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고각 환형 암시야 주사투과전자현미경기법과 투과전자현미경기법을 이용한 상용 청색 발광다이오드의 종합적인 구조분석

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최초등록일 2016.04.02 최종저작일 2015.01
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고각 환형 암시야 주사투과전자현미경기법과 투과전자현미경기법을 이용한 상용 청색 발광다이오드의 종합적인 구조분석
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    서지정보

    · 발행기관 : 한국재료학회
    · 수록지 정보 : 한국재료학회지 / 25권 / 1호
    · 저자명 : 김동엽, 홍순구, 정태훈, 이상헌, 백종협

    목차

    1. 서 론
    2. 실험 방법
    3. 결과 및 고찰
    4. 결 론
    감사의 글
    References

    영어초록

    This study suggested comprehensive structural characterization methods for the commercial blue light emitting diodes(LEDs). By using the Z-contrast intensity profile of Cs-corrected high-angle annular dark field scanning transmission electron microscope(HAADF-STEM) images from a commercial lateral GaN-based blue light emitting diode, we obtained important structural information on the epilayer structure of the LED, which would have beendifficult to obtain by conventional analysis. This method was simple but very powerful to obtain structural and chemical information on epi-structures in a nanometer-scale resolution. One of the examples was that we could determine whether the barrier in the multi-quantum well(MQW) was GaN or InGaN. Plan-view TEM observations were performed from the commercial blue LED to characterize the threading dislocations(TDs) and the related V-pit defects. Each TD observed in the region with the total LED epilayer structure including the MQW showed V-pit defects for almost of TDs independent of the TD types: edge-, screw-, mixed TDs. The total TD density from the region with the total LED epilayer structure including the MQW was about 3.6 × 108 cm−2 with a relative ratio of Edge- : Screw- :Mixed-TD portion as 80%: 7%: 13%. However, in the mesa etched region without the MQW total TD density was about 2.5 × 108 cm−2 with a relative ratio of Edge- : Screw- :Mixed TD portion of 86%: 5%: 9 %. The higher TD density in the total LED epilayer structure implied new generation of TDs mostly from the MQW region.

    참고자료

    · 없음
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