료와 이들을 UVO3 공정으로 처리한 뒤 표면부에 VOx, FeVOx와 같은 Oxide계 오염물의 형성과 카본계 물질의 흡착 오염 정도에 따른 물성 변화는 광학현미경 이미지와 XRD로 확인할 수는 없었지만, micro-Raman 분석으로 오염물의 존재와 제거 여부에 대해 명확히 확인할 수 있었다. 이는 ZrVFe 합금 게터가 상온 대기 중에서 보관시간에 따라 나노급 두께의 VOx, FeVOx와 같은 금속 산화물을 형성하며, 이렇게 생성된 Oxide계 오염물은 UVO3를 통해 비교적 간단히 제거할 수 있음을 의미하였다. 따라서 UVO3 크리닝 공정으로 ZrVFe 합금의 표면부 오염층을 효과적으로 제거할 수 있으며, 오염물이 제거된 ZrVFe 합금은 향상된 고순도 H2 가스 정제 기능을 가질 수 있었다.

영어초록

The UVO3 cleaning process was suggested as a pretreatment process to remove surface contamination that occurs when the high-purity H2 refining ZrVFe alloys are stored at room temperature. The change in physical properties due to surface contamination for a storage time of up to 60 days was confirmed by optical microscopy, micro-Raman, and XRD methods. Also, the physical properties before and after the UVO3 cleaning process were compared. The samples were prepared according to the storage time at room temperature, and the UVO3 cleaning was performed on them. For the studied samples, both the optical microscopy images and XRD could not confirm the formation of oxide-based contaminants such as VOx, and FeVOx on the surface and the change in physical properties according to the degree of adsorption contamination of carbon-based materials. However, it was possible to confirm the presence and removal of contaminants by micro-Raman analysis. This confirmation means that the ZrVFe-alloys form nano-thick metal oxides such as VOx, and FeVOx according to the storage time at room temperature, and the oxide-based contaminants can be removed easily through UVO3 cleaning. Therefore, the UVO3 cleaning process can effectively remove the contamination layer on the surface of the ZrVFe-alloy, and the ZrVFe-alloys from which the contamination has been removed have an improved high-purity H2 gas purifying function.

참고자료

· 없음