티타늄 이소프로폭사이드를 이용한 졸-겔법에 의한 TiN 코팅 cBN 분말 합성 (Synthesis of TiN-Coated cBN Powder by Sol-Gel Method Using Titanium (IV) Isopropoxide)

서지정보

· 발행기관 : 한국전기전자재료학회
· 수록지 정보 : 전기전자재료학회논문지 / 33권 / 5호 / 373 ~ 379페이지
· 저자명 : 이윤성, 김선욱, 이영진, 이지선, 신동욱, 김세훈, 김진호

초록

본 연구에서는 졸-겔법과 열처리 온도 조건을 이용하여 cBN 입자 표면에 TiN을 코팅하였다. 졸-겔 공정을 이용하여 cBN 입자 표면에 균일한 TiOx 비정질층을 형성하였고, 95%N2-5%H2 분위기에서 1000~1300℃로 1~6시간 열처리하였다. TiOx 코팅층은 열처리 온도가 증가함에 따라 Ti 이온이 감소하고, 이에따라 TiO2 → Ti6O11 → Ti4O7 → TiN 순서로 상변이가 확인되었다. TiN 코팅층은 1200℃ 열처리 온도부터 관찰되었고, 1300℃에서 주요상이 확인되었다. 1300℃에서 TiN 코팅층의 두께는 45~50 nm로 확인되었다.

영어초록

In this study, TiN-coated cBN (cubic-structure boron nitride) powders were successfully synthesized by a sol-gel method using titanium (IV) isopropoxide (TTIP) and by controlling the heat treatment conditions. After the sol-gel process,amorphous nano-sized TiOx was uniformly coated on the surface of cBN powder particles. The obtained TiOx-coated cBN powders were heated at 1,000~1,300℃ for 1 or 6 h in a flow of 95%N2-5%H2 mixed gas. With increasing temperature, the chemical composition of the TiOx coating layer changed in the order of TiO2→Ti6O11→Ti4O7→TiN due to reduction of the Ti ions. The TiN coating layer was observable in the samples heated at 1,200℃ and appeared as the main phase in the sample heated at 1,300℃. The resulting thickness of the TiN coating layer of the sample heated at 1,300℃ was approximately 45~50 nm.

참고자료

· 없음