*영* 스토어

*영*

개인

팔로워0 팔로우

소개

등록된 소개글이 없습니다.

전문분야 등록된 전문분야가 없습니다.

판매자 정보

학교정보

입력된 정보가 없습니다.

직장정보

입력된 정보가 없습니다.

자격증

입력된 정보가 없습니다.

판매지수

판매중 자료수

8개
전체 판매량

152개
최근 3개월 판매량

0개
자료후기 점수

평균A
자료문의 응답률

-

전체자료 8개

[갈바니 전지 와 전기 분해] Galvanic cell and Electrolysis ( 갈바니 전지와 전기 분해 )

Galvanic cellIn 1791, a anatomist in Italy , Galvani , recovered that the leg muscles of a dead frog is shrunken by accident during his frog analysis experiment .He belive that bioelectricity exists within living tissue.And then his friend called Volta was a professor as well . After Galvani, he discovered that contact of two different metals with the muscle of a frog resulted in an electric current, Volta began experimenting in 1794 with metals alone and found that animal tissue was not needed to produce a current. His invention and demonstration of the electric battery in 1800 provided the first continuous electric power sourceChemical reaction takes place by transfer of electrons which called ‘ redox reactions ‘When it is properly set up, these reactions generate power in a battery or galvanic cell.A galvanic cell consists of at least two half cells, a reduction cell and an oxidation cell .Chemical reactions in the two half cells provide the energy for the galvanic cell operations.Band a reductant is a reducing agent.Glavanic cell is vary basic knowledge for electrochemistry .Each half cell consists of an electrode and an electrolyte solution. Usually the solution contains ions derived from the electrode by oxidation or reduction reaction.A galvanic cell is also called a voltaic cell. The spontaneous reactions in it provide the electric energy or current.We will make this introduction using a typical setup .The picture shows a copper zinc galvanic cellWhen a stick of zinc (Zn) is put in a salt solution, Zn is more likely to loose electron than H according to ‘ ionization tendency ‘Zn = Zn2+ + 2 e-.The part of a Zn electrode in a solution containing Zn2+ ions is a half cell,Zinc metal and Zn2+ ion form a redox couple, Zn2+ being the oxidant, and Zn the reductant..Similarly, when a stick of copper (Cu) is put in a copper salt solution, there is also a tendency for Cu to loose electron according to the reaction,Cu = Cu2+ + 2 e-.This is another half cell .However, th = [Cu2+] = 1.0 M,the voltage between the two terminals is measured to be 1.1 V for this battery.A battery is a package of one or more galvanic cells used for the production and storage of electric energy. The simplest battery consists of two half cells, a reduction half cell and an oxidation half cell.The overall reaction of the galvanic cell isZn + Cu2+ = Zn2+ + CuNote that this redox reaction does not involve oxygen at all. For a review, note the following:Oxidant + n e- = Reductant Example: Cu2+ + 2 e = CuCu2+ is the oxidizing agent and Cu the reducing agent.Reductant = n e- + Oxidant Example: Zn = Zn2+ + 2 e-.Zn is the reducing agent, and Zn2+ the oxidizing agent.any redox couple may form a half cell, and any two half cells may combine to give a battery, but we have a technical difficulty in making some couples into a half cell. HYPERLINK "http://www.science.uwaterloo.ca/~cchieh/cact/c123/balance.html" t "BODY" Balance Redox Equations is a complicated task, but the use of half res in the formation of also definite amounts of products. The number (n) of electrons in such a reaction equation, is related to the amount of charge trnasferred when the reaction is completed. Since each mole of electron has a charge of 96485 C (known as the Faraday's constant, F),q = n Fand,G = - n F EAt standard conditions, The energy G is the electric work of the reaction. Therefore,Go = n F Eo.The difference of Gibb's free energy (Go) between products and reactants equals to the charge n F times the potential difference Eo. Since n electrons are transferred in the equation, n F is the charge involved for the equation in terms of moles.The equilibrium constant K is related to Go,Go = - R T ln K.For the reaction,a A + b B = c C + d D< Nernst Equation >Electrochemistry deals with cell potential as well as energy of chemical reactions. The energy of a chemical system drives the charges to move, and the driving force give rise to the cell potential of a system called galvanic ceonstantQ - charge, unit coulomb (C)I = Q / t, current AmpereR = 8.3145 J/mole.K, gas constantT - temperature in Kln(10) R T / F = 0.0592 at 298 KElectrolysisprinciple of electrolysis – opposite way with chemical cellthe cathode (-) – deoxidation (gain the electron)the anode(+) – oxidation (loss the electron)difficult ion to electric discharge(+)ion - Li+, Na+, Ba2+, NH4+▷ H2 is created by discharge of H+(-)ion – plural negative ion , SO42-, NO3-, CO32-▷ O2 is created by discharge of OH-electrolysis of waterelectrolysis of various materialNaCl aqueous solutionNaCl → Na+ + Cl-, H2O → H+ + OH-the anode(+) 2Cl- → Cl2 + 2e- (oxidation)the cathode(-) 2H2O + 2e- → H2↑ + 2OH- (deoxidation)▷ Na+ is hard to discharge so that OH- and H2 is made.NaCl aqueous solutionNaCl → Na+ + Cl-the anode (+) 2Cl- → Cl2↑ + 2e- (oxidation )the cathode (-) 2Na+ + 2e- → 2Na (deoxidation )NaCl electrolysis of aqueous solutionCuSO4 aqueous solutionCuSO4 → Cu2+ + SO42-, H2O → H+ + OH-(+)극 H2O → ½O2↑ + 2H+ + 2e- (oxid.

공학/기술| 2004.07.03| 10페이지| 1,000원| 조회(1,012)

전지, 전기분해, 갈바니 전지, Galvanic cell, Electrolysi..

미리보기

닫기
패러데이 법칙 평가A좋아요

{1법칙 전기분해 법칙전해질용액을 전기분해할 때1 전극에서 석출하는 물질의 질량은 용액을 통과한 전기량과 물질의 원자량에 비례하고, 그 물질의 원자값에 반비례한다.2 1g당량의 물질을 석출시키는 데 필요한 전기량은 물질의 종류에 관계없이 일정한 값을 지닌다. 즉 전기분해에 의해 분해되는 물질의 양은 전극의 형태나 물질의 종류 ·농도 등에 관계없이 그 물질의 원자론적 성질(원자량 ·원자가)만으로 결정된다는 것을 나타낸다. 전기화학의 기초법칙일 뿐만 아니라, 이것과 아보가드로의 법칙을 연결시킴으로써 물질의 원자구조와 관련해서 전기량에도 최소 단위(기본전하량)가 존재한다는 것이 처음으로 예측되었다.3 1g당량의 물질을 석출시키는 전기량을 패러데이상수, 1C(쿨롬)의 전기량에 의해 석출되는 물질의 양을 그 물질의 전기화학당량이라 한다.{전기분해 : 소금물이나 산이 있는 물에 전류를 흘리면 전기가 통하여 소금이나 산이 분리되며 +극과 -극에 각 각 생성물이 석출되는 것전해질 : 전기분해가 이루어지는 물질 (NaCl, H₂SO₄, AgNO₃등)비전해질 : 전기분해가 이루어지지않는 물질 (설탕, 알코올 등)산은 전리되어 H+(수소이온)을 가지며 알칼리는 OH-(수산이온)을 갖는다{2법칙 전자기유도 법칙코일과 자석을 이용한 여러 가지 실험으로 자석과 코일을 움직여 처음으로 회로에 전류가 흐르게 하였다.{그림과 같이 코일을 고정시키고 자석을 움직이거나 자석을 고정시키고 코일을 움직이면 전류가 발생하여 검류계의 바늘이 움직이게 된다.1 코일과 자석이 상대적 운동 : 전류가 발생한다.2 코일과 자석이 상대적 정지 : 전류가안 흐른다.3 자석이 코일에 가까이 올 때와 멀어질 때 또는 자석의 극을 바꾸면 유도되는 전류의 방향이 달라진다.이와 같이 코일과 자석 사이의 상대적인 운동으로 전류가 유도되는 현상을 전자기 유도 (electromagnetic induction)이라 하고 코일 양단에 발생된 기전력을 유도 기전력이라 한다. 코일의 회로가 닫힌 경우에는 유도 기전력에 의해 전류가 흐르게 되며 이것을 유도 전류라고 한다.

공학/기술| 2001.09.25| 1페이지| 1,000원| 조회(2,577)

패러데이, 전기분해, 법칙, 전자기 유도, Faraday

미리보기

닫기
표면처리 종류 평가B괜찮아요

A:이온 주입 ( Ion Implantation )이온주입은 선택된 원소를 고진공 중에서 가스 또는 고체상태로부터 이온화시키고, 이를 가속시켜 재료의 표면에 투사시켜 강제로 피처리물의 표면층에 주입시키는 새로운 진공 처리기술이다. 이 방법은 다양한 화학적 조성과 조직을 가진 새로운 합금 표면층을 만들 수가 있다. 이렇게 표면개질 처리된 재료는 표면에 민간한 각종특성인 내마모성, 내부식성, 내산화성 또는 내피로성 등을 크게 개선시킬 수가 있다. 고도의 반복생산이 가능하여 반도체의 부품생산에 최근 널리 이용되고 있는 실정이다.D:알류미늄 양극산화(anodizing of Al)일반적으로 알루미늄의 양극처리가 대부분을 차지하고 있으므로 알루미늄의 양극산화를 말하기도 한다.이를 anodizing라고도 부르며 알루미늄 물품을 전해액에서 양극으로 하고 전기를 통하면 양극에 발생하는 산소에 의해서 알루미늄면이 산화되어 산화알루미늄 피막이 생기게 된다. 이 피막은 대단히 강하며 내식성이 크고 매우 적은 전도성의 섬유상이 되어 여러 가지 색으로 염색을 할 수 있다.이러한 알루미늄의 애노다이징은 일용 취사도구에서부터 건축자재, 전기통신기기, 광학기기. 장식품, 기계부분품, 자동차부분품등에 사용된다.E:침탄법(low temperature caburizing)침탄법은 강의 표면에 탄소(Carbon)을 침투시키는 방법이다. 철강 부품중 고경도 표면이 요구되는 경우 고탄소강을 사용하면 취성이 강하여 파손이 쉽게 일어나므로 인성이 큰 저탄소강의 표면에 탄소 혹은 질소 등을 침투시켜 탄화물 또는 질화물층을 형성시키거나 강 표면만을 웅칭처리하여 고경도 표면층을 형성하는 데, 이러한 표면처리를 강의 표면경화처리라고 부른다. 강은 일반적으로 탄소 함유량을 증가시켜 고탄소강을 만들면 철-탄화물이 형성되어 경화되는데, 침탄법은 이 원리를 이용하여 고온도 분위기에서 강부재 표면층에 탄소를 침투시켜 탄화물을 형성시키는 방법이다.G:경질 양극산화피막(Hard Anodizing)알루미늄 금속의 표면상에 전기화학적 전해(Electrolytic)방법을 이용하여 산화알루미늄 Al₂O₃)의 층을 형성시켜 알루미늄 표면의 경도, 내식성, 내마모성, 전기적, 절연성 등 기능적인 특성을 극대화하여 주는 방법.목적경질 양극산화피막은 기능성 피막처리로써 원래의 알루미늄 금속 표면에 경질 양극산화피막 처리를 행하여, 그 기능성이나 특성을 증가시키는데 목적이 있으며, 알루미늄이 가지고 있는 연성을 보강함과 동시에 금속이 가지고 있는 취약한 결함을 보완하여 공업화하는데 그 목적이 있음.J:GA(galvannealing)용융 아연도금 생산시 도금층을 응고 직전에 재가열(500~550℃)하여 표면에 spangle대신 회백색의 Fe+Zn합금층을 형성한 제품으로 소지철과 아연이 열에 의해 확산 합금화된 도금층을 가져 내식성을 확보하므로서 용융아연도금강판에 비해 용접성 및 도장성이 우수하며, 도금층 Fe성분에 의해 도장 후 내식성이 특히 우수하다.가전제품, 자동차 내.외판, 머플러, 건축자재 창틀, Door Panel, 연료탱크 등에 사용된다.K:크롬주입(chromating)크로메이트처리 종류는 반응형과 도포형으로 나눌 수 있다. 반응형은 말 그대로 크로메이트 용액이 강판 표면과 화학적 반응을 일으키는 것을 말한다. 크로메이트 용액에 특정한 첨가제를 첨가함으로써, 극표층의 방식 산화피막을 에칭하고, 그 아래의 도금층 표면이 크로메이트 용액과 반응할 수 있도록 구성되어 있다. 주로 Spray and Squeeze 방식을 적용하며, 적정온도 이상에서 가열된 공기로 건조한다. 도포형은 Applicator Roll이 강판 표면과 접촉하여 Coating하는 방법이다. 반응형에 비해 부착량 조절이 용이하며 반응은 건조과정 도중에 일어나며, 건조온도는 크게 구애를 받지 않는다.L:인산염피막(phosphating)인산염피막은 금속을 비금속성과 비전도성을 갖는 새로운 표면을 만드는 것이다. 즉 철강, 알루미늄, 아연, 카드뮴과 그 합금들의 금속상에 인산금속염의 무기결정체나 무정형의 피막을 만드는 것을 말하며, 일명 파카라이징 혹은 본데라이징 (미 +Amchem사의 상품명)이라고도 한다. 처리방법이 간편하고 설비도 간단한 인산염피막처리는 생산비용도 저렴하여 경제적인 철강상의 도장전처리이다. 인산염피막처리의 용도는 미국과 일본에서 도장의 하지용으로 약 65%이상 압도적으로 많고 독일에서는 금속냉간소성 변형가공용으로 많이 채용하고 있다. 그외에 전기절연용, 방식용, 내마모용, 방산제품 플라스틱 라미네이트하지와 금속용사의 전처리로 그 활용이 다양하다.M:플라즈마 CVD(plasma CVD)저온에서 박막을 형성시키기 위해 플라즈마를 이용하는 저온 감압기상반응 방식인데 플라즈마를 이용하여 반응가스를 활성화시켜 통상 가열된 기판상에 박막을 형성시키는 방법이다. 열 CVD에서는 고온으로 인해 변형 및 적용 소재의 제한 등의 문제를 가지고 있고, PVD는 밀착력 및 소재 형상에 제약이 있다. 플라즈마 CVD 이 두 가지의 장단점을 절충 및 조화시켜 비교적 저온에서 밀착성이 좋은 박막을 얻고자 최근에 금형 및 공구 등에의 적용이 활발히 시도되고 있다.N:스파터링(sputtering)고체의 표면에 고에너지의 입자를 충돌시키면 target 물질의 원자가완전탄성 충돌에 의해 운동량을 교환하여 표면에서 밖으로 튀어나오게 된다.이러한 현상을 물리학에서 “sputtering”이라고말한다. 이러한 Sputtering 현상을 이용하여 wafer 표면에 금속막, 절연막 등을형성한다. 1∼100Pa 정도의 압력에서 글로우방전에 의해 아르곤 가스 등을 이온화시켜 타겟트(Target)에 충돌시킴으로서 원자(입자)를 튀어나게 하고 기판상에 흡착시켜 박막을 형성시키는 방법이다. 이는target 원자의 방출과 그 원자의substrate에의 부착이라는 2가지 과정을 포함하는 개념으로 볼 수 있다.O:이온 플레이팅(Ion plating)이온 도금방법은 PVD중 최근 개발된 진공코팅기술로서 먼저 진공실내에서 피처리물을 기관에 부착하고 고진공으로 배기시킨다. 적절한 온도로 피처리물을 가열시킨 후 아르곤가스를 진공 실내로 불어넣어 글로우 방전을 시켜 아르곤가스를 이온화시킨다. 이온화된 가스이온을 피처리물 표면에 부딪게 하여, 이온충돌현상을 일으켜 표면의 산화막을 제거시킨다. 한편으로, 전자빔을 코팅시킬 금속에 충돌시켜 코팅물질을 이온화시킨다. . 반응 시 생긴 증발상의 금속화합물이 피처리물 표면 증착되어 결정생성 및 성장을 하게 되어 초경박막이 형성된다.

공학/기술| 2001.09.20| 3페이지| 1,000원| 조회(3,069)

금속, 표면, 표면처리, 표면공학

미리보기

닫기
탄소강의 현미경 조직 관찰 평가A좋아요

{실험의 목적금속 시편을 채취하여 연마방법에 의해 평탄하게 연마하고 전자 현미경으로 그 조직을 관찰함으로써 패라이트 또는 펄라이트가 차지하는 면적으로 철의 탄소량을 추정해보고 조직의 기계적성질(인장강도 신율, 충격치)등과의 관계를 연구한다.{실험전 예비지식실험의 전체적인 순서는 절단→마운팅→정밀연마→광택연마(polishing)→부식→현미경관찰→사진찰영 순으로 한다.{실험 준비물탄소강 쇠톱, 그라인더, 마운팅 press, 연마지(#100-#2000), 연마기, 부식액, 금속현미경, 시편평압기 등{실험 방법 및순서1.시편의 채취1검사 목적에 따라 재료의 알맞은 부분을 채취하여야 하며 채취한 시편이 재료의 전체를 대표할 수 있어야 한다. 예를 들어 결함의 원인 규명을 위하여는 결함 부위를 채취하고 압연 및 단조 가공을 한 재료는 횡,종단면을 채취하여 조사하여야 한다. 여기서 한 실험목적은 조직 관찰이다..2미세한 시편은 정밀절단기 를 이용하는데 다이아몬드 휠을 저속,고속으로 회전시켜 재료를 깨끗하 게절단하는기계이다.하지만 탄소강같이 경도가 높지않은 재료는 보통 쓰이고 있는 쇠톱을 이용한다.3절단후 줄 또는 그라인더를 이용하여 가장자리의 각진 부위를 둥글게 하여주고 마지막에 잘라진 부 위에 남아 있는 절단편은 반드시 제거 해준다.4절단시에 국부적인 가열로 인한 조직의 변질되는걸 방지하기 위해 비눗물로 냉각,윤활시키며 절단 하면 더욱 좋다.2. 마운팅(mounting)1시료를 잘 연마하기 위해서는 시료가 잘 잡히도록 해 주여야 하는데 이를 위해 마운팅을 한다.또한 시편을 연마시 가장자리 보호에도 한몫한다2마운팅에는 성형기 의 열 및 압축을 이요하는 방법과 상온경화의 방법 두가지가 있는데.이중 수지 를 이용한 상온 경화법을 선택한다.{{3상온경화는 금속재료중에서도 경도가 아주 높지 않은 시료나 열이나 압력에 약한 시료에 적합하다. 또한 육안으로 보면서 주지를 틀속에 주입하므로마운팅높이의조 절도 용이한 장점이다.4상온 경화는 아크릴 에폭시, 폴리에스티수지등의 다양한 수지와시간은 수지와 경화제 양에 따라 5분에서 8시 간까지 걸리는데 나의 경우는 15분정도 소요됐다. 마운팅 프레스 를이용했다3. 연마1조연마(rough grinding)-절단시 열에 의하여 변형되 조직 및 산화잔류물 등을 제거하며 시편의 표면을 평활하게 만드는 작업이다2정밀연마(fine gringing)1연마 방법은 기계적 연마를 가장 많이 이용한다.광택연마에 앞서 표면의 거칠기를 일정하게 해주 는 단계이다.2정밀연마는 실리콘 카바이드 연마지(SiC)를 가장 많이 사용하는데 여기에서는 #100번부터 2000번 까지의 연마지를 사용하였다.연마지의 뒷면에 표시된 숫자가 작을수록 거친것이며,거칠은연마지로 부터 순차적으로 고운 연마지로 연마한다3바닥이 평탄한 곳에놓고 연마하는데 굉장히 중요한 과정이므로 주의 사항은 다음과 같다i)시편을 손으로 잡고 몸쪽에서 먼쪽으로 한방향으로 밀면서 연마한다. 일정방향으로 연마하되 다 음 연마지로 넘어갈때는 시편의 방향을 90도 바꾸어서 이전과 직각방향으로 연마한다.계속해서 이전의 스크래치가 없어진 것을 확인하고 다음 연마지로 넘어간다.(참고) 알루미늄같은 연질 재료는 시편의 90도가 아닌 30-45도 각도로 하는 것이 빠르다ii)시편에 무리한 힘을 가하지 않는 것이다 거친 연마에서 시편이 빨리 닿기 때문에 무리한 힘을 가 하면 연마면이 평활하게 되지 않는다 시편을 누르는 압력이 너무 강하면 시편 표면온도가 너무 많이 상승하거나 변형량이 많이진다 또한 연마 시간이 너무 길면 표면에 굴록이 생길 우려가 있 다.굵은 연마지로 장시간 하는 것은 아무 의미가 없다 가는 직경의 연마지에서 시간을 길게하는 게 효율적이다iii)연마지에서 다음연마지로 갈 때 시편의 연마분을 잘 씻어 내어 다음의 연마에 절대로 옮아가지 않게 한다iv)기계연마시에는 마찰열에 의하여 조직이 변화되기 쉬우므로 반드시 물을 흘려가면서 연마하여야 한다 그러나 냉각수의 양이 너무 많을 경우 수막 현상에 의해 시편의 연마에 영향을 주므로 적당 한 양을 공급해야 한다.4. 광택연마(거하여 경면상태로 만드는 작업이다. 또한 정밀 연마에서 남은 시편 내부의 변형층을 제거하는 작업이기도 하다.버프(buff)라고도 하는 데 연마기에서 연마재의 현탁액을 떨어뜨리면서 연마한다.2연마포를 평평하게 씌워 놓은 회전판 위에 산화크롬이나 아류미나의 {미분을 물에 섞은 연마액을 몇방울씩 떨어뜨리면서 실시한다.연마기의 회전 속 도는 150-200 게ㅡ정도가 적당하고 연마 효율을 높이기 위해 압력을 적절히 조 절하여야 한다. 취약한 재료는 회전속도를 천천히 하는게 좋고 경한 재료는 회 전속도를 빠르게 하는게 좋다.3연마방향은 회전판의 원주방향과 최종 거친 연마 방향이 직각이 되게하여 앞 의 연마지의 스프래치가 완전히 소멸될 때까지 연마한다. 연마후 드라이로 건조 시키고 부식에 들어간다.나의 경우는 2시간 정도의 시간이 소요되었음5. 부식(etching)1광택연마가 끝나면 현미경으로 관찰할 수 있는 단계에 오게 되는 데. 부식하지 않은 연마면에서는 모 상과 색이 다른 상이라든지,또는 비금속 개재물이 혼입되어 있는 경우 이외에는 아무런 조직도 볼 수 없다. 연마된 표면은 조직을 나타내지 않고 그 그곳에 빛이 다다르면 거의 균일하게 반사된 다 조직 내의 결정의 미세한 조직에 콘트라스트를 주지 않으면 안된다. 이 콘트라스트를 즈는 것 을 금속조직학에서 는 부식 이라고 하며 화확적반응에서의 표면이 녹아나가는 부식(corrosion)과는 의미가 같지 않다.2부식 방법에는 광학적 부식,전기화확적 부식, 물리적 부식이 있는데 여기에선 전기화학적 부식의 방 법을 선택했다.이것은 통상가장 많이 쓰이고 있는 방법으로 원리는 전위가 높은 상이 양극이 되어 부식액 중에 용해되며, 전위가 낮은 상온 음극이 되어 큰 변화를 일으키지 않는 다 그러므로 전위 차가 큰 상들로 이루어진 시료는 부식되기 쉬우나 고용체와 같이 단상인 경우는 부식이 진행되기 어렵다.3연마면을 부식시키면 결정입계, 상의 경계, 상의 종류, 결정방향 등이 부식 정도에 따라 다르게 나 타나므로 조직을 관찰할 수 있게 된러 가지 부식액이 있으므로 적당한 부식액을 선택하여야 한다.4부식 시간은 시약의 종류와 시편의 재질 및 조직에 따라 다르므로 부식시간이 불명확한 경우는 부 식중에 시료의 표면을 관찰하면서 부식을 진행시킨다..이실험에서는 처음에 5초간을 부식액에 담그 었다가 상을 본후..다시 1초간의 간격으로 부식을 시킨 결과 7초간 부식을 시켰다.5적당하게 부식이 되면 흐르는 물에 세척하고 전용의 드라이어로 건조 시킨다..조직관찰은 건조시킨 직후 진행되어야 한다.6.현미경 조직 관찰{{{{1)광학현미경은 금속의 미세조직 관찰에 있어서 가장 중요 한 도구로 대부분의 금속의 미세조직의 관찰이 가능하 다. 관찰을 위해서는 시료의 표면상태가 광택연마또는 부식된 상태이여야 한다. 조직 관찰에는 고배율(*100배 이상) 현미경으로 관찰하는 방법을 선택한다.2)시편을 시편에 올려 놓을 때에는 시편이 광축에 똑바로 수직이 되게 하기 위햐여 평압기를 사용한다.시편을 시 편대 위에 올려 놓은 후에는 다음의 조작에 의하여조직을관찰한다. 1slide판상에 부착된 유점토 위에 시편을 놓고시료 평압기로 가볍게 눌러서 관찰할 면이 slide판과 평행하게 한다.2 시료를 고정시킨 slide판을 현미경 stage위에 둔다. 접안 렌즈를 뽑아내고 그 속(현미경 원통)을 들 여다 보면서 plane glass의 밝기가 균일하게 (원을 이루면서) 되도록 광원의 위치와 plane glass의 회전을 조정한다. 밝기가 균일하고(원을 이루고) 또 중심부에 밝은 부분이 위치하는가를 확인하기 위해서는 시야조리개와 밝기조리개를 조절해 본다. 완전할 경우, 접안렌즈를 다시 끼우고 저배율(대 물렌즈를 최저 배율로 함)에서 대체적인 초점을 맞춘다.접안렌즈를 통하여 시편을 보면서, 시야조리개를 조정하여 바로 시야를 꽉 메울때까지 조리개를 넓 히고, 밝기도 너무 어둡지 않을 정도로 밝기조리개로 조절한다.3 초점조정은 대물렌즈와 시료가 서로 닿지 않게 주의하면서 아래순서로 행한다. : 우선, 저배율 대물 렌즈를 사용한다. 육안으로면서, 조동손잡이(coarse knob)를 회전시켜 시편이 대물렌즈에서 떨어지게 하면서 대강 초 점을 맞추고 미동손잡이(fine knob)로 정확히 초점을 맞춘다. 고배울에서 관찰할 경우에는, 일단 저 배율에서 초점이 맞추어진 상태에서 대물렌즈의 변환기를 회전시켜 고배율의 대물렌즈로 바꾸고 미 동손잡이로만 초점을 맞춘다. 초점이 맞으면 밝기와 시야의 크기를 밝기조리개와 시야조리개로 조절 한다.1,000배 이상의 고배율에서 관찰할 경우에는 유침계 렌즈를 사용한다. 이 때 시료와 렌즈의 사이에 유를 채운다.4 현미경의 관찰배율은 우선 200-500배가 좋다. 너무높은 배율로 관찰하면 조직의 전체적인 특징을 잘 모르고 국부적으로만 관찰하게 된다. 따라서 처음에 저배율에서 시작하여, 고배율로 필요한 국소를 찾아 관찰하는 것이 순서이다.관찰된 조직에는 반드시 배율을 기록하도록 한다. 배율은 대물렌즈의 배율에 접안렌즈의 배율을 곱 한 값과 같다. (단, 카메라로 촬영할 경우에는 이상의 배율에 사용한 카메라 자체의 배율상수를 더 곱해야 한다. 가장 정확한 방법은 이미 눈금을 알고 있는 micro ruler를 사용하여 각 배율 조합하에 서 촬영한 시간으로부터 환산하는 것이다.)5 렌즈의 분해능은 시료중의 2점을 보고 구분할 수 있는 최단거리로(ε), 광의 침장을 λ, 렌즈의 개구 수(대물렌즈에 부기되어 있음)을 N.A라고 하면 ε=0.61λ/N.A의 관계에 있다.광학현미경에서는 렌즈계(주로 대물렌즈의 N.A)를 적절히 선택하므로서 0.25μ(유침계 렌즈) 0.5μ( (건조계 렌즈) 정도까지의 미세조직을 식별할 수 있다. 현미경 배율은 렌즈의 개구수(N.A)의 500∼1, 1000배로 택함이 바람직하다.6나의 경우에는 *500배율 3장과 *1000 1장을 찍었다.주로 팰라이트 조직(지문처럼 생긴 무늬)이 많이 보이는 곳을 중심으로 찍었으며 *1000의 배율로 찾았다가 찍을땐 *500으로 찍었다.시편의 평탄이 잘 되지 않았는지.움직이는 곳마다 초점을 다시 맞추어야 하는 어려움이를 연다

공학/기술| 2001.06.16| 6페이지| 1,000원| 조회(4,283)

현미경, 실험, 탄소강, 조직관찰

미리보기

닫기
나이론 합성 평가B괜찮아요

실험목적고분자는 저분자량의 수많은 단위들이 공유결합으로 연결되어 이루어진 고분자량의 물질을 말한다. 이 최초의 고분자인 나이론을 디아민과 디카르복시산의 축압반응에 의해서 합성하여 보고 고분자의 특성을 확인한다.실험준비물기구-비커(250㎖), 눈금피펫(5㎖).핏셋 저울 진공펌프.유리막대.오븐시약-헥사메틸렌디아민. 염화세비코일. 다이클로로메탄 또는 사염화탄소.페놀프탈레인.메탄 올.수산화나트륨실험이론고분자란 수많은 저분자량 단위들이 화학결합으로 연결되어 이루어진 분자량 10,000이상의 물질을 말한다. 작은 분자들이 반복적으로 합쳐져서 고분자를 형성하는 과정을 중합반응이라고 하며 작은 분자들을 단량체라고 한다.단량체들이 결합시에 물이나 알코올과 같은 작은분자가 제거되는 고분자 형성반응을 축합중합이라 하며, 전형적인 축합중합 고분자의 일종이 폴리아미드, 즉 나일론이다.염화세바코일과 헥사메틸렌디아민은 실온에서도 다음과 같이 반응하므로 실험실에서도 쉽게 합성할 수 있다. 식을 써보면헥사메틸렌디아민은 물에 그리고 염화세바코일은 물과 섞이지 않은 용매에 녹여 접촉시킴으로써, 두 용액의 계면에서 중합반응이 일어나게 된다. 따라서 이러한 중합반응을 계면중합이라고 한다. 이 계면에서 생긴 중합체(나일론)의 필름을 집게로 집어 올리면 필름이 제거됨과 동시에 그 자리에 새로운 중합체가 계속 생성되게 되는 연속반응으로 인하여 끈이나 실 모양의 고분자중합체를 만들 수 있다.실험 방법① 사염화탄소 50ml가 들어있는 250ml비커에 염화세바코일 1ml를 눈금피펫으로 취하여 용 해시킨다.② 100ml 비이커에 50ml증류수를 담고 헥사메틸렌디아민 2.3g과 수산화나트륨 0.4g을 용해 시킨다.여기에 색깔을 구분하기 위해 페놀프탈레인 2-3방울을 떨어뜨린다.③이 용액을 염화세바코일 용액이 담긴 비커의 기벽을 따라 서서히 부어넣는다.(두 용액이 섞이지 않고 층을 형성할 수 있게 매우 천천히 부어야 한다.)④ 나일론 필름이 위 두 용액이 접촉되는 계면에서 생길 것이다. 생성된 나일론 필름을 핀 셋으로 조심스럽게 끌어올려 유리막대에 감는다.⑤ 유리막대를 돌려 계면에 생성된 필름을 비커로부터 끌어올리면, 계면에서 계속 중합체가 생성되므로 계속 이어지는 나일론끈을 얻을 수 있다⑤ 중합체가 더 이상 생성되지 않을 때까지 유리막대로 나일론 끈을 감아올린다.⑥ 생성된 나일론 끈을 아세톤과 물의 1:1 수용액으로 씻는다⑦ 핀셋으로 다 올리지 못한 남은 부분은 수압의 차이를 이용하여 걸러주며 물기를 완전히 뺀다⑧ 이것을 100℃ 이하의 오븐에서 물기가 완전히 없어질때까지 말린다.⑨ 이것을 100℃ 이하의 오븐에서 말린 후 중합체의 무게를 측정한다.주의 사항① 염화세바코일은 독성이 있으므로 증기의 흡입 또는 피부와의 접촉을 피해야한다.② 합성한 나일론을 충분히 씻어주기 전에는 손으로 직접 만지지 않도록 한다.③ 용액을 서로 섞을 때 매우 천천히 비커 벽면을 따라서 흘러주어야 한다.나이론끈이 연결 되지 않고 끊어질 염려가 있다.결과결과1. 중합 반응헥사메틸렌다이아민2.3 g0.0198mol염화 세바코일1.121 g0.0047mol수산화 나트륨0.4 g0.01mol나일론의 이론적 생산량1.33 g실험에서의 수득량5.43 g수득률408 %나일론의 녹는점。C문헌값

자연과학| 2001.07.17| 3페이지| 1,000원| 조회(1,249)

나이론, 합성, 610, 나이론6, 나이론 610

미리보기

닫기